JP2013156801A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013156801A5
JP2013156801A5 JP2012016266A JP2012016266A JP2013156801A5 JP 2013156801 A5 JP2013156801 A5 JP 2013156801A5 JP 2012016266 A JP2012016266 A JP 2012016266A JP 2012016266 A JP2012016266 A JP 2012016266A JP 2013156801 A5 JP2013156801 A5 JP 2013156801A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flow rate
gas
pressure
control unit
flow
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012016266A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2013156801A (ja
JP5754853B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2012016266A external-priority patent/JP5754853B2/ja
Priority to JP2012016266A priority Critical patent/JP5754853B2/ja
Priority to US14/375,758 priority patent/US20140373935A1/en
Priority to CN201280068410.9A priority patent/CN104081304B/zh
Priority to PCT/JP2012/006626 priority patent/WO2013114486A1/ja
Priority to KR1020147018214A priority patent/KR101677971B1/ko
Priority to TW101140130A priority patent/TWI505386B/zh
Publication of JP2013156801A publication Critical patent/JP2013156801A/ja
Publication of JP2013156801A5 publication Critical patent/JP2013156801A5/ja
Publication of JP5754853B2 publication Critical patent/JP5754853B2/ja
Application granted granted Critical
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

JP2012016266A 2012-01-30 2012-01-30 半導体製造装置のガス分流供給装置 Active JP5754853B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012016266A JP5754853B2 (ja) 2012-01-30 2012-01-30 半導体製造装置のガス分流供給装置
KR1020147018214A KR101677971B1 (ko) 2012-01-30 2012-10-17 반도체 제조 장치의 가스 분류 공급 장치
CN201280068410.9A CN104081304B (zh) 2012-01-30 2012-10-17 半导体制造装置的气体分流供给装置
PCT/JP2012/006626 WO2013114486A1 (ja) 2012-01-30 2012-10-17 半導体製造装置のガス分流供給装置
US14/375,758 US20140373935A1 (en) 2012-01-30 2012-10-17 Gas branched flow supplying apparatus for semiconductor manufacturing equipment
TW101140130A TWI505386B (zh) 2012-01-30 2012-10-30 And a gas shunt supply device for a semiconductor manufacturing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012016266A JP5754853B2 (ja) 2012-01-30 2012-01-30 半導体製造装置のガス分流供給装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013156801A JP2013156801A (ja) 2013-08-15
JP2013156801A5 true JP2013156801A5 (https=) 2014-12-18
JP5754853B2 JP5754853B2 (ja) 2015-07-29

Family

ID=48904576

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012016266A Active JP5754853B2 (ja) 2012-01-30 2012-01-30 半導体製造装置のガス分流供給装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20140373935A1 (https=)
JP (1) JP5754853B2 (https=)
KR (1) KR101677971B1 (https=)
CN (1) CN104081304B (https=)
TW (1) TWI505386B (https=)
WO (1) WO2013114486A1 (https=)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6246606B2 (ja) * 2014-01-31 2017-12-13 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置
CN105551995A (zh) * 2014-10-30 2016-05-04 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种真空腔室的充气气路及半导体加工设备
US20160363500A1 (en) * 2015-01-23 2016-12-15 Innovative Pressure Testing, Llc System and method for improving pressure test efficiency
JP6516666B2 (ja) * 2015-04-08 2019-05-22 東京エレクトロン株式会社 ガス供給制御方法
US9904299B2 (en) * 2015-04-08 2018-02-27 Tokyo Electron Limited Gas supply control method
US10768641B2 (en) * 2015-08-26 2020-09-08 Fujikin Incorporated Flow dividing system
JP6748586B2 (ja) * 2016-07-11 2020-09-02 東京エレクトロン株式会社 ガス供給システム、基板処理システム及びガス供給方法
CN106155120A (zh) * 2016-09-08 2016-11-23 中国航空工业集团公司西安飞机设计研究所 一种多路流量分配方法及多路流量分配系统
JP7245600B2 (ja) * 2016-12-15 2023-03-24 株式会社堀場エステック 流量制御装置、及び、流量制御装置用プログラム
WO2018147354A1 (ja) * 2017-02-10 2018-08-16 株式会社フジキン 流量測定方法および流量測定装置
WO2018235900A1 (ja) * 2017-06-22 2018-12-27 株式会社フジキン 流量制御装置および流量制御装置の流量制御方法
JP7164938B2 (ja) * 2017-07-31 2022-11-02 株式会社堀場エステック 流量制御装置、流量制御方法、及び、流量制御装置用プログラム
JP7208634B2 (ja) * 2017-07-31 2023-01-19 株式会社フジキン 流体制御システムおよび流量測定方法
JP7157476B2 (ja) * 2018-04-27 2022-10-20 株式会社フジキン 流量制御方法および流量制御装置
CN111986971B (zh) * 2019-05-23 2024-05-17 北京北方华创微电子装备有限公司 微波源进气装置及半导体工艺设备
CN112460608B (zh) * 2020-11-27 2022-09-16 潮州深能环保有限公司 一种垃圾焚烧发电厂污泥管道输送系统及其输送方法
CN113857147A (zh) * 2021-09-13 2021-12-31 安徽万维克林精密装备有限公司 一种多功能自动吹扫装置
JP7665482B2 (ja) * 2021-09-24 2025-04-21 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理システム、及び群管理装置

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3025395B2 (ja) * 1993-07-12 2000-03-27 株式会社山武 流量制御弁装置
JP3291161B2 (ja) * 1995-06-12 2002-06-10 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
US5865205A (en) * 1997-04-17 1999-02-02 Applied Materials, Inc. Dynamic gas flow controller
JP3586075B2 (ja) * 1997-08-15 2004-11-10 忠弘 大見 圧力式流量制御装置
JPH11212653A (ja) * 1998-01-21 1999-08-06 Fujikin Inc 流体供給装置
JP3522535B2 (ja) * 1998-05-29 2004-04-26 忠弘 大見 圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備
KR100348853B1 (ko) * 1998-08-24 2002-08-17 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량제어장치에 있어서의 막힘 검출방법 및 그검출장치
KR100427563B1 (ko) * 1999-04-16 2004-04-27 가부시키가이샤 후지킨 병렬분류형 유체공급장치와, 이것에 사용하는 유체가변형압력식 유량제어방법 및 유체가변형 압력식 유량제어장치
JP3626874B2 (ja) 1999-04-16 2005-03-09 忠弘 大見 並列分流型の流体供給装置
US6210482B1 (en) * 1999-04-22 2001-04-03 Fujikin Incorporated Apparatus for feeding gases for use in semiconductor manufacturing
US6119710A (en) * 1999-05-26 2000-09-19 Cyber Instrument Technologies Llc Method for wide range gas flow system with real time flow measurement and correction
US6564824B2 (en) * 2001-04-13 2003-05-20 Flowmatrix, Inc. Mass flow meter systems and methods
JP3604354B2 (ja) * 2001-06-13 2004-12-22 Ｓｍｃ株式会社 質量流量測定方法および質量流量制御装置
US6913031B2 (en) * 2001-10-18 2005-07-05 Ckd Corporation Pulse shot type flow controller and pulse shot type flow controlling method
JP4082901B2 (ja) * 2001-12-28 2008-04-30 忠弘 大見 圧力センサ、圧力制御装置及び圧力式流量制御装置の温度ドリフト補正装置
US6766260B2 (en) * 2002-01-04 2004-07-20 Mks Instruments, Inc. Mass flow ratio system and method
JP2003323217A (ja) 2002-05-01 2003-11-14 Stec Inc 流量制御システム
JP4137666B2 (ja) * 2003-02-17 2008-08-20 株式会社堀場エステック マスフローコントローラ
JP2004280788A (ja) * 2003-02-28 2004-10-07 Advanced Energy Japan Kk ガス分流システム
JP4195837B2 (ja) * 2003-06-20 2008-12-17 東京エレクトロン株式会社 ガス分流供給装置及びガス分流供給方法
JP4399227B2 (ja) * 2003-10-06 2010-01-13 株式会社フジキン チャンバの内圧制御装置及び内圧被制御式チャンバ
JP4856905B2 (ja) * 2005-06-27 2012-01-18 国立大学法人東北大学 流量レンジ可変型流量制御装置
JP4814706B2 (ja) 2006-06-27 2011-11-16 株式会社フジキン 流量比可変型流体供給装置
JP5459895B2 (ja) * 2007-10-15 2014-04-02 Ｃｋｄ株式会社 ガス分流供給ユニット
JP2010169657A (ja) * 2008-12-25 2010-08-05 Horiba Stec Co Ltd 質量流量計及びマスフローコントローラ
JP5562712B2 (ja) * 2010-04-30 2014-07-30 東京エレクトロン株式会社 半導体製造装置用のガス供給装置
JP5430621B2 (ja) * 2011-08-10 2014-03-05 Ｃｋｄ株式会社 ガス流量検定システム及びガス流量検定ユニット

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013156801A5 (https=)
JP5665794B2 (ja) 半導体製造装置のガス分流供給装置
JP4642115B2 (ja) 流量比率制御装置
JP5754853B2 (ja) 半導体製造装置のガス分流供給装置
CN103282748B (zh) 气体供应装置用流量控制器的流量测定方法
JP5430621B2 (ja) ガス流量検定システム及びガス流量検定ユニット
TWI497248B (zh) A gas split supply device and a gas diversion supply method using the same
TWI406119B (zh) 用以在一區域內遠端控制壓力的系統及一化學機械研磨機系統
TWI451220B (zh) 控制壓力與混合比例的方法與設備
JP5091821B2 (ja) マスフローコントローラ
CN107992105B (zh) 一种流量控制系统及其控制方法
KR101842160B1 (ko) 유량제어장치 및 방법
JP5394526B2 (ja) カロリー測定装置
KR20110066394A (ko) 매스플로우 컨트롤러
JP2015059740A (ja) 流体供給設備