CN1879046A - 光学元件操纵仪 - Google Patents
光学元件操纵仪 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1879046A CN1879046A CNA2004800333165A CN200480033316A CN1879046A CN 1879046 A CN1879046 A CN 1879046A CN A2004800333165 A CNA2004800333165 A CN A2004800333165A CN 200480033316 A CN200480033316 A CN 200480033316A CN 1879046 A CN1879046 A CN 1879046A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- optical element
- regulating device
- power controlled
- instrument
- gravity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 126
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 112
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 25
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 25
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 25
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 22
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 8
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims description 6
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 claims 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 2
- 230000008093 supporting effect Effects 0.000 description 12
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 230000009471 action Effects 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 4
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
- G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
- G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
- G02B7/1822—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors comprising means for aligning the optical axis
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
- G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
- G02B7/1822—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors comprising means for aligning the optical axis
- G02B7/1827—Motorised alignment
- G02B7/1828—Motorised alignment using magnetic means
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
- G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
- G02B7/183—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors specially adapted for very large mirrors, e.g. for astronomy, or solar concentrators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K41/00—Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
- H02K41/02—Linear motors; Sectional motors
- H02K41/035—DC motors; Unipolar motors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Public Health (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Astronomy & Astrophysics (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
- Lenses (AREA)
Abstract
本发明涉及到光学元件(7)操纵仪，其通过至少三个调节装置(9)在相对于结构(8)多达六个自由度上来操纵光学元件(7)。调节装置(9)每个都有至少两个由力控制的调节器，每个调节器沿一个自由度产生作用力，而调节装置(9)的链接点(11)则直接作用在光学元件(7)上。
Description
本发明涉及到光学元件操纵仪，其通过至少三个调节装置在相对于结构多达六个自由度上操纵光学元件。本发明还涉及到直接链接光学元件或光学组件的调节装置。本发明也涉及到通过至少三个调节装置在相对于结构多达六个自由度上操纵光学组件的仪器。此外，本发明还涉及到由力控制的调节器以及由力控制的调节装置。
从EP 1 312 965 A1人们知道了通过至少三个调节装置在相对于结构多达六个自由度上操纵光学元件的仪器。
光学元件，特别是镜子，主要在三个自由度进行操纵，而压电致动器例如就用于这一目的。
US 5,986,827公开了一种三自由度光学元件操纵仪。
但是，有些特殊应用，诸如在投影照明系统，尤其在EUVL范围内光学元件，光学组件或晶片台的精确定位则要求多达六个自由度(既有沿xyz的直线运动又有绕xyz轴的转动)的操纵或定位操作，同时还要有很高的精度。
人们知道在多达六个自由度上阻尼光学元件的受阻尼的力控制调节器，并称其为复合调节器。Porter Davis等在“Second GenerationHybrid D-Strut”(第二代复合D-支撑)一文中，Honeywell麻省理工学院；SPIE新式结构和材料会议，1995.2.加利福尼亚州，圣地亚哥，说明了这样的复合调节器。在那里含阻尼系统的劳伦兹力调节器构成了复合调节器。其中还说明了在六架配置中这些复合调节器的排列。在这种配置集中在有源阻尼问题的同时，本发明所涉及的调节器或调节系统使得几乎没有附加力传递到由调节器或调节系统所支持或调节的光学元件。
表达的自由度应当在机械含义上加以理解，因此刚性物体之影象运动的每种可能性都用一个单独的坐标来加以描述，这个坐标就代表了相关的自由度。如已经提到的直线运动和转动就是自由度的实例。
沿一个自由度产生移动的调节器，特别是压电致动器，通常都与光学元件或光学组件相链接来用于操纵。这种链接在作用力的方向上必须是刚性的而在其余的自由度上必须近似于无刚性，因为压电致动器在作用方向上产生的是位移力。在高精度应用中，通常是借助固体元件来达到这点，这就会引起一些不希望的附加力。因此另外还需要套筒用作补偿之用，以便防止畸变被传输到光学元件或光学组件。诸如此类的中间元件大大地降低了精确操纵所需之支承的高刚度，这样其中不利的结果就不能够达到上面所要求的位置精度。
关于现有技术，请参阅EP 1 001 512 A2，它公开了力控制调节器，特别是劳伦兹力调节器。那里所说明的劳伦兹力调节器有产生磁场的永久磁铁、磁场中设置其中有电流流过的元件。利用得到的劳伦兹力在劳伦兹力调节器的移动部件之间产生移动或力。
本发明以提供开始所提型式的仪器为目标，该仪器能够在多达六个自由度上对光学元件或组件进行精确的操作，目的是尽可能地防止引起不希望的畸变。
根据本发明，通过使调节装置每个都有至少两个力控制调节器，每个调节器沿一个自由度产生出作用力，而且调节装置的链接点直接作用在光学元件上而达到了这一目标。
调节装置之调节器的作用力最好指向光学元件不同自由度的方向。由调节器作用力所产生的调节装置的这种作用力可以在由调节器作用力限定的平面内通过调节调节装置之调节器的各自作用力加以调节。
此外，在调节装置与光学元件之间链接点上从调节装置到光学元件的作用力(由调节装置之调节器所引起的)几乎不存在与该作用力相垂直的力。这是因为在这个自由度上刚度几乎趋于零。但是，在由调节装置之调节器所引起的作用力方向上则存在最大的刚度。为了达到所说的刚度条件，根据本发明的调节器使用力控制调节器，它在一个自由度上产生作用力。这种调节器包括第一和第二元件。元件彼此相互可移动，而且第一元件与第二元件在机械上是断开的，所以在第一与第二元件之间只是气体或真空。
这种力控制调节器最好是基于劳伦兹力的调节器，其几乎不引起刚度，而且在元件间几乎没有阻尼。这种情况的优点是，除了在调节器相应自由度上的受控力，例如由磁场方向和大小及电流方向和大小所限定的劳伦兹力之外，几乎没有其他力从第一元件传输到第二元件。
为了构成根据本发明的调节装置，如上所述的第一力控制调节器的元件通过一耦合元件耦合到同样型式的第二力控制调节器的元件上。耦合元件也可以为光学元件或其部件，意思是指调节装置的每个调节器至少用第一或第二元件之一耦合到光学元件上。换句话说，耦合元件被直接耦合到光学元件上，而调节装置的每个调节器则至少用其第一或第二元件之一在机械上耦合到该耦合元件上。
在根据本发明的调节装置中，耦合元件3沿至少一个自由度移动，如果至少一个力控制调节器被启动的话。如果调节装置的两个力控制调节器都被启动的话，最好是耦合元件可沿两个自由度移动。
另外，调节装置的链接点可以使调节装置之调节器的移动部件直接接触光学元件。此外，如所提到的那样，耦合元件为光学元件。接触最好做成这样即其基本上为像点一样的接触，意思是说调节装置的所有调节器都作用在光学元件的同一点上。不过，还有其他接触几何形状也同样是可能的，这样调节装置的这些调节器就作用在光学器件的不同点上。如果调节装置中有不止两个调节器，则可进行组合，使得一些调节器可以作用在光学元件的同一点上，而其他调节器则作用在光学元件的其他点上。如所提到的那样，除此之外，调节装置的这些调节器或至少一个调节器还可以通过一独立的耦合元件作用到光学元件上，此独立的耦合元件为调节装置的一部分，其包括或构成了调节装置到光学元件的链接点。最好是耦合元件与两个调节器相连接，这样光学元件(由调节器引起的)移动就能够在由调节装置之两个调节器的自由度所限定的空间(通常为由所有自由度限定之空间的子空间)内进行。独立耦合元件具有在调节装置与光学元件之间形成更像点一样的链接点的优点。
另外，根据本发明，其目的也通过权利要求2和18来达到。关于调节装置，此目的通过权利要求33达到。
根据本发明的措施对光学元件或光学组件提供了在多达六个自由度上的精确而快速的操纵能力。使用力控制调节器，其基本上能够使与作用力方向不同的其余自由度保持不变，意味着不需要任何中间的挠性元件或套筒来补偿附加力，从而增加了设备例如在作用力方向上的总的刚度并提高了位置精度。
本发明还提供了要设置的三个调节装置，每个调节装置有至少两个力控制调节器，每个调节器允许有一个自由度。
调节装置最好彼此相对排列使得至少两个调节装置的自由度对由不同调节装置所给出的至少两个自由度是线性无关的。这些措施的结果是使得光学元件以有利的方式固定在允许沿多达六个自由度进行操纵或定位的设备内。光学元件在这种情况就不用附加的套筒进行固定，也就是说调节装置直接作用在光学元件上。
每个调节装置都有重力补偿装置是有利的。
当没有电流流过时，在力控制调节器移动部件中就没有力产生。这就是一个问题，特别是在调节器必须承受对象重力的应用中的一个问题，因为对此应用要求永久有电流流动，因而还连续生热。这对在热敏仪器中的应用是极为不利的。重力补偿避免了力控制调节器比如说承载光学元件全部质量的调节器必须在其中永久有电流流过的问题。这就有利地减少了功率损耗并降低了所生成的热能。
在本发明的一项研发中，还能够为由调节装置的链接点所覆盖的平面至少近似地落在光学元件的中面上提供保证。最好链接点限定的平面要靠近中面。这些平面最好排列成这样使平面在光学元件内的最大距离小于光学元件最大厚度的20％。
在刚性物体例如光学元件内部或外部的表面或面称之为中面，在中面内力和动量的引入—例如借助操纵装置等—对光学表面引起的畸变最小。类似地，例如在工件被弯曲时工件内没有应力的工作纤维被称之为中间纤维。与此相反，外侧和内侧纤维在弯曲过程中则受到拉伸或压缩。调节装置的链接点直接地作用在—没有任何中间套筒—光学元件上，为的是进一步改进光学元件对所引起畸变的支承或操纵能力，同时调节装置也以有利的方式作用在光学元件的中面上。
在本发明的一种设计改进中，还可以提供用于制造的可由无源替代组件代替的调节装置，其具有在制造阶段和后继应用匹配中的重力的方向和作用点。
由于调节装置可以用无源替代组件所代替，光学元件甚至在制造阶段也能够根据与后继操作期间相同的力学关系、特别是由重力对光学元件引起之畸变而进行的补偿来加以设计。这就意味着操作时的重力是由作用在严格确定点上的力来补偿的。当调节装置用无源替代组件所代替时，重力必须再次作用在同一点上。
调节装置之两个力控制调节器的作用力在所有情况下都通过一公共点是有利的，而且重力补偿装置的作用力在所有情况下都通过调节装置这两个力控制调节器作用力的这个公共点也是有利的。
特别是，这些措施减小了所引入之动量而造成的光学元件的畸变。
对权利要求2，18和33也得到了与关于权利要求1及说明书已经说明的优点相类似的优点。
在其他相关权利要求中可以找到本发明的有利的改进和研发成果。
原则上，在下文中依据附图将对典型的实施方案予以说明，附图中：
图1表示出含光源、照明系统和投影物镜的EUV投影照明系统的基本配置；
图2示出根据本发明之光学元件操纵仪的基本图解说明；
图3示出调节装置的基本图解说明；
图4示出根据本发明之仪器将镜子固定在投影物镜外壳内时的简化平面图；
图5示出根据本发明之仪器固定有镜子时的透视图；
图6示出调节装置的透视图；
图7示意性地表示出力控制调节器；及
图8示意性地示出与图3和图4所示相似的调节装置。
如从图1可以看到的那样，EUV投影照明系统1具有光源2，EUV照明系统3，其用来照亮平面4上安排有结构屏的区域，以及投影物镜5，其使平面4中的结构屏在光敏衬底6上成象。从EP 1 278 089 A2中可了解到像这样的EUV投影照明系统1。
在投影物镜5中通常要求有相对于投影物镜5的外壳8来操纵诸如镜子7或光学组件(未图解示出)等光学元件的能力。为此目的对与投影物镜5之外壳8相关的镜子7提供了与调节装置9的适当链接(在这方面请特别参阅图4和5)。在另一典型实施方案中，光学元件还可以相对于传感器框架或相对于投影物镜5的测量结构进行操纵。从DE 101 34 381 A1可了解像这样的测量结构。
图2以简化形式表示出借助三个调节装置9在六个自由度上操纵镜子7的情况。调节装置9有由力控制的劳伦兹力调节器10，也就是说通过力控制回路控制的调节器，并且每个调节器允许有一个自由度。调节器9与结构(图2中未图解示出)相连接。如图3，4和5中用图所说明的那样，举例来说，这一结构可以是投影照明系统1之投影物镜5的外壳8。
图3示出调节装置9的基本图解说明，其对镜子7有一个链接点11，对结构，也就是说对投影物镜5的外壳8有两个链接。两个劳伦兹力调节器10共同支持两个自由度并用来操纵镜子7。为了使劳伦兹力调节器10的能量损耗最小。调节装置9另外还有重力补偿装置12，其同样与外壳8相链接，使本典型实施方案中用于此目的的弹簧元件12作为反作用力元件以便补偿镜子7的重力。调节装置9中出现的力通过一共同点从重力补偿装置12和两个劳伦兹力调节器顺利通过，从而使镜子7光学表面的畸变最小，特别是在出现动量的时候。劳伦兹力调节器10都处在一个平面上，彼此呈90°角。本典型实施方案中重力补偿装置12的作用力方向与重力方向相平行，而劳伦兹力调节器10则对称地处在重力补偿装置12的两侧。在其他典型实施方案中，例如在镜子7倾斜配置的情况下，调节装置9无需一定对称。
在另一典型实施方案中的链接点11也可以在机械上与镜子7断开联系(例如借助磁力通过力耦合来断开)。
图7示意性地表示出根据本发明的力控制调节器。调节器10包括第一元件10a和第二元件10b。元件10a和10b可彼此相对移动。元件10a，10b与部件A，B相连接，其中在本发明的应用中，一个部件是光学元件，而另一部件是一结构如外壳。第一和第二元件10a，10b在机械上断开，这样在两个元件之间的间隙10c中只是气体或真空。最好元件10a，10b中的一个元件包括电磁线圈10d。如果电磁线圈10d受到电流的作用，间隙10c或其一部分就发生改变，与部件A，B一起的元件10a，10b则彼此相对移动。最好间隙10c的大小使得能在x和/或z方向上达到+/-300微米的位移。
图8示意性地表示出同一类型的两个力控制调节器10，它们构成了根据本发明的调节装置9。两个调节器10均具有如关于图7所说明的型式，但它们在机械上用耦合元件15耦合在一起。在所示的实施方案中，每个调节器10的一个元件10a与基础结构A相连接，而两个调节器的另一元件10b则与耦合元件15相连接。两个调节器10的间隙10c都做成能够使耦合元件在xz平面内的任意方向上移动例如约+/-300微米，这样在各调节器10的第一和第二元件10a，10b之间就不存在直接接触。
若根据图7的调节器是劳伦兹力调节器，图7调节器的力就作用在z方向上。通常必须有支承将这种可移动元件如元件10b固定在yz平面内，此平面与移动方向相垂直。根据本发明的支承不是机械的。因为力控制调节器10的第一和第二元件10a，10b在机械上被断开了。支承最好是电磁力或磁力支承。
在图8的调节装置9中，如果两个调节器为例如如关于图7所述的劳伦兹力型调节器，那么在xz平面(由构成调节装置的两个力控制调制器的力所限定的平面)内的耦合元件15(其本身也可能是光学元件)的支承就是通过磁力支承实现的。但是，在yz平面(与构成调节装置的两个力控制调节器的力所限定的平面相垂直的平面)中不存在支承，若支承磁铁也用于此方向则除外。这样力控制调节器10的第一和第二元件10a，10b在机械上就是断开的。代替或除了yz平面中的磁力支承以外，还可以把第三个力控制调节器与耦合元件15相连接。这个第三调节器设置在除xz平面(由构成调节装置的两个力控制调节器的力所限定的平面)以外的平面内。由于这样的设置，耦合元件(其可以是光学元件)可以在没有机械支承的情况下而被支承住并可在五个自由度上移动。
图4表示出根据本发明投影物镜5外壳8内镜子7所用支承的简化平面图。镜子7借助三个调节装置9进行操纵，每个调节装置相对于外壳8有两个自由度。调节装置9用虚线表示。因为如从图5可看到的那样，它们设置在镜子7底下。调节装置9绕镜子7圆周以120°的均匀间隔排列分布。由调节装置9其中之一的各个力控制调节器10所覆盖的三个平面最好是与重力平行但并非必须与重力平行，并且在平面图中看时，它们形成了一个三角形(由图4中调节装置9的虚线延长线所示出)。最好如对图8所说明的那样来构成调节装置。
图5表示出图4所示仪器的透视图。由调节装置9之链接点11所覆盖的平面有利地落在镜子7的中面上，从而减小了镜子表面的畸变。在这一实施方案中，由于使用了三个调节装置用于光学元件7的支承，有利的是在力控制调节器的固定元件与流动元件之间没有机械耦合或连接。此外，重要的是还要说明，在图4的实施方案中，由于使用三个调节装置9，除了在力控制调节装置9的作用力方向上有刚性之外几乎没有刚性和阻尼。
图6表示出具有劳伦兹力调节器10和重力补偿弹簧12的调节装置9的透视图。调节装置9在链接点11(见图4)与镜子7相连接。如对图8所说明的那样可在耦合元件15上形成链接点11。
此外，镜子7的位置借助传感器(未予图解说明)加以确定。
在制造阶段可以使用无源替代组件以便能够在与后续操作期间相同的力学关系下设计镜子7，并且能够对由重力而引起的镜子畸变作出补偿(未予图解说明)。
Claims (44)
1.光学元件操纵仪，其通过至少三个调节装置在对结构多达六个自由度上可操纵光学元件，其中调节装置(9)每个有至少两个力控制调节器(10)，每个力控制调节器在一个自由度上产生作用力，调节装置(9)的链接点(11)则直接作用在光学元件(7)上。
2.光学元件操纵仪，其通过至少三个调节装置在对结构多达六个自由度上可操纵光学元件，其中调节装置(9)的链接点(11)直接作用在光学元件(7)上，光学元件(7)上由调节装置(9)之链接点(11)所覆盖的平面至少近似地落在光学元件(7)的中面上。
3.按权利要求1或2所要求的光学元件操纵仪，其中设置三个调节装置(9)。
4.按权利要求2或3所要求的光学元件操纵仪，其中调节装置(9)每个都有至少两个力控制调节器(10)，每个调节器沿一个自由度产生作用力。
5.按权利要求1-4其中之一所要求的光学元件操纵仪，其中调节装置(9)的该至少两个力控制调节器(10)在所有情况下都排列在一平面内彼此相互成近似60°-120°的角度，最好是90°。
6.按权利要求1-5其中之一所要求的光学元件操纵仪，其中调节装置(9)每个都有重力补偿装置(12)作为反作用力元件以补偿光学元件(7)的重力。
7.按权利要求1，3-6其中之一所要求的光学元件操纵仪，其中由调节装置(9)的各个力控制调节器(10)所覆盖的三个平面与重力相平行，并在与重力平行的投影中形成一个三角形。
8.按权利要求1-7其中之一所要求的光学元件操纵仪，其中调节装置(9)绕光学元件(7)每隔一定间隔、最好以三个120°的间隔基本上均匀地进行排列。
9.按权利要求1，3-8其中之一所要求的光学元件操纵仪，其中由光学元件(7)上调节装置(9)的链接点(11)所覆盖的平面至少近似地落在光学元件(7)的中面上。
10.按权利要求1，3-9其中之一所要求的光学元件操纵仪，其中调节装置(9)的该至少两个力控制调节器(10)的作用力在所有情况下都通过一共同点，最好是光学元件(7)上的一个共同点。
11.按权利要求6-10其中之一所要求的光学元件操纵仪，其中重力补偿装置(12)的作用力与重力基本上平行，并且最好在所有情况下都通过调节装置(9)的该两个力控制调节器(10)之作用力的共同点。
12.按权利要求6-11其中之一所要求的光学元件操纵仪，其中在所有情况下调节装置(9)的该至少两个力控制调节器(10)的作用力和/或重力补偿装置(12)在机械上与光学元件(7)断开，最好是通过磁力断开。
13.按权利要求1-12其中之一所要求的光学元件操纵仪，其中设置有传感器来确定光学元件(7)的位置。
14.按权利要求1-13其中之一所要求的光学元件操纵仪，其中出于制造应用的目的，调节装置(9)可以用具有在制造阶段和后续应用匹配中力的方向和作用点的无源替代组件来代替。
15.按权利要求1，3-14其中之一所要求的光学元件操纵仪，其中力控制调节器呈电磁力或静磁力、特别是劳伦兹力调节器(10)的形式。
16.按权利要求1-15其中之一所要求的仪器，其中光学元件呈镜子(7)的形式。
17.按权利要求1-16其中之一所要求的光学元件操纵仪，其中结构为投影物镜(5)的外壳(8)或传感器框架，特别是用于用微光刻生产EUV范围内半导体器件的投影照明系统(1)的外壳(8)或传感器框架。
18.光学组件操纵仪，其通过至少三个调节装置在对结构多达六个自由度上可操纵光学组件，其中调节装置(9)每个有至少两个力控制调节器(10)，每个力控制调节器在一个自由度上产生作用力。
19.按权利要求18中所要求的光学组件操纵仪，其中设置三个调节装置(9)。
20.按权利要求18或19所要求的光学组件操纵仪，其中调节装置(9)的该至少两个力控制调节器(10)在所有情况下都排列在一平面内彼此相互成近似60°-120°的角度，最好是90°。
21.按权利要求18，19或20其中之一所要求的光学组件操纵仪，其中调节装置(9)每个都有重力补偿装置(12)作为反作用力元件以补偿光学组件的重力。
22.按权利要求18-21其中之一所要求的光学组件操纵仪，其中由调节装置(9)的各个力控制调节器(10)所覆盖的三个平面与重力相平行，并在与重力平行的投影中形成一个三角形。
23.按权利要求18-22其中之一所要求的光学组件操纵仪，其中调节装置(9)绕光学组件每隔一定间隔、最好以三个120°的间隔基本上均匀地进行排列。
24.按权利要求18-23其中之一所要求的光学组件操纵仪，其中调节装置(9)的该至少两个力控制调节器(10)的作用力在所有情况下都通过一个共同点、最好是光学组件上的一个共同点。
25.按权利要求18-24其中之一所要求的光学组件操纵仪，其中重力补偿装置(12)的作用力与重力基本上平行，并且最好在所有情况下都通过调节装置(9)的该两个力控制调节器(10)之作用力的共同点。
26.按权利要求18-25其中之一所要求的光学组件操纵仪，其中在所有情况下调节装置(9)的该至少两个力控制调节器(10)的作用力和/或重力补偿装置(12)在机械上与光学组件断开，最好是通过磁力断开。
27.按权利要求8-26其中之一所要求的光学组件操纵仪，其中设置传感器来确定光学组件的位置。
28.按权利要求18-27其中之一所要求的光学组件操纵仪，其中出于制造应用的目的，调节装置(9)可以用具有在制造阶段和后续应用匹配中力的方向和作用点的无源替代组件来代替。
29.按权利要求18-28其中之一所要求的光学组件操纵仪，其中力控制调节器呈电磁力或静磁力、特别是劳伦兹力调节器(10)的形式。
30.按权利要求18-29其中之一所要求的光学组件操纵仪，其中该结构为投影物镜(5)的外壳(8)或传感器框架，特别是用于用微光刻生产EUV范围内半导体器件的投影照明系统(1)的外壳(8)或传感器框架。
31.按权利要求18-30其中之一所要求的光学组件操纵仪，其中光学组件具有至少一个光学元件和至少一个套筒元件。
32.投影物镜(5)，特别是用于用微光刻生产EUV范围内半导体器件的投影照明系统(1)，其具有两个或多个排列在外壳(8)内的光学元件(7)，使至少一个光学元件(7)固定成能够借助权利要求1-17其中之一所要求的仪器相对于外壳(8)对其进行操纵。
33.直接将光学元件(7)或光学组件与外壳(8)相链接起来的调节装置，其具有至少两个力控制调节器(10)，这两个调节器每个都沿一个自由度产生作用力并且排列在一个平面内彼此相互成近似60°-120°的角度，最好是90°。
34.按权利要求33所要求的调节装置，其中该至少两个力控制调节器(10)的作用力在所有情况下都通过一共同点，最好是光学元件(7)或光学组件上的一个共同点。
35.按权利要求33或34所要求的调节装置，其特色是为补偿光学元件(7)或光学组件的重力而用作反作用力元件的重力补偿装置(12)，它的作用力基本上与重力平行，并且最好通过该两个力控制调节器(10)之作用力的公共交叉点。
36.按权利要求33，34或35所要求的调节装置，其中光学元件(7)上的链接点(11)至少近似地落在光学元件(7)的中面上。
37.力控制调节器(10)，该力控制调节器(10)沿一个自由度产生作用力，调节器(10)包括第一元件(10a)和第二元件(10b)，它们彼此可相对移动，第一元件(10a)与第二元件(10b)在机械上断开，这样在第一和第二元件(10a，10b)之间只是气体或真空。
38.根据权利要求37的第一力控制调节器(10)，其特征在于，一个元件(10b)通过一耦合元件(15)与同一类型的第二力控制调节器(10)的元件(10b)在机械上相耦合，这两个调节器(10)构成一调节装置(9)。
39.权利要求38的调节装置，其中如果启动至少一个力控制调节器的话，耦合元件(15)可在至少一个自由度中移动。
40.权利要求39的调节装置，其中如果启动两个力控制调节器的话，耦合元件(15)可在两个自由度中移动。
41.根据权利要求33-36其中之一的调节装置，具有根据权利要求37的力控制调节器。
42.根据权利要求1-31的光学元件操纵仪，具有根据权利要求37的力控制调节器。
43.权利要求32的投影物镜，具有根据权利要求37的力控制调节器。
44.根据权利要求37-40其中之一的力控制调节器的应用，其应用在根据权利要求1-31的光学元件操纵仪或权利要求32的投影物镜中。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US50233403P | 2003-09-12 | 2003-09-12 | |
| US60/502,334 | 2003-09-12 | ||
| PCT/EP2004/009941 WO2005026801A2 (en) | 2003-09-12 | 2004-09-07 | Apparatus for manipulation of an optical element |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1879046A true CN1879046A (zh) | 2006-12-13 |
| CN1879046B CN1879046B (zh) | 2010-07-14 |
Family
ID=34312383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2004800333165A Expired - Fee Related CN1879046B (zh) | 2003-09-12 | 2004-09-07 | 光学元件操纵仪 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US20070052301A1 (zh) |
| EP (1) | EP1664880A2 (zh) |
| JP (2) | JP5041810B2 (zh) |
| KR (1) | KR101129119B1 (zh) |
| CN (1) | CN1879046B (zh) |
| TW (1) | TWI360675B (zh) |
| WO (1) | WO2005026801A2 (zh) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9366976B2 (en) | 2009-09-08 | 2016-06-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical element with low surface figure deformation |
| CN107145040A (zh) * | 2017-06-30 | 2017-09-08 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 光学元件运动学支撑装置、投影物镜和光刻机 |
| CN108227110A (zh) * | 2018-01-30 | 2018-06-29 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种反射镜调节与固定装置 |
| CN109696752A (zh) * | 2019-01-31 | 2019-04-30 | 华中科技大学苏州脑空间信息研究院 | 光学元器件的全自由度调节装置及其重复定位方法 |
| CN109765937A (zh) * | 2019-01-31 | 2019-05-17 | 华中科技大学苏州脑空间信息研究院 | 全自由度调节的扫描装置及运动建模方法及控制方法 |
| CN115980962A (zh) * | 2022-11-30 | 2023-04-18 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种聚光结构、装置以及系统 |
Families Citing this family (51)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5041810B2 (ja) * | 2003-09-12 | 2012-10-03 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学素子操作装置 |
| WO2005083487A1 (en) | 2004-02-26 | 2005-09-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Housing structure |
| US7738193B2 (en) | 2004-06-29 | 2010-06-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Positioning unit and alignment device for an optical element |
| WO2007086557A1 (ja) * | 2006-01-30 | 2007-08-02 | Nikon Corporation | 光学部材保持装置、光学部材の位置調整方法、及び露光装置 |
| EP1882983A1 (en) * | 2006-07-25 | 2008-01-30 | Carl Zeiss SMT AG | Gravity compensating support for an optical element |
| DE102007047109A1 (de) | 2007-10-01 | 2009-04-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System, insbesondere Projektionsobjektiv der Mikrolithographie |
| DE102008054581A1 (de) | 2008-02-29 | 2009-09-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage sowie Komponentenhalterung, Retikel-Halteeinrichtung und Wafer-Halteeinrichtung für ein derartiges Projektionssystem |
| FR2933782B1 (fr) * | 2008-07-11 | 2010-08-13 | Thales Sa | Dispositif de correction des defauts optiques d'un miroir de telescope |
| DE102009034166A1 (de) * | 2008-08-11 | 2010-02-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Kontaminationsarme optische Anordnung |
| DE102009033818A1 (de) | 2008-09-19 | 2010-03-25 | Carl Zeiss Smt Ag | Temperiervorrichtung für eine optische Baugruppe |
| WO2010049020A1 (de) * | 2008-10-31 | 2010-05-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungsoptik für die euv-mikrolithographie |
| DE102010028941B4 (de) * | 2010-05-12 | 2012-03-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung für eine optische Anordnung und Verfahren zum Positionieren eines optischen Elements einer optischen Anordnung |
| DE102011079072A1 (de) | 2010-07-26 | 2012-03-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren sowie Anordnung zur Aktuierung eines optischen Elementes |
| TWI509366B (zh) | 2010-07-30 | 2015-11-21 | 卡爾蔡司Ｓｍｔ有限公司 | 超紫外線曝光裝置 |
| FR2967742B1 (fr) * | 2010-11-23 | 2013-11-22 | Astrium Sas | Dispositif d'isolation vibratoire |
| DE102011088735A1 (de) | 2010-12-20 | 2012-06-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung zur Halterung eines optischen Elementes, insbesondere in einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102011004299A1 (de) | 2011-02-17 | 2012-08-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung zur Halterung eines optischen Elementes, insbesondere in einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage |
| WO2012110406A1 (en) | 2011-02-17 | 2012-08-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical mount and euv exposure apparatus |
| DE102011082994A1 (de) | 2011-09-20 | 2013-03-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung zur Halterung eines optischen Elementes, insbesondere in einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage |
| JP5864762B2 (ja) | 2011-10-07 | 2016-02-17 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | リソグラフィシステムの光学素子の動きの制御方法 |
| DE102011086513A1 (de) | 2011-11-16 | 2013-05-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie |
| DE102012202167A1 (de) * | 2012-02-14 | 2013-08-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung zur magnetfeldkompensierten Positionierung eines Bauelements |
| NL2011276A (en) * | 2012-09-06 | 2014-03-10 | Asml Netherlands Bv | Inspection method and apparatus and lithographic processing cell. |
| WO2014054034A2 (en) | 2012-10-05 | 2014-04-10 | Koninklijke Philips N.V. | Rotary positioning device |
| US20140133897A1 (en) * | 2012-11-12 | 2014-05-15 | Micheal Brendan O Ceallaigh | Flexurally mounted kinematic coupling with improved repeatability |
| DE102013201082A1 (de) * | 2013-01-24 | 2014-03-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung zur Aktuierung eines Elementes in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102013203032A1 (de) | 2013-02-25 | 2014-02-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung mit einem optischen Element und einem zusätzlichen Wärmeleitelement |
| DE102013204317B4 (de) | 2013-03-13 | 2015-07-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Baugruppe einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102013204305A1 (de) * | 2013-03-13 | 2014-09-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung zur Aktuierung wenigstens eines Elementes in einem optischen System |
| JP6432744B2 (ja) * | 2013-12-27 | 2018-12-05 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 光学部材駆動装置及び投写型映像表示装置 |
| NL1040605C2 (en) * | 2014-01-15 | 2015-07-16 | Janssen Prec Engineering | Electromagnetically actuated hexapod for nanometric positioning. |
| NL1040702B1 (en) * | 2014-03-04 | 2015-10-27 | Janssen Prec Eng | Cryo hexapod positioning system. |
| KR20160144491A (ko) | 2014-04-17 | 2016-12-16 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 |
| DE102015201255A1 (de) | 2015-01-26 | 2016-03-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung und Lithographieanlage mit Anordnung |
| US10471610B2 (en) | 2015-06-16 | 2019-11-12 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Robot arm having weight compensation mechanism |
| DE102015217119A1 (de) | 2015-09-08 | 2017-03-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Elektromagnetischer Antrieb mit einem Stator und einem Statorhalter |
| DE102015220494A1 (de) | 2015-10-21 | 2016-10-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Tauchspulenaktuator |
| DE102015225537B4 (de) | 2015-12-17 | 2019-11-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung zur Ausrichtung eines Bauteils, Betätigungseinrichtung und Projektionsbelichtungsanlage |
| WO2017207016A1 (en) * | 2016-05-30 | 2017-12-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical imaging arrangement with a piezoelectric device |
| CN117283539A (zh) * | 2016-09-30 | 2023-12-26 | 3Sae技术有限公司 | 多轴相对定位台 |
| US11681100B2 (en) | 2016-09-30 | 2023-06-20 | 3Sae Technologies, Inc. | Multi-axis positioner |
| DE102016226085A1 (de) | 2016-12-22 | 2017-03-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Gewichtskraftkompensationseinrichtung |
| DE102017206494A1 (de) | 2017-04-18 | 2017-06-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung zur Halterung eines optischen Elementes in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102017207763A1 (de) | 2017-05-09 | 2018-04-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Gelenkanordnung für ein optisches Element, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102017209794B4 (de) | 2017-06-09 | 2023-05-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Ausrichtung eines optischen Elements, sowie Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102017212773A1 (de) | 2017-07-25 | 2019-01-31 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Gewichtskraftkompensationseinrichtung |
| DE102018216934A1 (de) | 2018-10-02 | 2019-09-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Baugruppe, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102018216964A1 (de) | 2018-10-02 | 2020-04-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Aktuatoreinrichtung zur Ausrichtung eines Elements, Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie und Verfahren zur Ausrichtung eines Elements |
| DE102018219375A1 (de) | 2018-11-13 | 2019-01-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Lastabtragende Haltestruktur |
| DE102019202868A1 (de) * | 2019-03-04 | 2020-09-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Aktuatoreinrichtung und Verfahren zur Ausrichtung eines optischen Elements, optische Baugruppe sowie Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102020205306A1 (de) | 2020-04-27 | 2021-10-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Baugruppe, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
Family Cites Families (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4726671A (en) * | 1986-06-19 | 1988-02-23 | The Perkin-Elmer Corporation | High resonance adjustable mirror mount |
| JP2878955B2 (ja) * | 1993-04-08 | 1999-04-05 | 日立金属株式会社 | 高精度リニアモータ |
| EP0642084A1 (de) * | 1993-08-04 | 1995-03-08 | Siemens Aktiengesellschaft | Integrierte Logikschaltung mit Testmöglichkeit |
| DE4329928A1 (de) * | 1993-09-04 | 1995-03-09 | Zeiss Carl Fa | Spiegelstützsystem mit Kraftmeßzellen |
| JP3506158B2 (ja) * | 1995-04-14 | 2004-03-15 | 株式会社ニコン | 露光装置及び走査型露光装置、並びに走査露光方法 |
| DE29607680U1 (de) * | 1996-04-27 | 1996-06-20 | Carl Zeiss Jena Gmbh, 07745 Jena | Anordnung zur Verringerung der Crashgefahr bei universellen Positioniersystemen |
| JP3678887B2 (ja) | 1997-03-18 | 2005-08-03 | 株式会社リコー | 三次元形状測定装置 |
| FR2761486B1 (fr) * | 1997-03-28 | 1999-05-21 | Centre Nat Etd Spatiales | Dispositif de positionnement micrometrique d'un support d'element optique spatial selon six degres de liberte |
| FR2773890B1 (fr) * | 1998-01-22 | 2001-11-23 | Aerospatiale | Ensemble integre et compact de montage isostatique et de correction de position d'un organe, tel qu'un miroir, d'un telescope spatial |
| JPH11251409A (ja) * | 1998-03-02 | 1999-09-17 | Nikon Corp | 位置決め装置、及び露光装置 |
| JPH11274031A (ja) | 1998-03-20 | 1999-10-08 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法ならびに位置決め装置 |
| JPH11274301A (ja) | 1998-03-23 | 1999-10-08 | Nkk Corp | メタル配線構造体 |
| US5986827A (en) * | 1998-06-17 | 1999-11-16 | The Regents Of The University Of California | Precision tip-tilt-piston actuator that provides exact constraint |
| EP1001512A3 (en) | 1998-11-10 | 2001-02-14 | Asm Lithography B.V. | Actuator and transducer |
| TW526630B (en) * | 1998-11-10 | 2003-04-01 | Asml Netherlands Bv | Actuator and transducer |
| TW490598B (en) * | 1999-11-30 | 2002-06-11 | Asm Lithography Bv | Lithographic projection apparatus and method of manufacturing a device using a lithographic projection apparatus |
| TW509823B (en) * | 2000-04-17 | 2002-11-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| US6556364B2 (en) * | 2000-04-25 | 2003-04-29 | Michael F. Meehan | Apparatus, system, and method for precision positioning and alignment of a lens in an optical system |
| JP4945864B2 (ja) * | 2000-08-18 | 2012-06-06 | 株式会社ニコン | 保持装置、光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法 |
| KR100775796B1 (ko) | 2000-08-18 | 2007-11-12 | 가부시키가이샤 니콘 | 광학소자 유지장치 |
| JP2002359170A (ja) * | 2001-05-30 | 2002-12-13 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
| DE10134387A1 (de) | 2001-07-14 | 2003-01-23 | Zeiss Carl | Optisches System mit mehreren optischen Elementen |
| US6543740B2 (en) * | 2001-09-04 | 2003-04-08 | National Research Council Of Canada | Mechanism for transmitting movement in up to six degrees-of-freedom |
| TWI244119B (en) * | 2001-11-07 | 2005-11-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| EP1321822A1 (en) | 2001-12-21 | 2003-06-25 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US6850675B1 (en) * | 2002-02-04 | 2005-02-01 | Siwave, Inc. | Base, payload and connecting structure and methods of making the same |
| JP2003346359A (ja) * | 2002-05-27 | 2003-12-05 | Pioneer Electronic Corp | レンズ駆動装置用コイル基板及びレンズ駆動装置 |
| JP2004062091A (ja) * | 2002-07-31 | 2004-02-26 | Canon Inc | 保持装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP2004281644A (ja) * | 2003-03-14 | 2004-10-07 | Canon Inc | 駆動機構及びそれを用いた露光装置、デバイスの製造方法 |
| JP2004281654A (ja) * | 2003-03-14 | 2004-10-07 | Canon Inc | 駆動機構及びそれを用いた露光装置、デバイスの製造方法 |
| EP1457834A3 (en) * | 2003-03-14 | 2008-10-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus, exposure apparatus and method for producing device |
| US7281808B2 (en) * | 2003-06-21 | 2007-10-16 | Qortek, Inc. | Thin, nearly wireless adaptive optical device |
| JP4649136B2 (ja) * | 2003-07-31 | 2011-03-09 | キヤノン株式会社 | アクチュエータ、露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP2005072221A (ja) * | 2003-08-25 | 2005-03-17 | Nikon Corp | 露光装置及びその調整方法 |
| JP5041810B2 (ja) * | 2003-09-12 | 2012-10-03 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学素子操作装置 |
| US20070284502A1 (en) * | 2006-06-13 | 2007-12-13 | Nikon Corporation | Hexapod kinematic mountings for optical elements, and optical systems comprising same |
-
2004
- 2004-09-07 JP JP2006525734A patent/JP5041810B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-07 WO PCT/EP2004/009941 patent/WO2005026801A2/en active Application Filing
- 2004-09-07 KR KR1020067004904A patent/KR101129119B1/ko active IP Right Grant
- 2004-09-07 US US10/571,708 patent/US20070052301A1/en not_active Abandoned
- 2004-09-07 CN CN2004800333165A patent/CN1879046B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-07 EP EP04764887A patent/EP1664880A2/en not_active Withdrawn
- 2004-09-10 TW TW093127443A patent/TWI360675B/zh not_active IP Right Cessation
-
2008
- 2008-10-07 US US12/246,992 patent/US20090050776A1/en not_active Abandoned
-
2010
- 2010-03-03 US US12/716,357 patent/US8179621B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-05-17 JP JP2012113006A patent/JP5779545B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9366976B2 (en) | 2009-09-08 | 2016-06-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical element with low surface figure deformation |
| CN107145040A (zh) * | 2017-06-30 | 2017-09-08 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 光学元件运动学支撑装置、投影物镜和光刻机 |
| CN108227110A (zh) * | 2018-01-30 | 2018-06-29 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种反射镜调节与固定装置 |
| CN109696752A (zh) * | 2019-01-31 | 2019-04-30 | 华中科技大学苏州脑空间信息研究院 | 光学元器件的全自由度调节装置及其重复定位方法 |
| CN109765937A (zh) * | 2019-01-31 | 2019-05-17 | 华中科技大学苏州脑空间信息研究院 | 全自由度调节的扫描装置及运动建模方法及控制方法 |
| CN109696752B (zh) * | 2019-01-31 | 2021-05-18 | 华中科技大学苏州脑空间信息研究院 | 光学元器件的全自由度调节装置及其重复定位方法 |
| CN109765937B (zh) * | 2019-01-31 | 2021-12-21 | 华中科技大学苏州脑空间信息研究院 | 全自由度调节的扫描装置及运动建模方法及控制方法 |
| CN115980962A (zh) * | 2022-11-30 | 2023-04-18 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种聚光结构、装置以及系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1879046B (zh) | 2010-07-14 |
| US20070052301A1 (en) | 2007-03-08 |
| WO2005026801A2 (en) | 2005-03-24 |
| US8179621B2 (en) | 2012-05-15 |
| JP5779545B2 (ja) | 2015-09-16 |
| TW200519445A (en) | 2005-06-16 |
| WO2005026801A3 (en) | 2005-06-16 |
| JP5041810B2 (ja) | 2012-10-03 |
| US20100157270A1 (en) | 2010-06-24 |
| EP1664880A2 (en) | 2006-06-07 |
| KR101129119B1 (ko) | 2012-03-26 |
| TWI360675B (en) | 2012-03-21 |
| JP2007505345A (ja) | 2007-03-08 |
| JP2012190041A (ja) | 2012-10-04 |
| US20090050776A1 (en) | 2009-02-26 |
| KR20070019642A (ko) | 2007-02-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1879046A (zh) | 光学元件操纵仪 | |
| EP0977244B1 (en) | Stage system and stage driving method for use in exposure apparatus | |
| CN108519672B (zh) | 用于致动光学系统中的至少一个光学元件的装置 | |
| US7742149B2 (en) | Stage system and lithographic apparatus comprising such a stage system | |
| US9696518B2 (en) | Position manipulator for an optical component | |
| WO2008012336A1 (en) | Support for an optical element | |
| US9804500B2 (en) | Optical imaging arrangement with simplified manufacture | |
| EP2815278A2 (en) | Optical component | |
| JP6501793B2 (ja) | 変形装置を備えた光学モジュール及び光学素子を変形させる方法 | |
| WO2011012263A1 (en) | Holding arrangement for an optical element | |
| US20210255554A1 (en) | Module for a projection exposure apparatus for semiconductor lithography with a semi-active spacer, and method for using the semi-active spacer | |
| US20080218720A1 (en) | Exposure apparatus and method of manufacturing device | |
| WO2008122626A2 (en) | Optical element module with imaging error and position correction | |
| US11320749B2 (en) | Actuator device for aligning an element, projection exposure apparatus for semiconductor lithography, and method for aligning an element | |
| KR20190133106A (ko) | 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 조립체 | |
| US11054755B2 (en) | Optical module with an anticollision device for module components | |
| CN111736298B (zh) | 光学装置、曝光装置以及物品制造方法 | |
| WO2007080523A1 (en) | Maglev object positioning apparatus and method for positioning an object and maintaining position with high stability |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CI01 | Publication of corrected invention patent application |
Correction item: Inventor Correct: Rassel Thorsten False: Lippert Johannes Number: 28 Volume: 26 |
|
| CI02 | Correction of invention patent application |
Correction item: Inventor Correct: Rassel Thorsten False: Lippert Johannes Number: 28 Page: Description Volume: 26 |
|
| ERR | Gazette correction |
Free format text: CORRECT: INVENTOR; FROM: J. COPPERT TO: J. LIPPERT Free format text: CORRECT: INVENTOR; FROM: J. KEPPERT TO: JOHANNES LIPPERT |
|
| C56 | Change in the name or address of the patentee |
Owner name: CARL ZEISS SMT CO., LTD. Free format text: FORMER NAME: CARL ZEISS SMT AG |
|
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: Germany Cohen Patentee after: CARL ZEISS SMT GmbH Address before: Germany Cohen Patentee before: Carl Zeiss SMT AG |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20100714 Termination date: 20180907 |