TWI360675B - Apparatus for manipulation of an optical element,p - Google Patents
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Description
1360675 九、發明說明： 【發明所屬之技術領娀】 本發明係有關於一經由至少三引動器裝置而相關於一結 構達到6自由度之操作光學元件的設備。本發明亦有關於 供直接連接一光學元件或光學組件用之引動器裝置。本發 明係有關於一經由至少三弓丨動器裝置而相關於一結構達到 6自由度之操作光學組件的設備。進一步的’本發明係有 關於一力控制引動器及一力控制引動器裝置。 【先前技術】 一經由至少三引動器裝置而相關於一結構達到6自由度 之操作一光學元件的設備孫已知於E P 1 3 1 2 9 6 5 A 1 ° 特別是鏡的光學元件均主要地以3自由度操作’且例如 為壓電引動器係被使用於此一目的。 US5 ,986，827揭示一供光學元件用之以3自由度操作之 設備。 但是，特別是在EUVL範圍之投影照明系統中光學組件或 晶圓台的特殊應用，'諸如光學元件的準確定位’需要達到 6自由度（xyz平移及繞著這些軸旋轉二者）的操作或定位 作業，使同時具有高準確度。 供以達到6自由度減震一光學元件用的減震力控制引動 器，均為已知且稱之為複合引動器。PorterDavis等人在 文件「第二代複合 D-支柱（Second Generation Hybrid D-Strut) j ； Honeywell Massachusetts Institute of Technology ; SPIE Smart Structures and Materials 5 312XP/發明說明書(補件)/94-01/93127443 1360675
Conference, 1995年2月，San Diego,加州，中描述該複 合引動器。一具有減震系統的Lorentz引動器形成複合引 動器。其亦說明在六足組態中之這些複合引動器之配置。 雖然此一組態係針對有效減震之問題，本發明係有關於引 動器或引動器系統，使得幾乎沒有寄生力被傳送至由引動 器或引動器系統所支撐或調整的光學元件。 必須了解，所述之自由度在機械上的意義，一剛性本體 活動動作的各個可能性係由一獨立座標所描述，其代表個 別自由度。自由度之範例係如前述之平移與旋轉。 沿著一自由度產生移動的引動器，特別是壓電引動器， 均通常被連接至光學元件或光學組件以供操作之用。此一 連接在動作方向中必須為剛性的，但在剩餘自由度中必須 幾乎不具任何勁度（stiffness)，因為該壓電引動器於該處 產生位移力。於高精密度應用中，其通常由固態本體元件 所達成，該元件可導入不希望之寄生力。因而，額外地需 要供補償目標用之承座（socket)，以防止傳送至光學元件 或光學組件所產生之變形。諸如這些相當地減少高勁度之 軸承的中間元件，在精確操作中係需要的，因而不利地造 成無法達成前述所需之位置準確性的結果。 關於一般先前技術，參考 EP 1 001 512 A2，其揭示特 別是 Lorentz引動器的力控制引動器。所述之該Lorentz 引動器具有一產生一磁場的永久性磁鐵，其中安排一元件 通過該電流。所產生之Lorentz力被使用以在Lorentz引 動器的移動部件之間產生一移動或力。 6 312XP/發明說明書(補件)/94-01/93127443 1360675 【發明内容】 本發明係根據提供前述之型式的設備之目的，其允許 達到6自由度精確操作光學元件或組件，且儘可能地協 預防導入不希望之變形。 依據本發明，此一目的由每一具有至少二力控制引動 的引動器裝置達成，其各在一自由度中產生一有效力， 引動器裝置的連接點係直接地作用在光學元件上。 較佳的，一引動器裝置之引動器有效力係導向光學元 不同自由度之方向。如此由引動器的力造成之引動器裝 的有效力，可經由調整引動器裝置之引動器的個別力， 在引動器之有效力所界定的一平面内調整。 進一步的，於引動器裝置與光學元件之間的連接點處 自引動器裝置至光學元件的有效力（由引動器裝置之引 器所導致），均使得幾乎沒有垂直於有效力之力存在。此 由於在此一自由度中之幾乎消失的勁度量。但，在引動 裝置的引動器所導致之有效力方向内具有最大的勁度。 使達成前述之勁度條件，一依據本發明之引動器係一力 制引動器，其在一自由度中產生有效力。此一引動器包 一第一與一第二元件。該元件均可互相相對地移動，且 一元件與第二元件均被機械地分離，使得僅有氣體或真 在第一與第二元件之間。 該較佳為Lorentz引動器之力控制引動器，造成在元 之間幾乎無減震、及幾乎無剛性的結果。如此，其他力 乎無法自第一元件傳送至第二元件，除了在引動器的個 312XP/發明說明書(補件)/94-01 /93丨27443 以 助 器 該 件 置 而 之 動 係 器 為 控 括 第 空 件 幾 別 1360675 自由度中之受控力以外的優點，例如為由磁場之方向 量及一電流之方向與數量所界定之Lorentz力。 為使形成依據本發明之引動器裝置，前述第一力控 動器的一元件係經由聯結元件而被聯結至相同形式的 力控制引動器之一元件。聯結元件亦可為一光學元件 份的光學元件，代表引動器裝置的每一引動器係以至 其之第一或第二元件機械地聯結至光學元件。另外， 結元件可直接地聯結至光學元件，且引動器裝置的每 動器係以至少一其之第一或第二元件機械地聯結至聯 件。 在依據本發明之引動器裝置中，如果至少一力控制 器被引動，聯結元件可移動進入一自由度内。較佳的 果引動器裝置的二力控制引動器均被引動以產生預 力，聯結元件可移動進入二自由度内。 進一步的，引動器裝置之連接點可為直接地接觸光 件的引動器裝置之引動器的移動部件。於此，如前所 聯結元件係一光學元件。較佳的，該接觸係作為其本 為一點狀接觸，代表引動器裝置之所有引動器係影響 學元件的相同點處。但，其他接觸幾何形狀亦為可能 此，一引動器裝置之引動器於光學裝置的不同點處影 如果在一引動器裝置中具有二以上之引動器，組合為 的，使得某些引動器可影響在相同點處，而其他引動 響在光學元件的不同點處。如前所述，其他或額外地 器裝置之所有引動器或至少一引動器可經由一分離聯 312XP/發明說明書(補件)/94-01/93127443 與數 制引 第二 或部 少一 一聯 一引 結元 引動 ，如 定之 學元 述， 質上 在光 ，如 響。 可能 器影 引動 結元 8 1360675 件影響光學元件，該元件係部份之引動器裝置，包括或形 成引動器裝置至光學元件的連接點。較佳的，聯結元件與 二引動器連接，使得光學元件之移動（由引動器導致）可在 一由引動器裝置的二引動器之自由度所界定的空間中完成 (通常為由所有自由度所界定之空間的次空間）。分離聯結 元件具有在引動器裝置與光學元件之間形成更多點狀連接 點的優點。 進一步的，依據本發明，該目的係由申請專利範圍第 2 與1 8項所達成。至於引動器裝置，其目的係由申請專利範 圍第33項達成。 依據本發明之對策可提供以達到6自由度之精確與快速 操作光學元件或光學組件的能力。力控制引動器之使用本 質上係允許與作用方向不同之剩餘自由度保持未變，代表 不需要任何中間可撓元件或承座來補償寄生力，因而增加 該配置的例如在作用力之方向中的整體勁度，且改善位置 準確性。 本發明亦提供三引動器裝置，且於引動器裝置中，每一 具有至少二可允許一自由度之力控制引動器。 較佳的，引動器裝置均被互相相對地安排，使得至少二 引動器裝置之自由度均與相關的由不同引動器裝置給定之 至少二自由度線性獨立。 這些對策造成光學元件被以有利之方式裝配在允許以達 到6自由度操作或定位的配置中。於此情況，光學元件無 須一額外之承座而被裝配，即為，引動器裝置直接地作用 9 312XP/發明說明書(補件)/94-01/93127443 1360675 在光學元件上。 有利地，每一引動器裝置具有一重力補償裝置。 當無電流流動時，在力控制引動器的移動部件中不會 生力。特別是引動器必須承載一物件之重力的應用中會 為問題，因為需要一永久性電流來達成此一目標，且熱 而被連續地產生。此在使用於熱敏性設備中係高度不 的。重力補償可預防承載光學元件之整體質量的力控制 動器必須具有永久性流動通過之電流。如此，有利地減 能量消耗，且減少所造成之熱能。 在本發明的一發展中，可提供被引動器裝置的連接點 覆蓋之平面，係至少大約地位於光學元件之中立平面上 較佳的，連接點均界定一平面；該平面係鄰近中立平面 該平面較佳地被配置使得在光學元件内的平面之最大 離，係小於2 0 %的光學元件之最大厚度。 在例如為一光學元件的剛性本體之内或外側的表面 面，係被稱之為一中立平面，其中，例如經由操作器等 入力與力矩，導致在光學表面上的最小變形。類似地， 如，當工件被彎折時，沒有應力之工件的纖維係稱之為 立纖維。相反的，經彎折係使外部與内部纖維均被拉伸 壓縮。引動器裝置的連接點無須任何中間承座而直接作 在光學元件上，以使在現在進一步改善相關於被導入之 形的光學元件之操作或承載，且引動器裝置以一有利之 式作用在光學元件的中立平面上。 在本發明的一強化設計中，由於製造之目標，引動器 312XP/發明說明書(補件)/94-01/93127443 產 成 因 利 引 少 所 〇 〇 距 或. 導 例 中 或 用 變 方 裝 10 1360675 置可被一被動代替模組所替換，且在製造相位中及於後使 用期間.的力方向與作用點均相配合。 因為引動器裝置可被一被動代替模組所替換，即使在製 造相位期間，光學元件可根據相同於其後之操作期間的力 關係而設計，特別只有關於被重力導致於光學元件之變形 的補償。此即代表於操作時重力被作用在正確界定點處的 力所補償。當引動器裝置被以一被動代替模組替換時，重 力必須被再次地作用在相同點處。 有利的，引動器裝置的二力控制引動器之有效力在每一 情況中均通過一共用點，且重力補償裝置的有效力在每一 情況中通過引動器裝置之二力控制引動器的有效力之共用 點。 特別的，這些對策減少被導入的力矩所導致之光學元件 的變形。 相關於申請專利範圍第2、1 8與3 3之優點，係類似地由 參照申請專利範圍第1項所述及來自詳細說明之描述的優 點所造成。 本發明之有利地改善與發展可在其他獨立申請專利範圍 中發現。 【實施方式】 由圖1可以看出，一 Ε ϋ V投影照明系統1具有一光源2， 一用以照明配置有一結構罩模之平面4場域之EUV照明系 統3，以及用以將平面4中的結構罩模成像至一光敏基板6 上的投影物鏡5。諸如此類之EUV投影照明系統1係已知 11 312ΧΡ/發明說明書(補件)/94-01/93127443 1360675 於 EP 1 278 089 A2 。 在投影物鏡5中經常需要操作光學元件之能力，諸如相 對於投影物鏡5之外罩8的鏡7或光學組件（未示於圖）。 相關於投影物鏡5之外罩8係合適地連接供鏡7用的引動 器裝置9，以提供達到此一目標（於本文中係特別地顯示於 圖4與5中）。在另一示範具體例中，光學元件亦可被相對 於一感測器構架或相對於投影物鏡5的測量結構而操作。 諸如此類之測量結構係已知於D E 1 0 1 3 4 3 8 7 A 1。 圖2以簡化圖解顯示以三引動器裝置9的協助在6自由 度中操作一鏡7。引動器裝置9具有力控制Lorentz引動 器1 0，即為經由一力控制圈控制的引動器，且其每一均允 許1自由度。引動器裝置9均被連接至一結構（未示於圖2 中）。如圖3、4與5之以範例方式顯示的，該結構係投影 照明系統1的投影物鏡5之外罩8。 圖3顯示引動器裝置9的基本圖解，設有至鏡7的連接 點1 1及至該結構（即為投影物鏡5的外罩8 )的二連桿。該 二Lorentz引動器10 —起支樓2自由度且均被使用以操作 鏡7。為使將Lorentz引動器1 0的能量消耗減至最少，引 動器裝置9額外地具有重力補償裝置12，該裝置12相同 地被連接至外罩8且在本示範具體例中設有被使用於此一 目的之彈簧元件1 2，使作用為補償鏡7之重力的相對壓力 元件。在引動器裝置9中產生之力均有利地經由一共用點 自重力補償裝置12與二Lorentz引動器10傳送，因而將 鏡7之光學表面變形減至最少，特別是當發生力矩時。該 12 312XP/發明說明書(補件)/94-01/93127443 1360675
Lorentz引動器10均位於一平面上且互相成為 90 度。在本示範具體例中的重力補償裝置12的有效力 於重力，且Lorentz引動器10均對稱地位於重力補 1 2的二側上。在另一示範具體例中，例如在傾斜配 7的情況中，引動器裝置9係不必要為對稱的。 在另一示範具體例中之連接點1 1亦可被自鏡7機 離（例如經由磁力機構之力聯結）。 圖7概略地顯示依據本發明之力控制引動器。引ί 包括第一元件10a與第二元件10b。元件10a、10b 相相對地移動。二元件1 0 a、1 0 b均被連接至部件1 其中，在本發明的應用中，一部件係一光學元件， 部件係類似於一外罩之結構。第一與第二元件 10 均被機械地分離，使得僅有氣體或真空係在二元件 間隙1 0 c中。較佳的，元件1 0 a、1 0 b中的一元件包 磁閥1 0 d。如果電磁閥1 0 d遭受一電流，間隙1 0 c 份之間隙1 0 c被改變，且元件1 0 a、1 0 b與部件A、 相相對地移動。較佳的，間隙1 0 c係被定尺寸使得 X及/或z中可達成+ /- 300微米之移動。 圖8概略地顯示相同形式的二力控制引動器1 0， 據本發明的一引動器裝置9。二引動器1 0均為相關 所述之形式，但其均機械地聯結一聯結元件1 5。在 體例中，每一引動器1 0被連接至一基座結構A，而 器的另一元件1 0 b被連接至聯結元件1 5。二引動器 間隙1 0 c均被製成使得例如供聯結元件用之大約+ / 312XP/發明說明書(補件)/94-01/93127443 0之角 係平行 償裝置 置之鏡 械地分 fe；器 10 均可互 I與B， 且另一 a、10b 之間的 含一電 或一部 B均互 在方向 形成依 於圖7 所示具 二引動 1 0之 - 3 0 0 微 13 1360675 米的移動可在 XZ -平面内的任意方向中進行，如此，在個 別引動器10的第一與第二元件10a與10b之間沒有直接接 觸。 如果依據圖7之引動器係一 Lorentz引動器，圖7之引 動器的力作用在z方向中。通常，例如為元件10b之該種 可移動元件係固定在垂直於移動方向的 yz -平面内時，會 需要一軸承。依據本發明之軸承係非機械的，因為力控制 引動器10的第一與第二元件l〇a、10b均被機械地分離。 軸承較佳為電磁或磁性的。 於圖8之引動器裝置9中，聯結元件1 5 (其本身可以為 一光學元件）在 xz-平面（由形成引動器裝置的該二力控制 引動器之力所界定的平面）中的軸承，如果二引動器均為相 關於圖7所述之L 〇 r e n t z形式，則為磁性轴承。但，沒有 軸承在 yz -平面中（垂直於由形成引動器裝置的該二力控 制引動器之力所界定平面之平面），除非如果軸承磁鐵亦被 使用於此一方向中。然後，該力控制引動器1 0的第一與第 二元件10a、10b均被機械地分離。除了在yz -平面中的磁 性軸承以外，第三力控制引動器可被連接至聯結元件1 5。 此一第三引動器係被安排在 xz -平面（由形成引動器裝置 的該二力控制引動器之力所界定的平面）以外的平面中。以 該一配置，一聯結元件（其可以為一光學元件）可無須機械 軸承而被固持，且可被移動在5自由度中。 圖4顯示供在投影物鏡5的外罩8中之鏡7用的依據本 發明之軸承的簡化平面圖。鏡7係由三引動器裝置9相對 14 312XP/發明說明書(補件)/94-01 /93127443 1360675 於外罩8所操作，各引動器裝置9具有2自由度。引動器 裝置9均由虛線表示，如圖5所示，因為其係被安排在鏡 7之下方。引動器裝置9均被安排環繞鏡7之圓周以 12 0°之等間隔分佈。由引動器裝置9之一的個別力控制引 動器9所覆蓋之三平面，均較佳但非必要地平行於重力， 且當以平面圖觀看時，形成一三角形（示於圖4中的引動器 裝置 9之延伸虛線）。引動器裝置均較佳的以相關於圖 8 所述地形成。 圖5顯示示於圖4中之設備的立體圖。由引動器裝置9 的連接點1 1所覆蓋之平面係有利地位於鏡7之中立平面， 因而減少在鏡表面中的變形。在此一具體例中，使用供光 學元件7的軸承用之三引動器裝置，有利的，在力控制引 動器的可移動元件與固定元件之間沒有機械聯結或連接。 進一步的，很重要地必須注意，在圖4之具體例中，使用 三引動器裝置 9，幾乎沒有剛性與減震，除了在導引力控 制引動器裝置9之力中具有剛性之外。 圖6顯示具有Lorentz引動器10及重力補償彈簧12的 引動器裝置9之立體圖。引動器裝置9於連接點11處被連 接至鏡7 (示於圖4)。如相關於圖8之所述，連接點1 1可 被形成在一聯結元件1 5上。 此外，鏡7之位置係由感測器機構（未示於圖）決定。 於製造相位時可使用一被動代替模組，使鏡7經設計為 相同於其後操作時的力關係下，以提供由重力（未顯示）產 生之鏡變形的補償。 15 3 ] 2XP/發明說明書(補件)/94-01/93 ] 27443 1360675 【圖式簡單說明】 圖1顯示設有一光源、一照明系統及一投影物鏡的一 E U V 投影照明系統之基本組態； 圖2顯示依據本發明之用以操作一光學元件的設備之基 本圖解， 圖3顯示一引動器裝置之基本圖解； 圖4顯示依據本發明之用以裝配一鏡在一投影物鏡之外 罩中的設備簡化平面圖； 圖5顯示依據本發明用以裝配一鏡之設備之立體圖； 圖6顯示一引動器裝置之立體圖； 圖7概略地顯示一力控制引動器；及 圖8概略地顯示類似於圖3與圖6所示之引動器裝置。 【主要元件符號說明】 1 E U V投影照明系統 2 光源 3 EUV照明系統 4 平面 5 投影物鏡 6 光敏基板 7 鏡 8 外罩 9 引動器裝置 10 Lorentz引動器 10a 第一元件 1 Ob 第二元件 10c 間隙 16 312XP/發明說明書(補件)/94-01/93127443 1360675 I Od II 12 15 A B x y z 電磁閥 連接點 重力補償裝置 聯結元件 部件 部件 方向 方向 方向
312XP/發明說明書(補件)/94-01/93127443 17
Claims (1)
1360675 案號：93127443 · 100年9月1日修正-替換頁 十、申請專利範圍： 1. 一種光學元件或光學組件之操作設備，用於顯微蝕刻 之蝕刻投影設備（1 )，用以透過至少二個力控制引動器 (10)，相對於一結構以高達6個自由度而在EUV範圍製造 — 半導體構件，該等力控制引動器各自產生一 1自由度之有 效力且各自包含可彼此相對移動之一第一元件（10a)與一 第二元件（10b)，該第一元件（10a)與該第二元件（10b)係機 械地分離以便在該第一元件（1 0 a )與該第二元件（1 0 b )之間 的間隙（1 0 c )中僅有氣體或呈真空。 ® 2. 如申請專利範圍第1項之操作設備，其中該間隙（1 0 c ) 之尺寸係設定為可達到約+/ - 3 0 0微米之移動。 3. 如申請專利範圍第1或2項之操作設備，其包含至少 - 三個引動器裝置，其中該等引動器裝置（9)各自具有至少二 . 個力控制引動器（10)，其各自產生一 1自由度之有效力。
4. 如申請專利範圍第3項之操作設備，其中該等引動器 裝置（9 )之連接點（1 1 )係直接作用在光學元件（7 )上。 5.如申請專利範圍第4項之操作設備，其中被該光學元 件（7 )上之該等引動器裝置（9 )之連接點（1 1 )所覆蓋之平面 係至少大約位於該光學元件（7 )之一中立平面上。 6 .如申請專利範圍第3項之操作設備，其中被該等引動 器裝置（9 )之一的個別力控制引動器（1 0 )所覆蓋之三個平 面均平行於重力，且在平行於重力之投影中形成一三角形。 7.如申請專利範圍第3項之操作設備·其中該等引動器 裝置（9 )本質上係環繞光學元件（7 )或光學組件而以等間距 IS 1360675 案號：93127443 100年9月1曰修正-替換頁 配置，較佳為以1 2 0 ° 的三間距配置。 8. 如申請專利範圍第3項之操作設備，其中各該引動器 裝置（9)之該至少二個力控制引動器（10)的該等有效力通 過較佳在光學元件（7 )或光學組件上的一共用點。 9. 如申請專利範圍第1項之操作設備，其中該等力控制 引動器係呈電磁或靜磁之形式，特別是 Lorentz引動器 (10)。
1 0 .如申請專利範圍第 1項之操作設備，其中該光學組 件具有至少一光學元件及至少一承座元件。 1 1 . 一種光學元件之操作設備，用於顯微蝕刻之蝕刻投 影設備（1 )，用以透過至少三個引動器裝置，相對於一結構 以6個自由度而在EUV範圍製造半導體構件，其中該等引 動器裝置（9 )之連接點（1 1 )係直接作用在該光學元件（7 ) 上，且被該光學元件（7)上之該等引動器裝置（9)之連接點 (1 1 )所覆蓋之平面係至少大約位於該光學元件（7 )之一中
立平面上； 其中該等引動器裝置（9 )本質上係環繞光學元件（7 )而 以等間距配置，較佳為以1 2 0 ° 的三間距配置。 1 2 .如申請專利範圍第3或1 1項之操作設備，其中係提 供三個引動器裝置（9 )。 1 3 .如申請專利範圍第1 1項之操作設備，其中該等引動 器裝置（9 )各自具有至少二個力控制引動器（1 0 )，其各自產 生一沿著丨自由度之有效力。 :丨4 .如申請專利範圍第3或〗1項之操作設備，其中各該 19 1360675 案號：93127443 100年9月1曰修正-替換頁 引動器裝置（9 )之該至少二個力控制引動器（1 0 )互相以大 約6 0 °至大约1 2 0 ° 、較佳為9 0 ° 之角度而被安排在一平 面中。 1 5.如申請專利範圍第3或1 3項之操作設備，其中該等 引動器裝置（9)各自具有做為一相對力元件之一重力補償 裝置（12)，以補償光學元件（7)或光學組件之重力。
1 6 .如申請專利範圍第1 5項之操作設備，其中各該重力 補償裝置（1 2 )的一有效力本質上係平行於重力，且較佳地 通過對應的該引動器裝置（9 )的該至少二個力控制引動器 (10)之該等有效力所通過的一共用點。 1 7 .如申請專利範圍第1 5項之操作設備，其中各該引動 器裝置（9)的該至少二個力控制引動器（10)的該等有效力 及/或各該重力補償裝置（1 2 )之一有效力，較佳係經由磁力 而自光學元件（7 )或光學組件機械地分離。
1 8 .如申請專利範圍第1或1 1項之操作設備，其中提供 有感測器以決定光學元件（7 )或光學組件的位置。 1 9 .如申請專利範圍第3或1 1項之操作設備，其中由於 製造之目標，該等引動器裝置（9 )可被一被動代替模組所替 換，且在製造相位中及隨後的使用時的力方向與作用點均 相配合。 2 0 .如申請專利範圍第1或1 1項之操作設備，其中該光 學元件係呈一鏡（7 )之形式。 2 I .如申請專利範圍第丨或II項之操作設備，其中該結 構係用以在E U V範圍製造半導體構件之顯微蝕刻之該蝕刻 20 1360675 案號：93127443 100年9月1曰修正-替換頁 投影設備（1 )的一投影物鏡（5 )的一外罩（8 )或一感測器構 架。 22.如申請專利範圍第11項之操作設備，更包含：
一第一力控制引動器（10)，其產生一 1自由度之有效 力，該第一力控制引動器（10)包含可彼此相對移動之一第 一元件（10a)與一第二元件（10b)，該第一元件（10a)與該第 二元件（1 0 b )係機械地分離以便在該第一元件（1 0 a )與該第 二元件（10b)之間僅有氣體或呈真空，其特徵在於該第二元 件（1 0 b)係經由一聯結元件（1 5 )機械地聯結至相同形式之 第二‘力控制引動器（1 0 )的一元件（1 0 b )，該第一與該第二力 控制引動器（1 0 )形成該等引動器裝置（9 )之一。
2 3 .如申請專利範圍第1 1項之操作設備，其中該至少三 個引動器裝置（9)之至少一包含可彼此相對移動之一第一 元件（1 0 a )與一第二元件（1 0 b )，該第一元件（1 0 a )係連接至 該結構而該第二元件（1 0 b )係連接至該光學元件（7 )，該第 一元件（1 0 a )與該第二元件（1 0 b )係機械地分離以便在該第 一元件（10a)與該第二元件（10b)之間僅有氣體或呈真空。 2 4 . —種投影物鏡（5 )，特別是用於顯微蝕刻之蝕刻投影 設備（1 )，以在E U V範圍製造半導體構件，該投影物鏡（5 ) 具有二或多個設置在一外罩（8)中的光學元件（7)，該等光 學元件（7 )之至少一係裝配為使得其可藉由申請專利範圍 第1項之操作設備而相對於外罩（8 )進行操作。 2 5 . —種投影物鏡（5 )·特別是用於顯微蝕刻之蝕刻投影 設備（1 )，以在E U V範圍製造半導體構件，該投影物鏡（5 ) 21 1360675 案號：93127443 100年9月1日修正-替換頁 具有二或多個設置在一外罩（8)中的光學元件（7)，該等光 學元件（7 )之至少一係裝配為使得其可藉由申請專利範圍 第1 1項之操作設備而相對於外罩（8 )進行操作。 2 6.如申請專利範圍第2 5項之投影物鏡，更包含：
一第一力控制引動器（10)，其產生一 1自由度之有效 力，該第一力控制引動器（10)包含可彼此相對移動之一第 一元件（10a)與一第二元件（10b)，該第一元件（10a)與該第 二元件（1 0 b )係機械地分離以便在該第一元件（1 0 a )與該第 二元件（10b)之間僅有氣體或呈真空，其特徵在於該第二元 件（1 0 b)係經由一聯結元件（1 5 )機械地聯結至相同形式之 第二力控制引動器（10)的一元件（l〇b)，該第一與該第二力 控制引動器（1 0 )形成該等引動器裝置（9 )之一。
27. —種第一力控制引動器（10)，其產生一 1自由度之 有效力，該第一力控制引動器（1 0 )包含可彼此相對移動之 一第一元件（10a)與一第二元件（10b)，該第一元件（10a) 與該第二元件（1 0 b )係機械地分離以便在該第一元件（1 0 a ) 與該第二元件（1 0 b)之間僅有氣體或呈真空，其特徵在於該 第二元件（1 0 b )係經由一聯結元件（1 5 )機械地聯結至相同 形式之第二力控制引動器（1 0 )的一元件（1 0 b )，該第一與該 第二力控制引動器（1 0 )形成一引動器裝置（9 )。 2 8 .如申請專利範圍第2 7項之第一力控制引動器，其中 如果該第一與該第二力控制引動器（丨0 )·之至少一被引動， 則該聯結元件（I 5 )可移動成為至少丨自由度。 2 9.如申請專利範圍第28項之第一力控制引動器，其中 22 1360675 案號：93127443 100年9月1曰修正-替換頁 如果該第一與該第二力控制引動器均被引動，則該聯結元 件（15)可移動成為2自由度。 30. —種引動器裝置，其係用以直接連接一光學元件（7) 或一光學組件至一具有至少二個力控制引動器（1 0 )的結構 (8 )，該等力控制引動器係各自產生一沿著1自由度之有效 力且互相以大約6 0 ° 至大約1 2 0 ° 、較佳為9 0 ° 之角度而 被安排在一平面中；
該等力控制引動器（10)之一包含可彼此相對移動之一 第一元件（10a)與一第二元件（10b)，該第一元件（10a)與該 第二元件（1 0 b )係機械地分離以便在該第一元件（1 0 a )與該 第二元件（10b)之間僅有氣體或呈真空，其特徵在於該第二 元件（1 0 b )係經由一聯結元件（1 5 )機械地聯結至相同形式 之該等力控制引動器（10)之另一的一元件（10b)’該等力控 制引動器（1 0 )形成該引動器裝置（9 )。
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