JP6091434B2 - 光学マウント及びeuv露光装置 - Google Patents
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Description
本願は、いずれも2011年2月17日付けで出願された独国特許出願第10 2011 004 299.7号及び米国仮出願第61/443,843号の優先権を主張する。本願はさらに、いずれも2011年9月20付けで出願された独国特許出願第10 2011 082 994.6号及び米国仮出願第61/536,655号の優先権を主張する。これらの出願の内容を参照により本明細書に援用する。
光学素子に制御可能な力を加える少なくとも1つのアクチュエータであり、
アクチュエータと光学素子との間にピンの形態の機械的結合を、上記アクチュエータの駆動軸に対して横方向の剛性に対する上記機械的結合の軸方向の剛性の比が少なくとも100であるよう具現した
アクチュエータと、
横方向のピンの固有振動形態(natural vibration form:固有モード)の減衰をもたらす少なくとも1つの減衰要素と
を備える。
Claims (19)
- EUV投影露光装置において光学素子を取り付ける機構であって、
前記光学素子に制御可能な力を加える少なくとも1つのアクチュエータ(350、450、550)であり、
該アクチュエータ(350、450、550)と前記光学素子との間にピン(110、210、310、410、510)の形態の機械的結合を、前記アクチュエータ(350、450、550)の駆動軸に対して横方向の剛性に対する前記機械的結合の軸方向の剛性の比が少なくとも100であるよう具現したアクチュエータ(350、450、550)と、
横方向の前記ピン(110、210、310、410、510)の固有振動形態の減衰をもたらす少なくとも1つの減衰要素(130、230、330、430、530、630)と
を備え、
前記減衰要素(130、230、330、430、530、630)は、軸方向の前記ピン(110、210、310、410、510)の固有振動形態を少なくとも実質的に減衰させないよう配置され、
軸方向のLehr減衰係数は、1%以下である
ことを特徴とする機構。 - 請求項1に記載の機構において、前記減衰要素(130、230、330、430、530、630)は、前記固有振動形態の臨界減衰の少なくとも1%である減衰度を有することを特徴とする機構。
- 請求項1または2に記載の機構において、前記減衰要素(130、230、330、430、530、630)を、ゴム、特にフッ素ゴム(FKM)、フッ素系エラストマー、又はパーフルオロゴム(FFKM)を含む群に属する材料から製造したこと
を特徴とする機構。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の機構において、前記減衰要素(130、330)は、前記ピン(110、310)の外面上に配置され、好ましくは鍔状又はリング状に前記ピン(110、310)を囲むことを特徴とする機構。
- 請求項4に記載の機構において、前記減衰要素(330)を、前記ピン(310)とさらに別のコンポーネント、特に前記ピン(310)を囲むスリーブ(340)との間に配置したことを特徴とする機構。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の機構において、前記減衰要素(430、530)を、前記アクチュエータ(350、550)上で支持されるよう配置したことを特徴とする機構。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の機構において、前記減衰要素(430、530)を、前記アクチュエータ(350、550)と固定構造(460、560)、特にアクチュエータハウジングとの間に配置したことを特徴とする機構。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の機構において、前記減衰要素(430、530、630)を、前記アクチュエータ(450、0550)の駆動軸に対する前記アクチュエータ(350、550)の横方向運動の減衰をもたらすよう配置したことを特徴とする機構。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の機構において、前記減衰要素(630)は、前記アクチュエータの駆動軸に対して軸方向の該アクチュエータ用のガイドを形成することを特徴とする機構。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載の機構において、前記減衰要素(630)は、横方向の剛性を高める構造を有することを特徴とする機構。
- 請求項10に記載の機構において、前記構造はビードを有することを特徴とする機構。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載の機構において、前記減衰要素(130)を膜の形態で具現したことを特徴とする機構。
- 請求項1〜12のいずれか1項に記載の機構において、前記ピン(110、210、310)は、少なくとも2つの自在継手(120、121、220、221、320、321)を有することを特徴とする機構。
- 請求項13に記載の機構において、前記減衰要素(130、230、330)を、前記自在継手(120、121、220、221、320、321)の1つから前記ピン(110、210、310)の全長の5%未満、特に1%未満である距離に配置したことを特徴とする機構。
- 請求項13又は14に記載の機構において、前記自在継手の少なくとも1つ(221)は、前記減衰要素(230)を配置する切欠(221a)を有することを特徴とする機構。
- 請求項15に記載の機構において、前記切欠(221a)は、前記自在継手(221)を貫通する貫通孔であることを特徴とする機構。
- 請求項1〜16のいずれか1項に記載の機構において、前記光学素子はミラーであることを特徴とする機構。
- 光学素子を取り付ける機構を備えるEUV投影露光装置であって、該機構は、
前記光学素子に制御可能な力を加える少なくとも1つのアクチュエータ(350、450、550)であり、
該アクチュエータ(350、450、550)と前記光学素子との間にピン(110、210、310、410、510)の形態の機械的結合を、前記アクチュエータ(350、450、550)の駆動軸に対して横方向の剛性に対する前記機械的結合の軸方向の剛性の比が少なくとも100であるよう具現したアクチュエータ(350、450、550)と、
横方向の前記ピン(110、210、310、410、510)の固有振動形態の減衰をもたらす少なくとも1つの減衰要素(130、230、330、430、530、630)と
を備え、
前記機構の軸方向のLehr減衰係数は、1%以下である
EUV投影露光装置。 - EUV投影露光装置において光学素子を取り付ける機構であって、
前記光学素子に制御可能な力を加える少なくとも1つのアクチュエータ(350、450、550)であり、
該アクチュエータ(350、450、550)と前記光学素子との間にピン(110、210、310、410、510)の形態の機械的結合を、前記アクチュエータ(350、450、550)の駆動軸に対して横方向の剛性に対する前記機械的結合の軸方向の剛性の比が少なくとも100であるよう具現したアクチュエータ(350、450、550)と、
横方向の前記ピン(110、210、310、410、510)の固有振動形態の減衰をもたらす少なくとも1つの減衰要素(130、230、330、430、530、630)と
を備え、
少なくとも1つのピンが、前記光学素子の重さの少なくとも一部を支え、
軸方向のLehr減衰係数は、1%以下である機構。
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