JP2022502847A - テクスチャ化tco層を有する光起電デバイス、およびtcoスタックを作る方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[0055]表Bに示されている可変の流量で酸素が補給されたアルゴン環境でガラス基板上にスパッタリングすることによって、TCO層スタック240が準備された。酸素流は、標準的な立法センチメートル/分(sccm)によって画定される。その結果得られるTCO層スタック240の粗さのSEM画像が、図8A〜図8Dに示されている。酸素流が増大するにつれて粗さが減少する効果を見て取ることができる。
[0056]本明細書に記載されるように、連続層をスパッタリングすることによって、3つの光起電デバイス901、910、930が準備された。スパッタリング環境の酸素および水素含量の条件を変更することによって、粗さが変更された。偏光解析法によって、平均粗さが判定された。偏光解析法の結果が表Cに示されており、緩衝層/吸収体層境界面154/162におけるデバイスの断面SEMが図9A〜図9Cに示されている。図9Aで、デバイス901は、400nmのスケールを示すスケールバー902に基づいて、TCO層スタック240の第2の表面244における境界面に粒状の幾何形状を形成するより大きい丘904のいくつかが、100nmを超えるサイズであることが観察されることができる。図9Bで、デバイス910は、200nmのスケールを示すスケールバー912に基づいて、TCO層スタック240の第2の表面244に中間レベルのサイズを有する丘914を有し、丘914は、デバイス901内の丘904のサイズとデバイス930の丘934との間に入るサイズを有することが観察されることができる。図9Cで、デバイス930は、200nmのスケールを示すスケールバー932に基づいて、TCO層スタック240の第2の表面244の丘934が、最も小さいサイズを有することが観察されることができる。
[発明の態様]
[1]
薄膜透明導電性酸化物層スタックを製造する方法であって、
不活性のスパッタリング環境で少なくとも1つの透明金属酸化物層を基板上へスパッタリングすること、
前記不活性のスパッタリング環境を約0.1sccm〜約30sccmの流量の酸素で制御して、約5nm〜約60nmの平均粗さを有する少なくとも1つの境界面を有するスパッタリングされた透明導電性酸化物層スタックを作製すること、および
透明導電性酸化物層スタックをアニーリングすることを含む方法。
[2]
平均粗さが約5nm〜約30nmである、1に記載の方法。
[3]
スパッタリング中の酸素流量が約1sccm〜約20sccmである、1に記載の方法。
[4]
スパッタリング中の基板温度が約25〜約400℃である、1に記載の方法。
[5]
異なる屈折率を有する少なくとも2つの透明金属酸化物層を基板上へスパッタリングして、透明導電性酸化物層スタックを形成すること、ここで前記透明導電性酸化物層スタック内の2つの金属酸化物層間の少なくとも1つの境界面、または前記透明導電性酸化物層スタックと隣接する層との間の少なくとも1つの境界面が、5〜60nmの平均粗さを有する、
前記透明導電性酸化物層スタックをアニーリングすること、および
前記透明導電性酸化物層スタック上に吸収体層を堆積させることをさらに含み、
それによってアニーリング後、前記透明導電性酸化物層スタックの前記少なくとも1つの境界面の粗さが、隣接する2つの層の屈折率の中間にある有効屈折率の遷移区域を作製して、屈折率のより緩やかな勾配を形成する、
1に記載の方法。
[6]
前記金属酸化物層の少なくとも1つが、インジウムスズ酸化物(ITO)、亜鉛マグネシウム酸化物(ZMO)、ならびに酸化スズ(TO)、およびカドミウムスズ酸化物(CTO)から選択される、5に記載の方法。
[7]
前記金属酸化物層の少なくとも2つが、インジウムスズ酸化物(ITO)、亜鉛マグネシウム酸化物(ZMO)、酸化スズ(TO)、およびカドミウムスズ酸化物(CTO)から選択される、6に記載の方法。
[8]
平均粗さが約5nm〜約30nmである、6に記載の方法。
[9]
スパッタリング中の酸素流量が約0sccm〜約20sccmである、6に記載の方法。
[10]
付設した吸収体層とともに使用するための改善された薄膜透明導電性酸化物層を製造する方法であって、
アニーリングされたときに5〜60nmの平均粗さを有する少なくとも1つの境界面を有するスパッタリングされた透明導電性酸化物層を作製するように選択された条件下で、1つまたは複数の透明金属酸化物層を基板上へスパッタリングすることを含み、前記スパッタリング条件が、(i)不活性スパッタリングまたはアニーリング環境に酸素または水素を補給すること、(ii)基板温度を約25〜約400℃の範囲まで増大させること、および(iii)スパッタリングプロセスに伴う磁界強度を約20mT〜約100mTの範囲まで増大させることから選択され、
それによって、入射光に露出されると、透明導電性酸化物層の少なくとも1つの境界面の粗さが反射を低減させ、前記付設した吸収体層への光散乱透過を増大させる、方法。
[11]
平均粗さが約5nm〜約30nmである、10に記載の方法。
[12]
前記スパッタリングが、約0.1sccm〜約30sccmの流量の酸素で補給する条件下で行われる、10に記載の方法。
[13]
前記スパッタリングが、約1sccm〜約20sccmの流量の酸素で補給する条件下で行われる、12に記載の方法。
[14]
前記スパッタリングが、不活性環境の最大3重量%の水素で補給するさらなる条件下で行われる、12に記載の方法。
[15]
前記スパッタリングが、約25〜約400℃の基板温度の条件下で行われる、10に記載の方法。
[16]
前記スパッタリングが、約40〜約90mTの磁界強度の条件下で行われる、10に記載の方法。
[17]
1に記載の方法によって形成された透明導電性酸化物層スタックを備える光起電デバイス。
[18]
基板と、
透明導電性酸化物層スタックを形成するように、異なる屈折率を有する少なくとも2つの透明金属酸化物層を備える透明導電層スタック、ここで前記透明導電性酸化物層スタック内の2つの金属酸化物層間の少なくとも1つの境界面、または前記透明導電性酸化物層スタックと隣接する層との間の少なくとも1つの境界面が、5〜60nmの平均粗さを有する、
前記スパッタリングされた透明導電層スタック上に配置された吸収体層、および
前記吸収体層上に配置されたバックコンタクトとを備え、
それによって前記透明導電性酸化物層スタックの前記少なくとも1つの境界面の粗さが、隣接する2つの層の屈折率の中間にある有効屈折率を有する境界面遷移区域を作製して、屈折率のより緩やかな勾配を形成する、
光起電デバイス。
[19]
平均粗さが約5nm〜約30nmである、18に記載の光起電デバイス。
[20]
前記金属酸化物層の少なくとも1つが、インジウムスズ酸化物(ITO)、亜鉛マグネシウム酸化物(ZMO)、ならびに酸化スズ(TO)、およびカドミウムスズ酸化物(CTO)から選択される、18に記載の光起電デバイス。
[21]
屈折率の緩やかな勾配を促進する屈折率を有する障壁層をさらに備える、18に記載の光起電デバイス。
[22]
約1.5の屈折率を有するガラスを含む基板と、
約3の屈折率を有するテルル化カドミウムを含む吸収体層と、
前記基板と前記吸収体層との間に配置されており、少なくとも1つの境界面遷移区域とともに、前記基板と前記吸収体層との間に少なくとも4つの境界面領域を画定する少なくとも2つの透明金属酸化物層とをさらに備え、前記少なくとも2つの透明金属酸化物層の屈折率が1.5〜3であり、前記境界面領域のいずれでも前記屈折率が、0.5を超えて変化しない、
18に記載の光起電デバイス。
[23]
薄膜透明酸化物層スタックを製造する方法であって、
不活性のスパッタリング環境で少なくとも1つの透明金属酸化物層を基板上へスパッタリングすること、および
前記不活性のスパッタリング環境を約0.1sccm〜約30sccmの流量の酸素で制御して、5nmより大きい平均粗さを有する少なくとも1つの境界面を有するスパッタリングされた透明酸化物層スタックを作製することを含む方法。
[24]
前記透明酸化物層をアニーリングすることをさらに含む、23に記載の方法。
[25]
スパッタリング中の酸素流量が約1sccm〜約20sccmである、1、2、23、または24のいずれか一項に記載の方法。
[26]
スパッタリング中の基板温度が約25〜約400℃である、1から3または23から25のいずれか一項に記載の方法。
[27]
異なる屈折率を有する少なくとも2つの透明金属酸化物層を基板上へスパッタリングして、透明導電性酸化物層スタックを形成すること、ここで前記透明導電性酸化物層スタック内の2つの金属酸化物層間の少なくとも1つの境界面、または前記透明導電性酸化物層スタックと隣接する層との間の少なくとも1つの境界面が、5〜60nmの平均粗さを有する
前記透明導電性酸化物層スタックをアニーリングすること、および
前記透明導電性酸化物層スタック上に吸収体層を堆積させることをさらに含み、
それによってアニーリング後、前記透明導電性酸化物層スタックの前記少なくとも1つの境界面の粗さが、隣接する2つの層の屈折率の中間にある有効屈折率の遷移区域を作製して、屈折率のより緩やかな勾配を形成する、
1から4または23から26のいずれか一項に記載の方法。
[28]
前記金属酸化物層の少なくとも1つが、インジウムスズ酸化物(ITO)、亜鉛マグネシウム酸化物(ZMO)、ならびに酸化スズ(TO)、およびカドミウムスズ酸化物(CTO)から選択される、1から5または23から27のいずれか一項に記載の方法。
[29]
前記金属酸化物層の少なくとも2つが、インジウムスズ酸化物(ITO)、亜鉛マグネシウム酸化物(ZMO)、酸化スズ(TO)、およびカドミウムスズ酸化物(CTO)から選択される、1から6または23から28のいずれか一項に記載の方法。
[30]
平均粗さが約5nm〜約30nmである、1または3から7または23から29に記載の方法。
[31]
スパッタリング中の酸素流量が約0sccm〜約20sccmである、1から8または23から30に記載の方法。
[32]
前記スパッタリングが、約0.1sccm〜約30sccmの流量の酸素で補給する条件下で行われる、10または11に記載の方法。
[33]
前記スパッタリングが、約1sccm〜約20sccmの流量の酸素で補給する条件下で行われる、10から12または32のいずれか一項に記載の方法。
[34]
前記スパッタリングが、不活性環境の最大3重量%の水素で補給するさらなる条件下で行われる、10から13または32もしくは33のいずれか一項に記載の方法。
[35]
前記スパッタリングが、約200〜約400℃の基板温度の条件下で行われる、10から14または32から34のいずれか一項に記載の方法。
[36]
前記スパッタリングが、約40〜約90mTの磁界強度の条件下で行われる、10から15または32から35のいずれか一項に記載の方法。
[37]
前記金属酸化物層の少なくとも1つが、インジウムスズ酸化物(ITO)、亜鉛マグネシウム酸化物(ZMO)、ならびに酸化スズ(TO)、およびカドミウムスズ酸化物(CTO)から選択される、18または19に記載の光起電デバイス。
[38]
屈折率の緩やかな勾配を促進する屈折率を有する障壁層をさらに備える、18から20または37のいずれか一項に記載の光起電デバイス。
[39]
約1.5の屈折率を有するガラスを含む基板、
約3の屈折率を有するテルル化カドミウムを含む吸収体層、および
前記基板と前記吸収体層との間に配置されており、少なくとも1つの境界面遷移区域とともに、前記基板と前記吸収体層との間に少なくとも4つの境界面領域を画定する少なくとも2つの透明金属酸化物層をさらに備え、前記少なくとも2つの透明金属酸化物層の屈折率が1.5〜3であり、前記境界面領域のいずれでも前記屈折率が、0.5を超えて変化しない、
18から21または37もしくは38のいずれか一項に記載の光起電デバイス。
[40]
1から16または23から36のいずれか一項に記載の方法によって形成された透明導電性酸化物層スタックを備える光起電デバイス。
[41]
約1.5の屈折率を有するガラスを含む基板、
約3の屈折率を有するテルル化カドミウムを含む吸収体層、
前記基板と前記吸収体層との間に配置されており、少なくとも1つの境界面遷移区域とともに、前記基板と前記吸収体層との間に少なくとも4つの境界面領域を画定する少なくとも2つの透明金属酸化物層をさらに備え、前記少なくとも2つの透明金属酸化物層の屈折率が1.5〜3であり、前記境界面領域のいずれでも前記屈折率は、0.5を超えて変化しない、
1から40のいずれか一項に記載の方法または光起電デバイス。
Claims (41)
- 薄膜透明導電性酸化物層スタックを製造する方法であって、
不活性のスパッタリング環境で少なくとも1つの透明金属酸化物層を基板上へスパッタリングすること、
前記不活性のスパッタリング環境を約0.1sccm〜約30sccmの流量の酸素で制御して、約5nm〜約60nmの平均粗さを有する少なくとも1つの境界面を有するスパッタリングされた透明導電性酸化物層スタックを作製すること、および
透明導電性酸化物層スタックをアニーリングすることを含む方法。 - 平均粗さが約5nm〜約30nmである、請求項1に記載の方法。
- スパッタリング中の酸素流量が約1sccm〜約20sccmである、請求項1に記載の方法。
- スパッタリング中の基板温度が約25〜約400℃である、請求項1に記載の方法。
- 異なる屈折率を有する少なくとも2つの透明金属酸化物層を基板上へスパッタリングして、透明導電性酸化物層スタックを形成すること、ここで前記透明導電性酸化物層スタック内の2つの金属酸化物層間の少なくとも1つの境界面、または前記透明導電性酸化物層スタックと隣接する層との間の少なくとも1つの境界面が、5〜60nmの平均粗さを有する、
前記透明導電性酸化物層スタックをアニーリングすること、および
前記透明導電性酸化物層スタック上に吸収体層を堆積させることをさらに含み、
それによってアニーリング後、前記透明導電性酸化物層スタックの前記少なくとも1つの境界面の粗さが、隣接する2つの層の屈折率の中間にある有効屈折率の遷移区域を作製して、屈折率のより緩やかな勾配を形成する、
請求項1に記載の方法。 - 前記金属酸化物層の少なくとも1つが、インジウムスズ酸化物(ITO)、亜鉛マグネシウム酸化物(ZMO)、ならびに酸化スズ(TO)、およびカドミウムスズ酸化物(CTO)から選択される、請求項5に記載の方法。
- 前記金属酸化物層の少なくとも2つが、インジウムスズ酸化物(ITO)、亜鉛マグネシウム酸化物(ZMO)、酸化スズ(TO)、およびカドミウムスズ酸化物(CTO)から選択される、請求項6に記載の方法。
- 平均粗さが約5nm〜約30nmである、請求項6に記載の方法。
- スパッタリング中の酸素流量が約0sccm〜約20sccmである、請求項6に記載の方法。
- 付設した吸収体層とともに使用するための改善された薄膜透明導電性酸化物層を製造する方法であって、
アニーリングされたときに5〜60nmの平均粗さを有する少なくとも1つの境界面を有するスパッタリングされた透明導電性酸化物層を作製するように選択された条件下で、1つまたは複数の透明金属酸化物層を基板上へスパッタリングすることを含み、前記スパッタリング条件が、(i)不活性スパッタリングまたはアニーリング環境に酸素または水素を補給すること、(ii)基板温度を約25〜約400℃の範囲まで増大させること、および(iii)スパッタリングプロセスに伴う磁界強度を約20mT〜約100mTの範囲まで増大させることから選択され、
それによって、入射光に露出されると、透明導電性酸化物層の少なくとも1つの境界面の粗さが反射を低減させ、前記付設した吸収体層への光散乱透過を増大させる、方法。 - 平均粗さが約5nm〜約30nmである、請求項10に記載の方法。
- 前記スパッタリングが、約0.1sccm〜約30sccmの流量の酸素を補給する条件下で行われる、請求項10に記載の方法。
- 前記スパッタリングが、約1sccm〜約20sccmの流量の酸素を補給する条件下で行われる、請求項12に記載の方法。
- 前記スパッタリングが、不活性環境の最大3重量%の水素を補給するさらなる条件下で行われる、請求項12に記載の方法。
- 前記スパッタリングが、約25〜約400℃の基板温度の条件下で行われる、請求項10に記載の方法。
- 前記スパッタリングが、約40〜約90mTの磁界強度の条件下で行われる、請求項10に記載の方法。
- 請求項1に記載の方法によって形成された透明導電性酸化物層スタックを備える光起電デバイス。
- 基板と、
透明導電性酸化物層スタックを形成するように、異なる屈折率を有する少なくとも2つの透明金属酸化物層を備える透明導電層スタック、ここで前記透明導電性酸化物層スタック内の2つの金属酸化物層間の少なくとも1つの境界面、または前記透明導電性酸化物層スタックと隣接する層との間の少なくとも1つの境界面が、5〜60nmの平均粗さを有する、
前記スパッタリングされた透明導電層スタック上に配置された吸収体層、および
前記吸収体層上に配置されたバックコンタクトとを備え、
それによって前記透明導電性酸化物層スタックの前記少なくとも1つの境界面の粗さが、隣接する2つの層の屈折率の中間にある有効屈折率を有する境界面遷移区域を作製して、屈折率のより緩やかな勾配を形成する、
光起電デバイス。 - 平均粗さが約5nm〜約30nmである、請求項18に記載の光起電デバイス。
- 前記金属酸化物層の少なくとも1つが、インジウムスズ酸化物(ITO)、亜鉛マグネシウム酸化物(ZMO)、ならびに酸化スズ(TO)、およびカドミウムスズ酸化物(CTO)から選択される、請求項18に記載の光起電デバイス。
- 屈折率の緩やかな勾配を促進する屈折率を有する障壁層をさらに備える、請求項18に記載の光起電デバイス。
- 約1.5の屈折率を有するガラスを含む基板と、
約3の屈折率を有するテルル化カドミウムを含む吸収体層と、
前記基板と前記吸収体層との間に配置されており、少なくとも1つの境界面遷移区域とともに、前記基板と前記吸収体層との間に少なくとも4つの境界面領域を画定する少なくとも2つの透明金属酸化物層とをさらに備え、前記少なくとも2つの透明金属酸化物層の屈折率が1.5〜3であり、前記境界面領域のいずれでも前記屈折率が、0.5を超えて変化しない、
請求項18に記載の光起電デバイス。 - 薄膜透明酸化物層スタックを製造する方法であって、
不活性のスパッタリング環境で少なくとも1つの透明金属酸化物層を基板上へスパッタリングすること、および
前記不活性のスパッタリング環境を約0.1sccm〜約30sccmの流量の酸素で制御して、5nmより大きい平均粗さを有する少なくとも1つの境界面を有するスパッタリングされた透明酸化物層スタックを作製することを含む方法。 - 前記透明酸化物層をアニーリングすることをさらに含む、請求項23に記載の方法。
- スパッタリング中の酸素流量が約1sccm〜約20sccmである、請求項1、2、23、または24のいずれか一項に記載の方法。
- スパッタリング中の基板温度が約25〜約400℃である、請求項1から3または請求項23から25のいずれか一項に記載の方法。
- 異なる屈折率を有する少なくとも2つの透明金属酸化物層を基板上へスパッタリングして、透明導電性酸化物層スタックを形成すること、ここで前記透明導電性酸化物層スタック内の2つの金属酸化物層間の少なくとも1つの境界面、または前記透明導電性酸化物層スタックと隣接する層との間の少なくとも1つの境界面が、5〜60nmの平均粗さを有する
前記透明導電性酸化物層スタックをアニーリングすること、および
前記透明導電性酸化物層スタック上に吸収体層を堆積させることをさらに含み、
それによってアニーリング後、前記透明導電性酸化物層スタックの前記少なくとも1つの境界面の粗さが、隣接する2つの層の屈折率の中間にある有効屈折率の遷移区域を作製して、屈折率のより緩やかな勾配を形成する、
請求項1から4または請求項23から26のいずれか一項に記載の方法。 - 前記金属酸化物層の少なくとも1つが、インジウムスズ酸化物(ITO)、亜鉛マグネシウム酸化物(ZMO)、ならびに酸化スズ(TO)、およびカドミウムスズ酸化物(CTO)から選択される、請求項1から5または請求項23から27のいずれか一項に記載の方法。
- 前記金属酸化物層の少なくとも2つが、インジウムスズ酸化物(ITO)、亜鉛マグネシウム酸化物(ZMO)、酸化スズ(TO)、およびカドミウムスズ酸化物(CTO)から選択される、請求項1から6または請求項23から28のいずれか一項に記載の方法。
- 平均粗さが約5nm〜約30nmである、請求項1または請求項3から7または請求項23から29に記載の方法。
- スパッタリング中の酸素流量が約0sccm〜約20sccmである、請求項1から8または請求項23から30に記載の方法。
- 前記スパッタリングが、約0.1sccm〜約30sccmの流量の酸素を補給する条件下で行われる、請求項10または11に記載の方法。
- 前記スパッタリングが、約1sccm〜約20sccmの流量の酸素を補給する条件下で行われる、請求項10から12または請求項32のいずれか一項に記載の方法。
- 前記スパッタリングが、不活性環境の最大3重量%の水素を補給するさらなる条件下で行われる、請求項10から13または請求項32もしくは33のいずれか一項に記載の方法。
- 前記スパッタリングが、約200〜約400℃の基板温度の条件下で行われる、請求項10から14または請求項32から34のいずれか一項に記載の方法。
- 前記スパッタリングが、約40〜約90mTの磁界強度の条件下で行われる、請求項10から15または請求項32から35のいずれか一項に記載の方法。
- 前記金属酸化物層の少なくとも1つが、インジウムスズ酸化物(ITO)、亜鉛マグネシウム酸化物(ZMO)、ならびに酸化スズ(TO)、およびカドミウムスズ酸化物(CTO)から選択される、請求項18または19に記載の光起電デバイス。
- 屈折率の緩やかな勾配を促進する屈折率を有する障壁層をさらに備える、請求項18から20または請求項37のいずれか一項に記載の光起電デバイス。
- 約1.5の屈折率を有するガラスを含む基板、
約3の屈折率を有するテルル化カドミウムを含む吸収体層、および
前記基板と前記吸収体層との間に配置されており、少なくとも1つの境界面遷移区域とともに、前記基板と前記吸収体層との間に少なくとも4つの境界面領域を画定する少なくとも2つの透明金属酸化物層をさらに備え、前記少なくとも2つの透明金属酸化物層の屈折率が1.5〜3であり、前記境界面領域のいずれでも前記屈折率が、0.5を超えて変化しない、
請求項18から21または請求項37もしくは38のいずれか一項に記載の光起電デバイス。 - 請求項1から16または請求項23から36のいずれか一項に記載の方法によって形成された透明導電性酸化物層スタックを備える光起電デバイス。
- 約1.5の屈折率を有するガラスを含む基板、
約3の屈折率を有するテルル化カドミウムを含む吸収体層、
前記基板と前記吸収体層との間に配置されており、少なくとも1つの境界面遷移区域とともに、前記基板と前記吸収体層との間に少なくとも4つの境界面領域を画定する少なくとも2つの透明金属酸化物層をさらに備え、前記少なくとも2つの透明金属酸化物層の屈折率が1.5〜3であり、前記境界面領域のいずれでも前記屈折率は、0.5を超えて変化しない、
請求項1から40のいずれか一項に記載の方法または光起電デバイス。
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