JP2012504306A - 透明導電膜及びそれを備えた透明電極 - Google Patents
透明導電膜及びそれを備えた透明電極 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012504306A JP2012504306A JP2011528939A JP2011528939A JP2012504306A JP 2012504306 A JP2012504306 A JP 2012504306A JP 2011528939 A JP2011528939 A JP 2011528939A JP 2011528939 A JP2011528939 A JP 2011528939A JP 2012504306 A JP2012504306 A JP 2012504306A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductive film
- zinc oxide
- transparent conductive
- based transparent
- dopant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 139
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims abstract description 69
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 26
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 31
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 26
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 13
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 10
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 8
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052795 boron group element Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 19
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 abstract description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 89
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 18
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 15
- FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L Zinc carbonate Chemical compound [Zn+2].[O-]C([O-])=O FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 11
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 3
- 238000004630 atomic force microscopy Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001505 atmospheric-pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008685 targeting Effects 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/14—Conductive material dispersed in non-conductive inorganic material
- H01B1/16—Conductive material dispersed in non-conductive inorganic material the conductive material comprising metals or alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
- H01L31/1884—Manufacture of transparent electrodes, e.g. TCO, ITO
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022466—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022466—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers
- H01L31/022483—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers composed of zinc oxide [ZnO]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0236—Special surface textures
- H01L31/02366—Special surface textures of the substrate or of a layer on the substrate, e.g. textured ITO/glass substrate or superstrate, textured polymer layer on glass substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02521—Materials
- H01L21/02551—Group 12/16 materials
- H01L21/02554—Oxides
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【選択図】 図1
Description
RFマグネトロンスパッタを用いてGaが2.72wt%ドープされた酸化亜鉛をターゲットとし、約200℃の温度及び約3mTorrの圧力下で、ガラス基板上に酸化亜鉛系透明導電膜を表1に示した厚さで蒸着した。このとき、スパッタリングガスとしてはArとH2とが混合されたガスを使用し、比率はH2/(Ar+H2)が7vol%になるようにした。
スパッタリングガスとしてArガスのみを使用したことを除き、実施例1と同様の方法で酸化亜鉛系透明導電膜を製造した。
Gaのドーピング含量が5.5wt%であることを除き、実施例1と同様の方法で酸化亜鉛系透明導電膜を製造した。
薄膜の蒸着温度がRT(〜23℃)であることを除き、実施例1と同様の方法で酸化亜鉛系透明導電膜を製造した。
実施例1及び比較例1〜比較例3で製造した酸化亜鉛系透明導電膜のヘイズを測定して表1に示した。また、各導電膜表面のSEM写真を測定し、図1(実施例1)及び図3〜図5(それぞれ比較例1〜比較例3)に示した。
下記表2に示したように、Gaの含量を変化させたことを除き、実施例1と同様の方法でスパッタリング蒸着を行った。
下記表3に示されたように、Al含量が変化する酸化亜鉛ターゲットを使用したことを除き、実施例1と同様の方法でスパッタリング蒸着を行った。
ドーパントとしてアルミニウムとガリウムとを同時に使用し、下記表4に示されたようにAl及びGaの含量が変化する酸化亜鉛ターゲットを使用したことを除き、実施例1と同様の方法でスパッタリング蒸着を行った。
実施例1によって製造した凹凸が形成された透明導電膜に対し、X線回折分析(XRD)を行い、その結果を図6に示した。
RFマグネトロンスパッタを用いてGaとBとがそれぞれ2.5wt%、0.2wt%ドープされた酸化亜鉛をターゲットとし、約200℃の温度及び約3mTorrの圧力下で、ガラス基板上に酸化亜鉛系透明導電膜を蒸着した。
ドーパントとしてBを含まず、H2ガスを使用しないことを除き、実施例2と同様の方法で酸化亜鉛系透明導電膜を製造した。
実施例2及び比較例4で製造した酸化亜鉛系透明導電膜に対し、SEM及びAFMを通じて表面形状及び粗度を分析し、その結果を表5及び図7〜図9に示した。中間部(表5ではcと記載する)と縁部(表5ではeと記載する)の2部分で測定した。
Claims (23)
- 表面に凹凸が形成された酸化亜鉛系透明導電膜であって、
前記凹凸は、稜線部が突出部の突出方向に弧を描くか、または、突出部の先端が頂点を有する場合は該頂点を中心に2つの稜線部のなす角が90゜以上の鈍角である突出部を含む酸化亜鉛系透明導電膜。 - 前記凹凸を有する導電膜のX線回折像は(002)面のピークのみを有することを特徴とする請求項1に記載の酸化亜鉛系透明導電膜。
- 前記凹凸の突出部は、底面の対角線の長さが200から600nmであり、高さが30から250nmであることを特徴とする請求項1に記載の酸化亜鉛系透明導電膜。
- 前記導電膜が、13族元素及び+3の酸化数を有する遷移金属からなる群より選択された元素をドーパントとして有することを特徴とする請求項1に記載の酸化亜鉛系透明導電膜。
- 前記導電膜が、アルミニウム、ガリウム、ホウ素またはシリコンからなる群より選択される少なくとも1つをドーパントとして有することを特徴とする請求項1に記載の酸化亜鉛系透明導電膜。
- 前記導電膜内のドーパントの含量は4重量%以下であることを特徴とする請求項5に記載の酸化亜鉛系透明導電膜。
- ドーパントとしてガリウムを単独で使用する場合は、導電膜内のガリウムの含量が3重量%未満であることを特徴とする請求項5に記載の酸化亜鉛系透明導電膜。
- ドーパントとしてアルミニウムを単独で使用する場合は、導電膜内のアルミニウムの含量が1重量%以下であることを特徴とする請求項5に記載の酸化亜鉛系透明導電膜。
- ドーパントとしてホウ素を単独で使用する場合は、導電膜内のホウ素の含量が1重量%以下であることを特徴とする請求項5に記載の酸化亜鉛系透明導電膜。
- ドーパントとしてガリウムとアルミニウムとを使用する場合は、導電膜内のアルミニウムの含量が0.5重量%以下であり、ガリウムの含量が1.0重量%以下であることを特徴とする請求項5に記載の酸化亜鉛系透明導電膜。
- 前記導電膜の厚さが100から500nmであることを特徴とする請求項1に記載の酸化亜鉛系透明導電膜。
- ドーパントの含量が0から4重量%である酸化亜鉛をターゲットとし、アルゴンと水素ガスとの混合ガスの存在下で、1から30mTorrの圧力及び100から500℃の温度条件のスパッタリング方式で行われることを特徴とする酸化亜鉛系透明導電膜の製造方法。
- 前記ドーパントは、13族元素及び+3の酸化数を有する遷移金属からなる群より選択された元素であることを特徴とする請求項12に記載の酸化亜鉛系透明導電膜の製造方法。
- 前記ドーパントは、アルミニウム、ガリウム、ホウ素またはシリコンからなる群より選択される少なくとも1つであることを特徴とする請求項12に記載の酸化亜鉛系透明導電膜の製造方法。
- ドーパントとしてガリウムを単独で使用する場合は、導電膜内のガリウムの含量が3重量%未満であることを特徴とする請求項14に記載の酸化亜鉛系透明導電膜の製造方法。
- ドーパントとしてアルミニウムを単独で使用する場合は、導電膜内のアルミニウムの含量が1重量%以下であることを特徴とする請求項14に記載の酸化亜鉛系透明導電膜の製造方法。
- ドーパントとしてホウ素を単独で使用する場合は、導電膜内のホウ素の含量が1重量%以下であることを特徴とする請求項14に記載の酸化亜鉛系透明導電膜の製造方法。
- ドーパントとしてガリウムとアルミニウムとを使用する場合は、導電膜内のアルミニウムの含量が0.5重量%以下であり、ガリウムの含量が1.0重量%以下であることを特徴とする請求項14に記載の酸化亜鉛系透明導電膜の製造方法。
- スパッタリング工程においては、H2Oをさらに投入することを特徴とする請求項12に記載の酸化亜鉛系透明導電膜の製造方法。
- 前記水素ガスの含量は、全体ガスに対して1から30体積%であることを特徴とする請求項12に記載の酸化亜鉛系透明導電膜の製造方法。
- 基板と、
前記基板上に形成された請求項1から請求項11のうちいずれか1項に記載の透明導電膜と
を備える酸化亜鉛系透明電極。 - 前記基板は、ガラス基板、プラスチック基板または酸化物蒸着基板であって、透明性を有することを特徴とする請求項21に記載の酸化亜鉛系透明電極。
- 請求項22に記載の透明電極を備えた太陽電池。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2008-0095920 | 2008-09-30 | ||
KR20080095920 | 2008-09-30 | ||
PCT/KR2009/005482 WO2010038954A2 (ko) | 2008-09-30 | 2009-09-25 | 투명 도전막 및 이를 구비한 투명 전극 |
KR10-2009-0090854 | 2009-09-25 | ||
KR20090090854A KR101201099B1 (ko) | 2008-09-30 | 2009-09-25 | 투명 도전막 및 이를 구비한 투명 전극 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012504306A true JP2012504306A (ja) | 2012-02-16 |
JP5581527B2 JP5581527B2 (ja) | 2014-09-03 |
Family
ID=42214373
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011528939A Active JP5581527B2 (ja) | 2008-09-30 | 2009-09-25 | 透明導電膜、その製造方法、透明電極及び太陽電池 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20110174361A1 (ja) |
EP (1) | EP2333818B1 (ja) |
JP (1) | JP5581527B2 (ja) |
KR (1) | KR101201099B1 (ja) |
CN (1) | CN102165559B (ja) |
TW (1) | TWI494452B (ja) |
WO (1) | WO2010038954A2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015060983A (ja) * | 2013-09-19 | 2015-03-30 | 凸版印刷株式会社 | ナノインプリント用モールドの製造方法およびナノインプリント用モールド |
JP2022502847A (ja) * | 2018-09-24 | 2022-01-11 | ファースト・ソーラー・インコーポレーテッド | テクスチャ化tco層を有する光起電デバイス、およびtcoスタックを作る方法 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101299534B1 (ko) * | 2011-04-18 | 2013-08-23 | 삼성코닝정밀소재 주식회사 | 유기 전계 발광소자용 광추출층 및 그 제조방법 |
KR101225739B1 (ko) * | 2011-04-22 | 2013-01-23 | 삼성코닝정밀소재 주식회사 | 광전지용 산화아연계 투명 도전막 및 그 제조방법 |
EP2523227A1 (en) * | 2011-05-13 | 2012-11-14 | Applied Materials, Inc. | Thin-film solar fabrication process, deposition method for TCO layer, and solar cell precursor layer stack |
KR101324725B1 (ko) * | 2012-02-21 | 2013-11-05 | 삼성코닝정밀소재 주식회사 | 투명 도전막 제조방법 |
KR101458993B1 (ko) * | 2013-10-14 | 2014-11-10 | 삼성코닝어드밴스드글라스 유한회사 | 광전지용 산화아연계 투명 도전막 및 이를 포함하는 광전지 |
KR101968215B1 (ko) | 2015-03-16 | 2019-04-11 | 주식회사 엘지화학 | 전도성 구조체 및 이를 포함하는 전자 소자 |
KR101999706B1 (ko) | 2015-03-16 | 2019-07-12 | 주식회사 엘지화학 | 전도성 구조체 및 이를 포함하는 전자 소자 |
KR102032011B1 (ko) | 2015-05-15 | 2019-10-14 | 주식회사 엘지화학 | 전도성 적층체 및 이를 포함하는 투명 전극 |
KR101991047B1 (ko) | 2015-06-30 | 2019-06-19 | 주식회사 엘지화학 | 전도성 적층체, 이의 제조방법, 이를 포함하는 투명 전극 및 전자소자 |
CN106328757A (zh) * | 2015-07-06 | 2017-01-11 | 中海阳能源集团股份有限公司 | 一种异质结太阳能电池的加工方法 |
KR102072882B1 (ko) | 2016-06-17 | 2020-02-03 | 주식회사 엘지화학 | 전도성 구조체 및 이를 포함하는 전기변색 소자 |
CN116348284B (zh) * | 2021-08-06 | 2024-05-24 | 日东电工株式会社 | 层叠体 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992018990A1 (en) * | 1991-04-10 | 1992-10-29 | Tokio Nakada | Method for manufacturing transparent conductive film |
JPH05275727A (ja) * | 1992-03-25 | 1993-10-22 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 透明導電膜の成膜方法 |
JP2000022189A (ja) * | 1998-01-23 | 2000-01-21 | Canon Inc | 酸化亜鉛層付基板、酸化亜鉛層の形成方法、光起電力素子及びその製造方法 |
JP2003105533A (ja) * | 2001-10-01 | 2003-04-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 透明導電膜の製造方法及び透明導電膜 |
JP2004296597A (ja) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Canon Inc | 積層型光起電力素子の製造方法 |
JP2006134789A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 非晶質透明導電膜及び非晶質透明導電膜積層体並びにこれらの製造方法 |
WO2008062685A1 (fr) * | 2006-11-20 | 2008-05-29 | Kaneka Corporation | Substrat accompagné de film conducteur transparent pour dispositif de conversion photoélectrique, procédé de fabrication du substrat et dispositif de conversion photoélectrique l'utilisant |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3156795B2 (ja) | 1991-03-26 | 2001-04-16 | ティーディーケイ株式会社 | 光電変換素子用透明導電膜の製造方法 |
DE69305794T2 (de) * | 1992-07-10 | 1997-06-12 | Asahi Glass Co Ltd | Transparenter, leitfähiger Film und Target und Material zur Gasphasenabscheidung für seine Herstellung |
JPH0625838A (ja) | 1992-07-10 | 1994-02-01 | Asahi Glass Co Ltd | スパッタリングターゲット |
JP2771414B2 (ja) * | 1992-12-28 | 1998-07-02 | キヤノン株式会社 | 太陽電池の製造方法 |
US6140570A (en) * | 1997-10-29 | 2000-10-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Photovoltaic element having a back side transparent and electrically conductive layer with a light incident side surface region having a specific cross section and a module comprising said photovolatic element |
US6238808B1 (en) * | 1998-01-23 | 2001-05-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate with zinc oxide layer, method for producing zinc oxide layer, photovoltaic device, and method for producing photovoltaic device |
JP3801342B2 (ja) | 1998-02-12 | 2006-07-26 | シャープ株式会社 | 太陽電池用基板、その製造方法及び半導体素子 |
DE60128508D1 (de) * | 2000-03-28 | 2007-07-05 | Toyo Boseki | Transparenter leitender Film, transparentes leitendes Blatt und berührungsempfindliche Tafel |
US6576112B2 (en) * | 2000-09-19 | 2003-06-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of forming zinc oxide film and process for producing photovoltaic device using it |
JP4622075B2 (ja) | 2000-10-03 | 2011-02-02 | 凸版印刷株式会社 | 透明導電性材料およびその製造方法 |
JP2002260448A (ja) * | 2000-11-21 | 2002-09-13 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 導電膜、その製造方法、それを備えた基板および光電変換装置 |
JP3697190B2 (ja) * | 2001-10-03 | 2005-09-21 | 三菱重工業株式会社 | 太陽電池 |
EP1443527A4 (en) * | 2001-10-19 | 2007-09-12 | Asahi Glass Co Ltd | SUBSTRATE WITH TRANSPARENT CONDUCTIVE OXIDE FILM AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF AND PHOTOELECTRIC IMPLEMENTATION ELEMENT |
KR100505536B1 (ko) * | 2002-03-27 | 2005-08-04 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 투명한 도전성 박막, 그것의 제조방법, 그것의 제조를위한 소결 타겟, 디스플레이 패널용의 투명한 전기전도성기재, 및 유기 전기루미네선스 디바이스 |
US20050189012A1 (en) * | 2002-10-30 | 2005-09-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Zinc oxide film, photovoltaic device making use of the same, and zinc oxide film formation process |
US7172813B2 (en) * | 2003-05-20 | 2007-02-06 | Burgener Ii Robert H | Zinc oxide crystal growth substrate |
KR101065308B1 (ko) | 2004-02-04 | 2011-09-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 광전기화학전지 |
KR100682741B1 (ko) * | 2005-06-17 | 2007-02-15 | 한국과학기술연구원 | 산화 아연 계 투명 전도성 산화물 박막의 제조 방법 |
US20090218735A1 (en) * | 2005-08-16 | 2009-09-03 | Otkrytoe Aktsyonernoe Obshchestvo "Polema" | Method of synthesis of ceramics |
JP2007113109A (ja) | 2005-09-26 | 2007-05-10 | Asahi Kasei Chemicals Corp | イオンプレーティング法による酸化亜鉛系透明導電性積層体及びその製造方法 |
JP4599595B2 (ja) | 2005-12-05 | 2010-12-15 | 学校法人金沢工業大学 | 透明導電膜の製造方法および製造装置 |
WO2007071663A1 (en) * | 2005-12-21 | 2007-06-28 | Shell Erneuerbare Energien Gmbh | Process of making a thin-film photovoltaic device and thin-film photovoltaic device |
US7867636B2 (en) * | 2006-01-11 | 2011-01-11 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transparent conductive film and method for manufacturing the same |
JP5243697B2 (ja) | 2006-04-19 | 2013-07-24 | 株式会社カネカ | 光電変換装置用透明導電膜とその製造方法 |
JP4231967B2 (ja) | 2006-10-06 | 2009-03-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 酸化物焼結体、その製造方法、透明導電膜、およびそれを用いて得られる太陽電池 |
JP4917897B2 (ja) * | 2007-01-10 | 2012-04-18 | 日東電工株式会社 | 透明導電フィルムおよびその製造方法 |
WO2008105614A1 (en) * | 2007-02-26 | 2008-09-04 | Lg Chem, Ltd. | Conductive laminated body and method for preparing the same |
-
2009
- 2009-09-25 JP JP2011528939A patent/JP5581527B2/ja active Active
- 2009-09-25 KR KR20090090854A patent/KR101201099B1/ko active IP Right Grant
- 2009-09-25 WO PCT/KR2009/005482 patent/WO2010038954A2/ko active Application Filing
- 2009-09-25 US US13/121,577 patent/US20110174361A1/en not_active Abandoned
- 2009-09-25 EP EP09817964.1A patent/EP2333818B1/en active Active
- 2009-09-25 CN CN2009801380876A patent/CN102165559B/zh active Active
- 2009-09-28 TW TW098132729A patent/TWI494452B/zh active
-
2014
- 2014-09-08 US US14/480,392 patent/US9966495B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992018990A1 (en) * | 1991-04-10 | 1992-10-29 | Tokio Nakada | Method for manufacturing transparent conductive film |
JPH05275727A (ja) * | 1992-03-25 | 1993-10-22 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 透明導電膜の成膜方法 |
JP2000022189A (ja) * | 1998-01-23 | 2000-01-21 | Canon Inc | 酸化亜鉛層付基板、酸化亜鉛層の形成方法、光起電力素子及びその製造方法 |
JP2003105533A (ja) * | 2001-10-01 | 2003-04-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 透明導電膜の製造方法及び透明導電膜 |
JP2004296597A (ja) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Canon Inc | 積層型光起電力素子の製造方法 |
JP2006134789A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 非晶質透明導電膜及び非晶質透明導電膜積層体並びにこれらの製造方法 |
WO2008062685A1 (fr) * | 2006-11-20 | 2008-05-29 | Kaneka Corporation | Substrat accompagné de film conducteur transparent pour dispositif de conversion photoélectrique, procédé de fabrication du substrat et dispositif de conversion photoélectrique l'utilisant |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
JPN7013004833; 鈴木晶雄 他: '高周波スパッタリング法にて作製したZnO:Al薄膜の結晶成長-スパッタ圧力依存性-' 真空 38, 1995, 832 * |
JPN7013004834; Tokio Nakada et al.: 'Effect of Water Vapor on the Growth of Textured ZnO-Based Films for Solar Cells by DC-Magnetron Sput' Japanese Journal of Applied Physics Vol.30 No.12A, 199112, 3344-3348 * |
JPN7013004835; Tadatsugu Minami et al.: 'Large-Area Milky Transparent Conducting Al-Doped ZnO Films Prepared by Magnetron Sputtering' Jpn. J. Appl. Phys. Vol.31, 1992, L1106-L1109 * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015060983A (ja) * | 2013-09-19 | 2015-03-30 | 凸版印刷株式会社 | ナノインプリント用モールドの製造方法およびナノインプリント用モールド |
JP2022502847A (ja) * | 2018-09-24 | 2022-01-11 | ファースト・ソーラー・インコーポレーテッド | テクスチャ化tco層を有する光起電デバイス、およびtcoスタックを作る方法 |
JP7470677B2 (ja) | 2018-09-24 | 2024-04-18 | ファースト・ソーラー・インコーポレーテッド | テクスチャ化tco層を有する光起電デバイス、およびtcoスタックを作る方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2333818A4 (en) | 2015-06-17 |
WO2010038954A2 (ko) | 2010-04-08 |
WO2010038954A3 (ko) | 2010-07-22 |
KR101201099B1 (ko) | 2012-11-13 |
US9966495B2 (en) | 2018-05-08 |
EP2333818B1 (en) | 2019-12-25 |
JP5581527B2 (ja) | 2014-09-03 |
TW201028487A (en) | 2010-08-01 |
CN102165559B (zh) | 2013-09-04 |
US20140374242A1 (en) | 2014-12-25 |
US20110174361A1 (en) | 2011-07-21 |
CN102165559A (zh) | 2011-08-24 |
EP2333818A2 (en) | 2011-06-15 |
KR20100036957A (ko) | 2010-04-08 |
TWI494452B (zh) | 2015-08-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5581527B2 (ja) | 透明導電膜、その製造方法、透明電極及び太陽電池 | |
JP5621764B2 (ja) | 透明導電膜と透明導電膜積層体及びその製造方法、並びにシリコン系薄膜太陽電池 | |
JP5005772B2 (ja) | 導電性積層体およびその製造方法 | |
US9493869B2 (en) | Transparent conductive film | |
CN104969362B (zh) | 带表面电极的透明导电玻璃基板及其制造方法、以及薄膜太阳能电池及其制造方法 | |
JP2007288043A (ja) | 光電変換装置用透明導電膜とその製造方法 | |
KR20090084539A (ko) | 이중층 구조의 표면 텍스처링된 산화아연계 투명도전성박막 및 그 제조방법 | |
JP5729595B2 (ja) | 太陽電池用透明導電膜およびその製造方法 | |
CN104781445A (zh) | 透明导电膜层叠体及其制造方法、以及薄膜太阳能电池及其制造方法 | |
JP6979938B2 (ja) | 導電性透明アルミニウムドープ酸化亜鉛スパッタ膜 | |
KR101236039B1 (ko) | 도전 적층체 및 이의 제조방법 | |
JP5533448B2 (ja) | 透明導電膜積層体及びその製造方法、並びに薄膜太陽電池及びその製造方法 | |
Tsai et al. | Growth and characterization of textured well-faceted ZnO on planar Si (100), planar Si (111), and textured Si (100) substrates for solar cell applications | |
JP2013179217A (ja) | 太陽電池およびその製造方法 | |
US20120107491A1 (en) | High Permittivity Transparent Films | |
EP2266141A1 (en) | Glass -type substrate coated with thin layers and production method | |
KR20090019634A (ko) | 도전 적층체 및 이의 제조방법 | |
CN103031517A (zh) | 氧化铟锡膜及其制作方法 | |
Kim et al. | Influence of Substrate Temperature on the Properties of Titanium Indium Zinc Oxide Films Prepared by RF Magnetron Sputtering | |
Lee et al. | TiN and In2O3 Co-sputtered Amorphous InTiON Electrodes for Perovskite Solar Cells | |
An et al. | Preparation of Naturally Textured Aluminum-Doped Zinc Oxide Films on Flexible Poly (ether sulfone) Substrate by Radio Frequency Magnetron Sputtering | |
KR101457794B1 (ko) | 비정질 에스아이오씨 박막 위에 형성된 투명전극을 갖는 태양전지 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130402 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130702 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140107 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140507 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20140514 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140617 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140625 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5581527 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |