JP2012190041A - 光学素子操作装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも3つのアクチュエータデバイスを介して、構造体について、光学素子を6自由度まで操作する装置であって、各アクチュエータデバイス9が、少なくとも2つの力制御アクチュエータを備え、各力制御アクチュエータが、1自由度の有効な力を生成すると共に、アクチュエータデバイス9の連結点11が、光学素子7に直接作用する。
【選択図】図5
Description
光学素子、特にミラーは、たいていの場合、3自由度で操作されており、例えばピエゾアクチュエータがこのために使用されている。
本発明に基づく手段は、6自由度までの光学素子または光学アセンブリの正確かつ迅速な操作性能を提供する。力制御アクチュエータの使用により、作用の方向と異なる残りの自由度をほとんど変える必要がなく、このことは、寄生的な力を補正するために中間弾性要素あるいはソケットの必要としないことを意味し、したがって、例えば作用力の方向における、配置の全体の剛性を増加し、位置決め精度を向上する。
異なるアクチュエータデバイスにより提供される少なくとも2自由度について、少なくとも2つのアクチュエータデバイスの自由度が、線形独立になるように、アクチュエータデバイスが、互いについて配置されていると好ましい。
請求項2,18,33に関する利点は、請求項1について、また明細書から、すでに記載されている利点と同様である。
図1からわかるように、EUV投射照明システム1は、光源2と、構造化マスクが配置されている平面4のフィールドを照明するためのEUV照射システム3と、平面4の構造化マスクを感光基板上に結像するための投影レンズ5とを備える。このようなEUV投射照明システムは、ヨーロッパ特許公報EP1278089A2により知られている。
図7は、本発明に基づく力制御アクチュエータを概略的に示している。アクチュエータ10は、第1要素10a及び第2要素10bを備える。要素10a及び10bは、相互運動が可能である。要素10a及び10bの両方が、部品A及びBに接続されており、本発明の応用例においては、一方の部品が光学素子であり、他方の部品がハウジングのような構造体である。第1及び第2要素10a、10bは、両方の要素間の間隙10cに、ガスまたは真空しか存在しないように、機械的に分断されている。要素10a、10bのうちの一方の要素が、ソレノイド10dを備えるのが好ましい。ソレノイド10dに電流が流されると、間隙10cまたは間隙10cの一部が変更され、要素10a、10bは、部品A,Bと共に、相互運動する。間隙10cが、x及び/またはz方向に、+/−300マイクロメートルの動きが可能な大きさであると好ましい。
パッシブ代替モジュールは、その後の操作時の関係と同じ力関係に基づいたミラー7の設計を可能にし、重力(図示せず)から生じるミラー変形を補正するために、製造段階で使用されることができる。
Claims (44)
- 少なくとも3つのアクチュエータデバイスを介して、構造体について、光学素子を6自由度まで操作する装置であって、各アクチュエータデバイス(9)が、少なくとも2つの力制御アクチュエータ(10)を備え、各力制御アクチュエータ(10)が、1自由度の有効な力を生成すると共に、アクチュエータデバイス(9)の連結点(11)が、光学素子(7)に直接作用することを特徴とする装置。
- 少なくとも3つのアクチュエータデバイスを介して、構造体について、光学素子を6自由度まで操作する装置であって、アクチュエータデバイス(9)の連結点(11)が、光学素子(7)に直接作用すると共に、光学素子(7)上の、アクチュエータデバイス(9)の連結点(11)によりカバーされる平面が、少なくともほぼ光学素子(7)の中立面上にあることを特徴とする装置。
- 3つのアクチュエータデバイス(9)が設けられていることを特徴とする、請求項1または2に記載の装置。
- 各アクチュエータデバイス(9)が、少なくとも2つの力制御アクチュエータ(10)を備え、各力制御アクチュエータ(10)が、1自由度の有効な力を生成することを特徴とする、請求項2または3に記載の装置。
- アクチュエータデバイス(9)の少なくとも2つの力制御アクチュエータ(10)のそれぞれが、1つの平面内に配置されていて、互いについて、およそ60°から120°、好ましくは90°の角度にあることを特徴とする、請求項1ないし4のいずれかに記載の装置。
- 各アクチュエータデバイス(9)が、光学素子(7)の重力を補正するための反力要素として重力補正装置を備えることを特徴とする、請求項1ないし5のいずれかに記載の装置。
- アクチュエータデバイス(9)の各力制御アクチュエータ10によりカバーされる3つの平面は、重力に平行であり、重力に平行な投影において、3角形を形成することを特徴とする、請求項1、3ないし6のいずれかに記載の装置。
- アクチュエータデバイス(9)は、光学素子(7)の周囲にほぼ均等の間隔、好ましくは120°の3つの間隔で、配置されていることを特徴とする、請求項1ないし7のいずれかに記載の装置。
- 光学素子(7)上の、アクチュエータデバイス(9)の連結点(11)によりカバーされる平面が、少なくともほぼ光学素子(7)の中立面上にあることを特徴とする、請求項1、3ないし8のいずれかに記載の装置。
- アクチュエータデバイス(9)の少なくとも2つの力制御アクチュエータ(10)の有効な力のそれぞれが、好ましくは光学素子(7)上の共有点を通ることを特徴とする、請求項1、3ないし9のいずれかに記載の装置。
- 重力補正装置(12)の有効な力が、重力にほぼ平行であり、好ましくはアクチュエータデバイス(9)の2つの力制御アクチュエータ(10)の有効な力のそれぞれの共有点を通ることを特徴とする、請求項6ないし10のいずれかに記載の装置。
- アクチュエータデバイス(9)の少なくとも2つの力制御アクチュエータ(10)の有効な力のそれぞれ、及び/または、重力補正装置(12)が、好ましくは磁力により、光学素子(7)から機械的に分断されていることを特徴とする、請求項6ないし11のいずれかに記載の装置。
- 光学素子(7)の位置決めのために、センサが設けられていることを特徴とする、請求項1ないし12のいずれかに記載の装置。
- 製造段階及びその後の使用における力方向及び作用点を一致させることにより、アクチュエータデバイス(9)を、製造目的で、パッシブ代替モジュールに置換することができることを特徴とする、請求項1ないし13のいずれかに記載の装置。
- 力制御アクチュエータが、電磁気または静磁気的な形態、具体的にはロレンツアクチュエータ(10)であることを特徴とする、請求項1,3ないし14のいずれかに記載の装置。
- 光学素子が、ミラー(7)の形態であることを特徴とする、請求項2ないし15のいずれかに記載の装置。
- 構造体が、投影レンズ(5)、具体的にはEUV範囲において半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィのための投射照明システム(1)のハウジング(8)またはセンサフレームであることを特徴とする、請求項1ないし16のいずれかに記載の装置。
- 少なくとも3つのアクチュエータデバイスを介して、構造体について、光学素子を6自由度まで操作する装置であって、各アクチュエータデバイス(9)が、少なくとも2つの力制御アクチュエータ(10)を備え、各力制御アクチュエータ(10)が、1自由度の有効な力を生成することを特徴とする装置。
- 3つのアクチュエータデバイス(9)が設けられていることを特徴とする、請求項18に装置。
- アクチュエータデバイス(9)の少なくとも2つの力制御アクチュエータ(10)のそれぞれが、1つの平面内に配置されていて、互いについて、およそ60°から120°、好ましくは90°の角度にあることを特徴とする、請求項18または19に記載の装置。
- 各アクチュエータデバイス(9)が、光学素子(7)の重力を補正するための反力要素として重力補正装置を備えることを特徴とする、請求項18または19または20に記載の装置。
- アクチュエータデバイス(9)の各力制御アクチュエータ10によりカバーされる3つの平面は、重力に平行であり、重力に平行な投影において、3角形を形成することを特徴とする、請求項18ないし21のいずれかに記載の装置。
- アクチュエータデバイス(9)は、光学素子(7)の周囲にほぼ均等の間隔、好ましくは120°の3つの間隔で、配置されていることを特徴とする、請求項18ないし22のいずれかに記載の装置。
- アクチュエータデバイス(9)の少なくとも2つの力制御アクチュエータ(10)の有効な力のそれぞれが、好ましくは光学アセンブリ上の共有点を通ることを特徴とする、請求項18ないし23のいずれかに記載の装置。
- 重力補正装置(12)の有効な力が、重力にほぼ平行であり、好ましくはアクチュエータデバイス(9)の2つの力制御アクチュエータ(10)の有効な力のそれぞれの共有点を通ることを特徴とする、請求項18ないし24のいずれかに記載の装置。
- アクチュエータデバイス(9)の少なくとも2つの力制御アクチュエータ(10)の有効な力のそれぞれ、及び/または、重力補正装置(12)が、好ましくは磁力により、光学アセンブリから機械的に分断されていることを特徴とする、請求項18ないし25のいずれかに記載の装置。
- 光学アセンブリの位置決めのために、センサが設けられていることを特徴とする、請求項18ないし26のいずれかに記載の装置。
- 製造段階及びその後の使用における重力方向及び作用点を一致させることにより、アクチュエータデバイス(9)を、製造目的で、パッシブ代替モジュールに置換することができることを特徴とする、請求項18ないし27のいずれかに記載の装置。
- 力制御アクチュエータが、電磁気または静磁気的な形態、具体的にはロレンツアクチュエータ(10)であることを特徴とする、請求項18ないし28に記載の装置。
- 構造体が、投影レンズ(5)、具体的にはEUV範囲において半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィのための投射照明システム(1)のハウジング(8)またはセンサフレームであることを特徴とする、請求項18ないし29のいずれかに記載の装置。
- 光学アセンブリが、少なくとも1つの光学素子と、少なくとも1つのソケット要素とを備えることを特徴とする、請求項18ないし30のいずれかに記載の装置。
- 投影レンズ(5)、具体的にはEUV範囲において半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィのための投射照明システム(1)であって、ハウジング(8)に配置された2つ以上の光学素子(7)を備え、少なくとも1つの光学素子(7)が、請求項1ないし17のいずれかに記載の装置により、ハウジング(8)について操作されることができるように取り付けられていることを特徴とする投影レンズ。
- 構造体(8)に光学素子(7)または光学アセンブリを直接連結するためのアクチュエータデバイスであって、それぞれ1自由度の有効な力を生成し、互いについて、およそ60°ないし120°、好ましくは90°の角度で1つの平面内に配置されている少なくとも2つの力制御アクチュエータ(10)を備えることを特徴とするアクチュエータデバイス。
- 少なくとも2つの力制御アクチュエータ(10)の有効な力のそれぞれが、好ましくは光学素子(7)上または光学アセンブリ上の共有点を通ることを特徴とする、請求項33に記載のアクチュエータデバイス。
- 光学素子(7)または光学アセンブリの重力を補正するための反力要素として重力補正装置により特徴付けられ、重力補正装置の有効な力が、重力にほぼ平行であり、好ましくは2つの力制御アクチュエータ(10)の有効な力の共通の交点を通ることを特徴とする請求項33または34に記載のアクチュエータデバイス。
- 光学素子(7)上の連結点(11)が、少なくともほぼ光学素子(7)の中立面上にあることを特徴とする、請求項33または34または35に記載のアクチュエータデバイス。
- 相互運動が可能な第1要素10a及び第2要素10bを備え、第1要素10a及び第2要素10bが、第1及び第2要素10a、10b間にガスまたは真空のみが存在するように機械的に分断されていることを特徴とする、1自由度の有効な力を生成する力制御アクチュエータ10。
- 一方の要素10bが、同じタイプの第2力制御アクチュエータ10の一方の要素10bに、連結要素15により機械的に連結されていることを特徴とする、請求項37に記載の第1力制御アクチュエータ10。
- 少なくとも1つのアクチュエータが作動している場合、連結要素15が少なくとも1自由度の動きが可能であることを特徴とする、請求項38に記載のアクチュエータデバイス。
- 2つの力制御アクチュエータが作動している場合、連結要素15が2自由度の動きが可能であることを特徴とする、請求項39に記載のアクチュエータデバイス。
- 請求項37に記載の力制御アクチュエータを備えた請求項33ないし36のいずれかに記載のアクチュエータ。
- 請求項37に記載の力制御アクチュエータを備えた請求項1ないし31のいずれかに記載の装置。
- 請求項37に記載の力制御アクチュエータを備えた請求項32に記載の投影レンズ。
- 請求項1ないし31に記載の装置または請求項32の投影レンズにおける請求項37ないし40のいずれかに記載の力制御アクチュエータの応用。
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