JP6501793B2 - 変形装置を備えた光学モジュール及び光学素子を変形させる方法 - Google Patents
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Claims (39)
- 特にマイクロリソグラフィ用の光学モジュールであって、
光学素子と、
変形装置と
を備え、前記変形装置は、複数の変形デバイスを備え、前記変形デバイスは、前記光学素子の光学面に面しない前記光学素子の一方側にわたって格子状に分布され、かつ規定可能な変形を前記光学素子の前記光学面に導入するよう構成され、
前記変形デバイスは、第1変形ユニット、第2変形ユニット、及び第3変形ユニットを含み、
前記第1変形ユニットは、前記光学素子の第1部分に機械的に接続され、制御信号に応じて、前記光学素子の前記第1部分に加わる規定可能な第1変形力を発生させるよう構成された第1力発生ユニットの一部を形成し、
前記第2変形ユニットは、前記光学素子の第2部分に機械的に接続され、特に、前記制御信号に応じて、前記光学素子の前記第2部分に加わる規定可能な第2変形力を発生させるよう構成された第2力発生ユニットの一部を形成し、
前記第1変形力及び前記第2変形力は、少なくとも1つの動作状態で、前記光学素子に対する正味の合力が少なくとも実質的にゼロになるように少なくとも実質的に打ち消し合い、
前記第3変形ユニットは、前記第1力発生ユニットと前記第2力発生ユニットとの間で共有される共有の力発生コンポーネントであり、前記第1変形ユニットが前記第3変形ユニットと協働して前記第1変形力を発生させ、前記第2変形ユニットが前記第3変形ユニットと協働して第2変形力を発生させる光学モジュール。 - 請求項1に記載の光学モジュールにおいて、
前記第3変形ユニットは、前記第1力発生ユニット及び前記第2力発生ユニットの少なくとも一方の能動コンポーネントであり、
前記第1変形ユニット及び前記第2変形ユニットの少なくとも一方は、特に、受動コンポーネントである光学モジュール。 - 請求項1又は2に記載の光学モジュールにおいて、
前記第1力発生ユニット及び前記第2力発生ユニットの少なくとも一方は、非接触アクチュエータ式に動作するよう構成され、且つ/又は
前記第1力発生ユニット及び前記第2力発生ユニットの少なくとも一方は、ローレンツアクチュエータ式に動作するよう構成され、且つ/又は
前記第1力発生ユニット及び前記第2力発生ユニットの少なくとも一方は、フォースアクチュエータ式に動作するよう構成される光学モジュール。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学モジュールにおいて、
前記第1力発生ユニット及び前記第2力発生ユニットの少なくとも一方は、磁石デバイス及び電気コイルデバイスを含み、
前記第3変形ユニットは、特に、前記電気コイルデバイスを含み、
前記第1変形ユニット及び前記第2変形ユニットの少なくとも一方は、特に、前記磁石デバイスを含む光学モジュール。 - 請求項4に記載の光学モジュールにおいて、
前記電気コイルデバイスは、電流が印加されると少なくとも1つの磁気ユニット、特に磁気ヨークユニットと協働して前記第1変形力及び前記第2変形力の少なくとも一方を発生させるよう構成された少なくとも1つのメイン電気コイルユニットを含み、
前記電気コイルデバイスは、特に、前記少なくとも1つの磁気ユニットと協働して前記第1変形力及び前記第2変形力の一方の力レベルを調整するよう構成された少なくとも1つの力レベルトリミング電気コイルユニットを含み、該力レベルトリミング電気コイル要素は、特に、前記メイン電気コイルユニットへの前記電流の印加時に発生する前記第1変形力及び前記第2変形力を実質的に均等化するよう構成され、且つ/又は
前記電気コイルデバイスは、特に、前記少なくとも1つの磁気ユニットと協働して、前記メイン電気コイルユニットへの前記電流の印加時に発生する前記第1変形力及び前記第2変形力の一方の方向を調整するよう構成された少なくとも1つの力方向トリミング電気コイルユニットを含む光学モジュール。 - 請求項5に記載の光学モジュールにおいて、
前記少なくとも1つのメイン電気コイルユニットは、メインコイル主延在平面を画定するメイン電気コイル要素を含み、
前記メイン電気コイル要素は、第1メインコイル部と、前記メインコイル主延在平面内で前記第1メインコイル部とは反対に位置付けられた第2メインコイル部とを有し、
前記第1メインコイル部は、前記第1力発生ユニットの第1磁気ユニットに関連付けられて前記第1変形力を発生させ、
前記第2メインコイル部は、前記第2力発生ユニットの第2磁気ユニットに関連付けられて前記第2変形力を発生させる光学モジュール。 - 請求項6に記載の光学モジュールにおいて、
前記メイン電気コイル要素は略平坦な設計であり、且つ/又は
前記メイン電気コイル要素は略矩形であり、且つ/又は
前記第1メインコイル部及び前記第2メインコイル部は、前記少なくとも1つの動作状態で前記第1変形力及び前記第2変形力の共線関係を達成するために、前記第1変形力に対して実質的に垂直な第1対称面に対して実質的に対称であり、前記第1メインコイル部及び前記第2メインコイル部のそれぞれはさらに、前記第1対称面に対して実質的に垂直且つ前記第1磁気ユニットの第1磁場及び前記第2磁気ユニットの第2磁場と実質的に平行な第2対称面に対して実質的に対称であり、且つ/又は
第1磁気ユニット及び前記第2磁気ユニットの少なくとも一方は、相互間に画定された間隙内で磁場を発生させる2つのシャンク要素を有する略U字形の磁気ヨーク部分を含み、前記第1磁気ユニットの前記磁場及び前記第2磁気ユニットの前記磁場は、特に、実質的に平行であり且つ/又は場の強度が実質的に同一であり、且つ/又は
前記第1磁気ユニットは、相互間に画定された第1間隙内で第1磁場を発生させる2つの磁気第1シャンク要素を含み、前記第1メインコイル部が前記第1間隙内に位置付けられて、前記メイン電気コイル要素への電流の印加時に前記第1変形力を発生させ、前記第1メインコイル部は、特に前記第1変形力及び前記第1磁場に対して垂直な方向で、前記第1間隙全体に延在し、且つ/又は
前記第2磁気ユニットは、相互間に画定された第2間隙内で第2磁場を発生させる2つの磁気第2シャンク要素を含み、前記第2メインコイル部が前記第2間隙内に位置付けられて、前記メイン電気コイル要素への電流の印加時に前記第2変形力を発生させ、前記第2メインコイル部は、特に前記第2変形力及び前記第2磁場に対して垂直な方向で、前記第2間隙全体に延在し、且つ/又は
前記メイン電気コイル要素は周方向を規定し、前記第1メインコイル部は、前記周方向で、前記第1磁気ユニットの略U字形の部分の2つのシャンク間に画定された間隙全体に延在し、且つ/又は
前記メイン電気コイル要素は周方向を規定し、前記第2メインコイル部は、前記周方向で、前記第2磁気ユニットの略U字形の部分の2つのシャンク間に画定された間隙全体に延在する光学モジュール。 - 請求項6又は7に記載の光学モジュールにおいて、
前記少なくとも1つの力レベルトリミング電気コイルユニットは、力レベルトリミングコイル主延在平面を画定する力レベルトリミング電気コイル要素を含み、前記力レベルトリミングコイル主延在平面は、特に、前記メインコイル主延在平面と実質的に平行であり、
前記力レベルトリミング電気コイル要素は、前記第1メインコイル部に空間的に関連する、特に隣接して位置付けられた力レベルトリミングコイル部を有し、
前記第1磁気ユニットは、前記第1メインコイル部の領域で第1磁場を発生させ、前記第2磁気ユニットは、前記第2メインコイル部の領域で第2磁場を発生させ、
前記力レベルトリミング電気コイル要素は、前記メイン電気コイル要素への電流の印加時の前記第1変形力及び前記第2変形力の発生に対する、前記第1磁場と前記第2磁場との間の差の影響を補償するよう構成され、
前記力レベルトリミング電気コイル要素は、特に、前記メイン電気コイル要素に電気的に接続されて、前記電流が前記メイン電気コイル要素及び前記力レベルトリミング電気コイル要素の両方に印加されるか、又は前記力レベルトリミング電気コイル要素は、特に、前記メイン電気コイル要素とは別個に給電され、
前記第1磁気ユニットは、特に、相互間に画定された間隙内で前記第1磁場を発生させる2つの磁気シャンク要素を含み、前記第1メインコイル部及び前記力レベルトリミングコイル部が前記第1間隙内に位置付けられて、前記メイン電気コイル要素への電流の印加時に前記第1変形力を発生させ、前記第1メインコイル部及び前記力レベルトリミングコイル部は、前記第1変形力及び前記第1磁場に対して垂直な方向で、前記第1間隙全体に延在する光学モジュール。 - 請求項6〜8のいずれか1項に記載の光学モジュールにおいて、
前記少なくとも1つの力方向トリミング電気コイルユニットは、力方向トリミングコイル主延在平面を画定する力方向トリミング電気コイル要素を含み、前記力方向トリミングコイル主延在平面は、特に、前記メインコイル主延在平面と実質的に平行であり、
前記力方向トリミング電気コイル要素は、メインコイル部及び磁気ユニットに空間的に関連する、特に隣接して位置付けられた力方向トリミングコイル部を有し、前記メインコイル部は、前記第1メインコイル部及び前記第2メインコイル部の一方であり、前記磁気ユニットは、前記第1磁気ユニットメイン及び前記第2磁気ユニットの一方であり、
前記磁気ユニットは、前記メインコイル部の領域で磁場を発生させ、
前記力方向トリミング電気コイル要素は、前記メイン電気コイルユニットへの前記電流の印加時に前記関連するメインコイル部が発生させた前記変形力の方向を調整するよう構成され、
前記力方向トリミング電気コイル要素は、特に、前記メイン電気コイル要素に選択的に電気的に接続されて、前記電流が前記メイン電気コイル要素及び前記力方向トリミング電気コイル要素の両方に印加されるようになるか、又は前記力方向トリミング電気コイル要素は、特に、前記メイン電気コイル要素とは別個に給電され、
前記磁気ユニットは、特に、相互間に画定された間隙内で前記磁場を発生させる2つの磁気シャンク要素を含み、前記メインコイル部及び前記力方向トリミングコイル部が前記間隙内に位置付けられて、前記メイン電気コイル要素への電流の印加時に前記変形力を発生させ、前記力方向トリミングコイル部は、前記第1変形力及び前記第1磁場に対して垂直なトリミングコイル延在方向で、前記間隙の寸法の一部のみにわたって前記トリミングコイル延在方向に延在し、前記一部とは、特に最大95%、好ましくは最大50%、より好ましくは30%〜50%である光学モジュール。 - 請求項1〜9のいずれか1項に記載の光学モジュールにおいて、
前記第1力発生ユニットは、前記光学素子の前記第1部分、特に第1レバー要素に加わる前記第1変形力が第1曲げモーメントを前記光学素子の前記第1部分に導入するように配置され、前記第1曲げモーメントは、前記光学面の第1光学面部の規定可能な第1変形を発生させ、且つ/又は
前記第2力発生ユニットは、前記光学素子の前記第2部分、特に第2レバー要素に加わる前記第2変形力が第2曲げモーメントを前記光学素子の前記第2部分に導入するように配置され、前記第2曲げモーメントは、前記光学面の第2光学面部の規定可能な第2変形を発生させる光学モジュール。 - 請求項1〜10のいずれか1項に記載の光学モジュールにおいて、
前記第1力発生ユニットは、前記光学面の第1光学面領域に隣接して位置付けられた第1レバー要素に接続され、該第1レバー要素は、前記光学素子から第1表面法線方向に突出し、該第1表面法線方向は、前記第1光学面領域に対する第1表面法線であり、且つ/又は
前記第2力発生ユニットは、前記光学面の第2光学面領域に隣接して位置付けられた第2レバー要素に接続され、該第2レバー要素は、前記光学素子から第2表面法線方向に突出し、該第2表面法線方向は、前記第2光学面領域に対する第2表面法線である光学モジュール。 - 請求項10又は11に記載の光学モジュールにおいて、
前記第1レバー要素は第1レバー要素長手軸を規定し、該第1レバー要素長手軸は、第1交点で前記光学面と交わり、前記第1交点で前記第1表面法線を形成し、
前記第2レバー要素は第2レバー要素長手軸を規定し、該第2レバー要素長手軸は、第2交点で前記光学面と交わり、前記第2交点で前記第2表面法線を形成し、
前記第1レバー要素長手軸及び前記第2レバー要素長手軸は、特に、レバー要素角度を規定し、前記第3変形ユニットは、特に、前記第1変形力及び前記第2変形力が少なくとも1つの動作状態で前記レバー要素角度の二等分線に対して実質的に垂直であるように配置され、
前記第1レバー要素及び前記第2レバー要素の少なくとも一方は、特に、ボールソケット型継手を介して前記光学素子に接続され、各前記レバー要素は、特に、前記光学素子内の嵌合球状凹部に係合する球状端部を有し、
前記第1レバー要素及び前記第2レバー要素の少なくとも一方は、特に、インタフェースを介して前記光学素子に接続され、前記インタフェースは、前記レバー要素に加わる前記変形力により前記レバー要素に導入された曲げモーメントを前記インタフェースにおける剪断応力を介して少なくとも部分的に、特に実質的に完全に伝達するよう構成され、
前記第1レバー要素及び前記第2レバー要素の少なくとも一方は、特に、接着接合技法、フリット接合技法、陽極接合技法、光学的接触技法、はんだ付け技法、及び特にレーザはんだ付け技法の少なくとも1つを用いて、前記光学素子に接続される光学モジュール。 - 請求項1〜12のいずれか1項に記載の光学モジュールにおいて、
前記変形デバイスは、前記光学素子の動作中に変形させる前記光学素子の変形対象領域にわたって実質的に均等に分配され、且つ/又は、
前記変形デバイスは、少なくとも断面方向で直交格子アレイ式に、且つ/又は少なくとも断面方向で三角格子アレイ式に、且つ/又は少なくとも断面方向でハニカム格子アレイ式に配置され、且つ/又は、
前記変形デバイスのうち少なくとも2つの、好ましくは前記変形デバイスのうち少なくとも3つの、より好ましくは前記変形デバイスのうち4つのそれぞれが、規定可能な変形力を発生させるために前記光学素子の前記第1部分に機械的に接続されたコンポーネントを共有して、前記光学素子の前記第1部分に前記規定可能な変形力を加えるよう特に構成される光学モジュール。 - 請求項1〜13のいずれか1項に記載の光学モジュールにおいて、
前記第3変形ユニットは、前記光学素子から機械的に分離されるように支持され、且つ/又は
前記第3変形ユニットは、前記光学素子から熱的に分離されるように支持され、且つ/又は
前記光学素子は前記第1支持構造により支持され、前記第3変形ユニットは第2支持構造により支持され、前記第1支持構造は前記第2支持構造から離れており、前記第1支持構造及び前記第2支持構造の少なくとも一方は、特に、第3支持構造で等方圧的に且つ/又は防振的に支持され、又は
前記第3変形ユニットは第1支持構造により支持され、前記第1支持構造は、特に、前記光学素子で防振支持される光学モジュール。 - 請求項1〜13のいずれか1項に記載の光学モジュールにおいて、
前記光学素子及び該光学素子に接続されたレバー要素の少なくとも一方は、Zerodur、超低膨張ガラス(ULE)、コーディエライト、及び石英からなる材料群から選択される材料を含み、且つ/又は
前記光学素子は、前記光学面を形成する本体要素を含み、該本体要素は、少なくとも断面方向で、略薄肉板要素及び略薄肉シェル要素の少なくとも一方であり、且つ/又は
前記光学素子は、外周を画定する本体要素を含み、少なくとも1つの外側安定化要素が前記本体要素の外周に接続され、且つ/又は
前記光学素子は、特にEUV領域の露光光を用いて動作する特にマイクロリソグラフィデバイスで用いるミラーである光学モジュール。 - 請求項15に記載の光学モジュールにおいて、
前記少なくとも1つの外側安定化要素は、前記外周に沿って延在する略リング形の要素により形成され、且つ/又は
前記少なくとも1つの外側安定化要素は、接着接合技法、フリット接合技法、陽極接合技法、光学的接触技法、はんだ付け技法、及び特にレーザはんだ付け技法の少なくとも1つを用いて、前記光学素子に接続され、且つ/又は
前記光学素子は、前記少なくとも1つの外側安定化要素で特に等方圧的に支持され、且つ/又は
前記光学素子は、少なくとも1自由度で、特に全6自由度で調整可能に、特に能動的に調整可能に前記少なくとも1つの外側安定化要素で支持され、且つ/又は
前記本体要素は第1材料で形成され、前記少なくとも1つの外側安定化要素は第2材料で形成され、前記材料は、少なくとも1つの材料特性、特に熱膨張率を有し、該光学モジュールの使用分野により規定されるグレーディング方式での前記材料特性の等級は、前記第1材料よりも前記第2材料が低く、特に、前記第1材料の前記材料特性の最大1000%低く、好ましくは最大20%低く、より好ましくは最大2%低く、且つ/又は
前記本体要素は第1材料で形成され、前記少なくとも1つの外側安定化要素は、前記第1材料からの熱膨張率の偏差がある第2材料で形成され、前記偏差は、特に最大1ppm/K、好ましくは最大0.01ppm/K、より好ましくは最大0.001ppm/Kである光学モジュール。 - 特にマイクロリソグラフィ用の光学素子を変形させる方法であって、
光学素子と、第1変形ユニット、第2変形ユニット、及び第3変形ユニットを含む複数の変形デバイスであって、前記変形デバイスは、前記光学素子の光学面に面しない前記光学素子の一方側にわたって格子状に分布され、かつ規定可能な変形を前記光学素子の前記光学面に導入するよう構成される変形デバイスとを用意するステップと、
前記第1変形ユニットを前記光学素子の第1部分に機械的に接続するステップと、
前記第2変形ユニットを前記光学素子の第2部分に機械的に接続するステップと、
前記第1変形ユニット及び前記第3変形ユニットを用いて、制御信号に応じて規定可能な第1変形力を前記光学素子の第1部分に加えるステップと、
前記第2変形ユニット及び前記第3変形ユニットを用いて、特に、前記制御信号に応じて規定可能な第2変形力を前記光学素子の第2部分に加えるステップと
を含み、前記第1変形力及び前記第2変形力は、前記光学素子の規定の変形を発生させ、
前記第1変形力及び前記第2変形力は、少なくとも1つの動作状態で、前記光学素子に対する正味の合力が少なくとも実質的にゼロであるように少なくとも実質的に打ち消し合う方法。 - 請求項17に記載の方法において、
前記第1変形力及び前記第2変形力の少なくとも一方を、非接触で発生させ、且つ/又は
前記第1変形力及び前記第2変形力の少なくとも一方を、ローレンツアクチュエータ式に動作するアクチュエータを用いて発生させ、且つ/又は
前記第1変形力及び前記第2変形力の少なくとも一方を、フォースアクチュエータ式に動作するアクチュエータを用いて発生させ、且つ/又は
前記第1変形力及び前記第2変形力の少なくとも一方を、磁石デバイス及び電気コイルデバイスを用いて発生させ、前記第3変形ユニットは、特に、前記電気コイルデバイスを含み、前記第1変形ユニット及び前記第2変形ユニットの少なくとも一方は、特に、前記磁石デバイスを含む方法。 - 請求項18に記載の方法において、
前記電気コイルデバイスは、電流が印加されると少なくとも1つの磁気ユニット、特に磁気ヨークユニットと協働して前記第1変形力及び前記第2変形力の少なくとも一方を発生させる少なくとも1つのメイン電気コイルユニットを含み、
前記電気コイルデバイスは、特に、前記少なくとも1つの磁気ユニットと協働して前記第1変形力及び前記第2変形力の一方の力レベルを調整する少なくとも1つの力レベルトリミング電気コイルユニットを含み、該力レベルトリミング電気コイル要素は、特に、前記メイン電気コイルユニットへの前記電流の印加時に発生する前記第1変形力及び前記第2変形力を実質的に均等化し、且つ/又は
前記電気コイルデバイスは、特に、前記少なくとも1つの磁気ユニットと協働して、前記メイン電気コイルユニットへの前記電流の印加時に発生する前記第1変形力及び前記第2変形力の一方の方向を調整する少なくとも1つの力方向トリミング電気コイルユニットを含む方法。 - 請求項19に記載の方法において、
前記少なくとも1つのメイン電気コイルユニットは、メインコイル主延在平面を画定するメイン電気コイル要素を含み、
前記メイン電気コイル要素は、第1メインコイル部と、前記メインコイル主延在平面内で前記第1メインコイル部とは反対に位置付けられた第2メインコイル部とを有し、
前記第1メインコイル部は、前記第1力発生ユニットの第1磁気ユニットに関連付けられて前記第1変形力を発生させ、
前記第2メインコイル部は、前記第2力発生ユニットの第2磁気ユニットに関連付けられて前記第2変形力を発生させる方法。 - 請求項19又は20に記載の方法において、
前記少なくとも1つの力レベルトリミング電気コイルユニットは、力レベルトリミングコイル主延在平面を画定する力レベルトリミング電気コイル要素を含み、前記力レベルトリミングコイル主延在平面は、特に、前記メインコイル主延在平面と実質的に平行であり、
前記力レベルトリミング電気コイル要素は、前記第1メインコイル部に空間的に関連する、特に隣接して位置付けられた力レベルトリミングコイル部を有し、
前記第1磁気ユニットは、前記第1メインコイル部の領域で第1磁場を発生させ、前記第2磁気ユニットは、前記第2メインコイル部の領域で第2磁場を発生させ、
前記力レベルトリミング電気コイル要素は、前記メイン電気コイル要素への前記電流の印加時の前記第1変形力及び前記第2変形力の発生に対する、前記第1磁場と前記第2磁場との間の差の影響を補償し、
前記力レベルトリミング電気コイル要素を、特に、前記メイン電気コイル要素に電気的に接続して、前記電流が前記メイン電気コイル要素及び前記力レベルトリミング電気コイル要素の両方に印加されるようにし、
前記第1磁気ユニットは、特に、相互間に画定された間隙内で前記第1磁場を発生させる2つの磁気シャンク要素を含み、前記第1メインコイル部及び前記力レベルトリミングコイル部を前記第1間隙内に位置付けて、前記メイン電気コイル要素への電流の印加時に前記第1変形力を発生させ、前記第1メインコイル部及び前記力レベルトリミングコイル部は、前記第1変形力及び前記第1磁場に対して垂直な方向で、前記第1間隙全体に延在する方法。 - 請求項19〜21のいずれか1項に記載の方法において、
前記少なくとも1つの力方向トリミング電気コイルユニットは、力方向トリミングコイル主延在平面を画定する力方向トリミング電気コイル要素を含み、前記力方向トリミング主延在平面は、特に、前記メインコイル主延在平面と実質的に平行であり、
前記力方向トリミング電気コイル要素は、メインコイル部及び磁気ユニットに空間的に関連する、特に隣接して位置付けられた力方向トリミングコイル部を有し、前記メインコイル部は、第1メインコイル部及び第2メインコイル部の一方であり、前記磁気ユニットは、前記第1磁気ユニットメイン及び第2磁気ユニットの一方であり、
前記磁気ユニットは、前記メインコイル部の領域で磁場を発生させ、
前記力方向トリミング電気コイル要素は、前記メイン電気コイルユニットへの前記電流の印加時に前記関連するメインコイル部が発生させた前記変形力を調整し、
前記力方向トリミング電気コイル要素を、特に、前記メイン電気コイル要素に選択的に電気的に接続して、前記電流が前記メイン電気コイル要素及び前記力方向トリミング電気コイル要素の両方に印加されるようにし、
前記磁気ユニットは、特に、相互間に画定された間隙内で前記磁場を発生させる2つの磁気シャンク要素を含み、前記メインコイル部及び前記力方向トリミングコイル部を前記間隙内に位置付けて、前記メイン電気コイル要素への電流の印加時に前記変形力を発生させ、前記力方向トリミングコイル部は、前記第1変形力及び前記第1磁場に対して垂直なトリミングコイル延在方向で、特に、前記間隙の寸法の一部のみにわたって前記トリミングコイル延在方向に延在し、前記一部とは、特に最大95%、好ましくは最大50%、より好ましくは30%〜50%である方法。 - 請求項17〜22のいずれか1項に記載の方法において、
前記第1変形力を、前記光学素子の前記第1部分、特に第1レバー要素に加え、第1曲げモーメントを前記光学素子の前記第1部分に導入し、前記第1曲げモーメントは、前記光学面の第1光学面部の規定可能な第1変形を発生させ、且つ/又は
前記第2変形力を、前記光学素子の前記第2部分、特に第2レバー要素に加え、第2曲げモーメントを前記光学素子の前記第2部分に導入し、前記第2曲げモーメントは、前記光学面の第2光学面部の規定可能な第2変形を発生させる方法。 - 請求項17〜23のいずれか1項に記載の方法において、
前記第1変形力を、前記光学面の第1光学面領域に隣接して位置付けられた第1レバー要素加え、該第1レバー要素は、前記光学素子から第1表面法線方向に突出し、該第1表面法線方向は、前記第1光学面領域に対する第1表面法線であり、且つ/又は
前記第2変形力を、前記光学面の第2光学面領域に隣接して位置付けられた第2レバー要素に加え、該第2レバー要素は、前記光学素子から第2表面法線方向に突出し、該第2表面法線方向は、前記第2光学面領域に対する第2表面法線である方法。 - 請求項23又は24に記載の方法において、
前記第1レバー要素は第1レバー要素長手軸を規定し、該第1レバー要素長手軸は、第1交点で前記光学面と交わり、前記第1交点で前記第1表面法線を形成し、
前記第2レバー要素は第2レバー要素長手軸を規定し、該第2レバー要素長手軸は、第2交点で前記光学面と交わり、前記第2交点で前記第2表面法線を形成し、
前記第1レバー要素長手軸及び前記第2レバー要素長手軸は、特に、レバー要素角度を規定し、前記第1変形力及び前記第2変形力を、少なくとも1つの動作状態で前記レバー要素角度の二等分線に対して実質的に垂直に加え、
前記第1レバー要素及び前記第2レバー要素の少なくとも一方を、特に、インタフェースを介して前記光学素子に接続し、前記インタフェースは、前記レバー要素に加わる前記変形力により前記レバー要素に導入された曲げモーメントを前記インタフェースにおける剪断応力を介して少なくとも部分的に、特に実質的に完全に伝達し、
前記第1レバー要素及び前記第2レバー要素の少なくとも一方を、特に、接着接合技法、フリット接合技法、陽極接合技法、光学的接触技法、はんだ付け技法、及び特にレーザはんだ付け技法の少なくとも1つを用いて、前記光学素子に接続する方法。 - 請求項17〜25のいずれか1項に記載の方法において、
前記変形デバイスを、前記光学素子の動作中に変形させる前記光学素子の変形対象領域にわたって実質的に均等に分配し、且つ/又は、
前記変形デバイスを、少なくとも断面方向で直交格子アレイ式に、且つ/又は少なくとも断面方向で三角格子アレイ式に、且つ/又は少なくとも断面方向でハニカム格子アレイ式に配置し、且つ/又は、
前記変形デバイスのうち少なくとも2つの、好ましくは前記変形デバイスのうち少なくとも3つの、より好ましくは前記変形デバイスのうち4つのそれぞれが、前記光学素子の前記第1部分に前記規定可能な変形力を加え、特に、規定可能な変形力を発生させるために前記光学素子の前記第1部分に機械的に接続されたコンポーネントを共有する方法。 - 請求項17〜26のいずれか1項に記載の方法において、
前記第3変形ユニットを、前記光学素子から機械的に分離されるように支持し、且つ/又は
前記第3変形ユニットを、前記光学素子から熱的に分離されるように支持し、且つ/又は
前記光学素子を前記第1支持構造により支持し、前記第3変形ユニットを第2支持構造により支持し、前記第1支持構造は前記第2支持構造から離れており、前記第1支持構造及び前記第2支持構造の少なくとも一方を、特に、第3支持構造で等方圧的に且つ/又は防振的に支持し、又は
前記第3変形ユニットを第1支持構造により支持し、前記第1支持構造を、特に、前記光学素子上で防振的に支持する方法。 - 請求項17〜27のいずれか1項に記載の方法において、
前記光学素子を用いて行った光学結像プロセスの品質を表す少なくとも1つの結像品質値を取込み、前記第1変形力及び前記第2変形力の作用を、前記少なくとも1つの結像品質値に応じて、特に開ループ制御で制御し、且つ/又は
前記光学素子は、特にEUV領域の露光光を用いて動作する特にマイクロリソグラフィデバイスで用いるミラーである方法。 - 特にマイクロリソグラフィ用の光学モジュールであって、
光学素子と、
変形装置と
を備え、前記変形装置は、複数の変形デバイスを備え、前記変形デバイスは、前記光学素子の光学面に面しない前記光学素子の一方側にわたって格子状に分布され、かつ規定可能な変形を前記光学素子の前記光学面に導入するよう構成され、
前記変形デバイスは、第1変形ユニット、第2変形ユニット、及び第3変形ユニットを含み、
前記第1変形ユニットは、前記光学素子の第1部分に機械的に接続され、制御信号に応じて、前記光学素子の前記第1部分に加わる規定可能な第1変形力を発生させるよう構成された第1力発生ユニットの一部を形成し、
前記第2変形ユニットは、前記光学素子の第2部分に機械的に接続され、特に、前記制御信号に応じて、前記光学素子の前記第2部分に加わる規定可能な第2変形力を発生させるよう構成された第2力発生ユニットの一部を形成し、
前記第3変形ユニットは、前記第1力発生ユニットと前記第2力発生ユニットとの間で共有される共有の力発生コンポーネントであり、前記第1変形ユニットが前記第3変形ユニットと非接触で協働して前記第1変形力を発生させ、前記第2変形ユニットが前記第3変形ユニットと非接触で協働して前記第2変形力を発生させる光学モジュール。 - 請求項29に記載の光学モジュールであって、
前記第1変形力及び前記第2変形力は、少なくとも1つの動作状態で、前記光学素子に対する正味の合力が少なくとも実質的にゼロになるように少なくとも実質的に打ち消し合い、且つ/又は
前記第3変形ユニットは、前記光学素子から機械的に分離されるように支持され、且つ/又は
前記光学素子は前記第1支持構造により支持され、前記第3変形ユニットは第2支持構造により支持され、前記第1支持構造は前記第2支持構造から離れており、前記第1支持構造及び前記第2支持構造の少なくとも一方は、特に、第3支持構造で等方圧的に且つ/又は防振的に支持され、又は
前記第3変形ユニットは第1支持構造により支持され、前記第1支持構造は、特に、前記光学素子上で防振的に支持される光学モジュール。 - 特にマイクロリソグラフィ用の光学素子を変形させる方法であって、
光学素子と、第1変形ユニット、第2変形ユニット、及び第3変形ユニットを含む複数の変形デバイスであって、前記変形デバイスは、前記光学素子の光学面に面しない前記光学素子の一方側にわたって格子状に分布され、かつ規定可能な変形を前記光学素子の前記光学面に導入するよう構成される変形デバイスとを用意するステップと、
前記第1変形ユニットを前記光学素子の第1部分に機械的に接続するステップと、
前記第2変形ユニットを前記光学素子の第2部分に機械的に接続するステップと
を含み、前記第1変形ユニット及び前記第3変形ユニットは、非接触で協働して、制御信号に応じて規定可能な第1変形力を前記光学素子の第1部分に加え、
前記第2変形ユニット及び前記第3変形ユニットは、非接触で協働して、特に、前記制御信号に応じて規定可能な第2変形力を前記光学素子の第2部分に加え、
前記第1変形力及び前記第2変形力は、前記光学素子の規定の変形を発生させる方法。 - 請求項31に記載の方法において、
前記第1変形力及び前記第2変形力は、少なくとも1つの動作状態で、前記光学素子に対する正味の合力が少なくとも実施的にゼロであるように少なくとも実質的に打ち消し合い、且つ/又は
前記第3変形ユニットを、前記光学素子から機械的に分離されるように支持し、且つ/又は
前記光学素子を前記第1支持構造により支持し、前記第3変形ユニットを第2支持構造により支持し、前記第1支持構造は前記第2支持構造から離れており、前記第1支持構造及び前記第2支持構造の少なくとも一方を、特に、第3支持構造で等方圧的に且つ/又は防振的に支持し、又は
前記第3変形ユニットを第1支持構造により支持し、前記第1支持構造を、特に、前記光学素子で防振的に支持する方法。 - 光学結像装置であって、
パターンを担持するよう構成されたマスクユニットと、
基板を担持するよう構成された基板ユニットと、
前記パターンを照明するよう構成された照明ユニットと、
露光工程において前記パターンの像を前記基板に転写するよう構成された光学投影ユニットと
を備え、前記照明ユニット及び前記光学投影ユニットの少なくとも一方は、請求項1〜16又は29〜30のいずれか1項に記載の光学モジュールを含み、
前記光学素子は、特に、前記光学素子と前記基板への前記像の転写時に前記光学素子と協働するさらに他の光学コンポーネントとを備えた光学系において、中心基準として用いられ、該中心基準は、前記光学コンポーネントの少なくとも1つの、好ましくは全ての前記コンポーネントの位置及び/又は向きを少なくとも1自由度で、好ましくは全6自由度で制御するために制御システムにおいて用いられる光学結像装置。 - 光学結像法であって、
露光工程において少なくとも1つの光学素子モジュールを用いて、マスク上に形成されたパターンの像を基板に転写するステップ
を含み、少なくとも1つの変形工程において、請求項17〜27又は31〜32のいずれか1項に記載の方法を用いて前記光学素子モジュールの光学素子を規定の方法で変形させ、
前記少なくとも1つの変形工程を、特に、前記露光工程前及び/又は該露光工程中に少なくとも部分的に実行し、
前記光学素子を、特に、前記光学素子と前記基板への前記像の転写時に前記光学素子と協働するさらに他の光学コンポーネントとを備えた光学系において、中心基準として用い、該中心基準は、前記光学コンポーネントの少なくとも1つの、好ましくは全ての前記コンポーネントの位置及び/又は向きを少なくとも1自由度で、好ましくは全6自由度で制御するために制御システムにおいて用いられる光学結像法。 - 請求項1〜16又は31〜32のいずれか1項に記載の光学素子、特に光学素子モジュールを製造する方法であって、
前記光学素子の本体要素を用意するステップと、
少なくとも1つの光学素子コンポーネントを前記本体要素に接合するステップと
を含み、前記光学素子は、第1部分及び第2部分を有し、前記第1部分は変形デバイスの第1変形ユニットに対する第1インタフェースを形成し、前記第2部分は前記変形デバイスの第2変形ユニットに対する第2インタフェースを形成する方法。 - 請求項35に記載の方法において、
前記本体要素を略薄肉要素から形成し、
前記薄肉要素を粗整形工程において加熱状態にし、該加熱状態で型に挿入することで、前記薄肉要素を整形して前記本体要素の粗い幾何学的形状を与え、
微細整形工程において、特に前記第1変形ユニットを前記第1インタフェースに接続し前記第2変形ユニットを前記第2インタフェースに接続した後に、且つ/又は少なくとも1つの外側安定化要素を前記本体要素に接続した後に、該本体要素を加工して、該本体要素の最終形状を得る、特に該本体要素の光学面の最終形状を得る方法。 - 請求項35又は36に記載の方法において、
前記第1部分を、前記本体要素の光学面の第1光学面領域に隣接して位置付けられた第1レバー要素により形成し、該第1レバー要素は、前記光学素子から第1表面法線方向に突出し、該第1表面法線方向は、前記第1光学面領域に対する第1表面法線であり、且つ/又は
前記第2部分を、前記本体要素の前記光学面の第2光学面領域に隣接して位置付けられた第2レバー要素により形成し、該第2レバー要素は、前記光学素子から第2表面法線方向に突出し、該第2表面法線方向は、前記第2光学面領域に対する第2表面法線である方法。 - 請求項37に記載の方法において、
前記第1レバー要素及び前記第2レバー要素の少なくとも一方を、ボールソケット型継手を介して前記本体要素に接続し、各前記レバー要素は、特に、前記本体要素内の嵌合球状凹部に係合する球状端部を有し、且つ/又は
前記第1レバー要素及び前記第2レバー要素の少なくとも一方を、インタフェースを介して前記本体要素に接続し、前記インタフェースは、前記レバー要素の自由端に加わる変形力により前記レバー要素に導入された曲げモーメントを前記インタフェースにおける剪断応力を介して少なくとも部分的に、特に実質的に完全に伝達するよう構成され、且つ/又は
前記第1レバー要素及び前記第2レバー要素の少なくとも一方を、接着接合技法、フリット接合技法、陽極接合技法、光学的接触技法、はんだ付け技法、及び特にレーザはんだ付け技法の少なくとも1つを用いて、前記本体要素に接続し、且つ/又は
前記第1レバー要素及び第2レバー要素を、該レバー要素の一部をそれぞれが収容する複数の凹部を有するテンプレートユニットを用いて前記本体要素に接続し、前記テンプレートユニットを、特に、光学素子で等方圧的に支持する方法。 - 請求項35〜38のいずれか1項に記載の方法において、
前記本体要素は外周を画定し、少なくとも1つの外側安定化要素を前記本体要素の前記外周に接続し、
前記少なくとも1つの外側安定化要素を、特に、前記外周に沿って延在する略リング形の要素により形成し、
前記少なくとも1つの外側安定化要素を、特に、接着接合技法、フリット接合技法、陽極接合技法、光学的接触技法、はんだ付け技法、及び特にレーザはんだ付け技法の少なくとも1つを用いて、前記光学素子に接続し、
前記本体要素を、特に、第1材料で形成し、前記少なくとも1つの外側安定化要素を第2材料で形成し、前記材料は、少なくとも1つの材料特性、特に熱膨張率を有し、前記光学モジュールの使用分野により規定されるグレーディング方式での前記材料特性の等級は、前記第1材料よりも前記第2材料が低く、特に、前記第1材料の前記材料特性の最大1000%低く、好ましくは最大20%低く、より好ましくは最大2%低い方法。
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