CN115803684A - 台装置、曝光装置、平板显示器的制造方法及元件制造方法 - Google Patents

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Abstract

台装置包括：移动体，具有支撑物体的第一支撑面；支撑部，具有规定的厚度，支撑所述移动体且能够进行弹性变形；支撑装置，具有支撑所述支撑部的第二支撑面；以及驱动部，使所述移动体移动以变更所述第一支撑面与所述第二支撑面所成的角度，伴随着基于所述驱动部的所述角度的变更，所述支撑部以所述第一支撑面与所述第二支撑面的间隔窄的一侧的所述规定的厚度变薄、且所述第一支撑面与所述第二支撑面的间隔宽的另一侧的所述规定的厚度变厚的方式进行弹性变形来支撑所述移动体。

Description

台装置、曝光装置、平板显示器的制造方法及元件制造方法
技术领域
本发明涉及一种台装置、曝光装置、平板显示器的制造方法及元件制造方法。
背景技术
伴随着曝光对象的基板的大型化及描绘图案的高精细化，在扫描方式的曝光装置中，要求提高台的定位精度。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利特开2011-249555号公报
发明内容
根据第一实施方式，提供一种台装置，包括：移动体，具有支撑物体的第一支撑面；支撑部，具有规定的厚度，支撑所述移动体且能够进行弹性变形；支撑装置，具有支撑所述支撑部的第二支撑面；以及驱动部，使所述移动体移动以变更所述第一支撑面与所述第二支撑面所成的角度，伴随着基于所述驱动部的所述角度的变更，所述支撑部以所述第一支撑面与所述第二支撑面的间隔窄的一侧的所述规定的厚度变薄、且所述第一支撑面与所述第二支撑面的间隔宽的另一侧的所述规定的厚度变厚的方式进行弹性变形来支撑所述移动体。
根据第二实施方式，提供一种台装置，包括：移动体，具有支撑物体的第一支撑面；支撑部，具有从下方支撑所述移动体的能够进行弹性变形的第一支撑构件及第二支撑构件；支撑装置，具有支撑所述支撑部的第二支撑面；以及驱动部，使所述移动体移动以变更所述第一支撑面与所述第二支撑面所成的角度，伴随着基于所述驱动部的所述角度的变更，所述支撑部以支撑所述第一支撑面与所述第二支撑面的间隔窄的一侧的所述第一支撑部收缩、且支撑所述第一支撑面与所述第二支撑面的间隔宽的另一侧的所述第二支撑部伸长的方式进行弹性变形来支撑所述移动体。
根据第三实施方式，提供一种台装置，包括：移动体，具有支撑物体的第一支撑面；支撑部，朝向与所述第一支撑面不同的第二支撑面赋予重力方向向上的力来支撑所述移动体；以及驱动部，使所述移动体移动以使所述移动体从第一状态变成所述第一支撑面的倾斜角度得到了变更的第二状态，相对于成为所述第二状态的所述移动体，所述支撑部在与重力方向交叉的方向上，在所述第二支撑面上的相互不同的第一位置及第二位置，以相互不同的力支撑所述移动体。
根据第四实施方式，提供一种台装置，包括：移动体，具有支撑物体的第一支撑面；支撑装置，具有支撑所述移动体的第二支撑面；以及支撑部，在重力方向上配置于所述移动体与所述支撑装置之间，支撑所述移动体，且在所述第一支撑面与所述第二支撑面的间隔窄的一侧厚度变薄，在所述第一支撑面与所述第二支撑面的间隔宽的另一侧厚度变厚。
根据第五实施方式，提供一种台装置，包括：移动体，载置物体；支撑部，从下方支撑所述移动体；以及驱动部，驱动所述移动体，使所述移动体的姿势从第一状态向第二状态变化，所述支撑部包括相对于从所述移动体对所述支撑部施加的载荷而能够进行弹性变形的弹性构件，所述弹性构件与基于所述驱动部的所述移动体的姿势变化相对应地使所述弹性构件的高度的分布变化。
根据第六实施方式，提供一种台装置，包括：移动体，载置物体；支撑部，从下方支撑所述移动体；以及驱动部，驱动所述移动体，使所述移动体的姿势从第一状态向第二状态变化，所述支撑部包括相对于从所述移动体对所述支撑部施加的载荷而能够进行弹性变形的弹性构件，所述弹性构件与基于所述驱动部的所述移动体的姿势变化相对应地使在与重力方向正交的方向上相互不同的位置上的所述弹性构件的重力方向上的高度变化为相互不同的高度。
根据第七实施方式，提供一种台装置，包括：移动体，载置物体；支撑部，从下方支撑所述移动体；以及驱动部，驱动所述移动体，使所述移动体的姿势从第一状态向第二状态变化，所述支撑部包括相对于从所述移动体对所述支撑部施加的载荷而能够进行弹性变形的弹性构件，所述弹性构件使在与重力方向正交的方向上相互不同的第一位置及第二位置上的所述弹性构件的重力方向上的高度的比在所述第一状态与所述第二状态下变化为不同的大小。
根据第八实施方式，提供一种曝光装置，包括：所述任一项的台装置、以及通过能量射束在所述物体上形成规定的图案的图案形成装置。
根据第九实施方式，提供一种平板显示器的制造方法，包括：使用所述曝光装置对所述物体进行曝光、以及对经曝光的所述物体进行显影。
根据第十实施方式，提供一种元件制造方法，包括：使用所述曝光装置对所述物体进行曝光、以及对经曝光的所述物体进行显影。
再者，可适当改良后述的实施方式的结构，另外，也可使至少一部分由其他结构物代替。进而，对于其配置并无特别限定的构成元件并不限于实施方式中公开的配置，可配置于可实现其作用的位置。
附图说明
[图1]图1是概略地表示第一实施方式的曝光装置的结构的图。
[图2]图2是概略地表示图1的曝光装置所具有的微动台的结构的图。
[图3]图3(A)是基板台装置的平面图，图3(B)是已去除微动台的基板台装置的平面图。
[图4]图4是已去除微动台及Y粗动台的基板台装置的平面图。
[图5]图5(A)及图5(B)是用于说明气体弹簧的除振性能的图。
[图6]图6是用于说明向微动台传递外部干扰的图。
[图7]图7(A)是表示第一实施方式的变形例1的基板台装置的结构的图，图7(B)是表示变形例1的微动台的图。
[图8]图8是概略地表示第一实施方式的变形例2的基板台装置的结构的图。
[图9]图9(A)是表示第一实施方式的变形例3-1的基板台装置的结构的图，图9(B)是概略地表示第一实施方式的变形例3-2的基板台装置的结构的图。
[图10]图10是概略地表示第一实施方式的变形例4的基板台装置的结构的图。
[图11]图11是概略地表示第一实施方式的变形例5的基板台装置的结构的图。
[图12]图12是概略地表示第一实施方式的变形例6的基板台装置的结构的图。
[图13]图13是概略地表示第二实施方式的基板台装置的结构的图。
[图14]图14是表示第二实施方式的变形例的基板台装置的结构的图。
具体实施方式
《第一实施方式》
首先，基于图1～图6对本发明的第一实施方式进行说明。
图1是概略地表示第一实施方式的曝光装置10A的结构的图。图2是概略地表示第一实施方式的微动台50A的结构的图。图3(A)是基板台装置20A的平面图，图3(B)是已去除微动台50A的基板台装置20A的平面图。图4(A)是已去除微动台50A及Y粗动台30的基板台装置20A的平面图。
曝光装置10A是将例如液晶显示装置(平板显示器)等中使用的矩形(方形)的玻璃基板P(以下简称为基板P)设为曝光对象物的步进扫描(step and scan)方式的投影曝光装置，即所谓扫描器(scanner)。
曝光装置10A包括照明系统12、保持形成有电路图案等图案的掩模M的掩模台14、投影光学系统16、保持表面(图1中朝向+Z侧的面)上涂布有抗蚀剂(感应剂)的基板P的基板台装置20A、及所述构件的控制系统等。以下，将曝光时对掩模M及基板P相对于投影光学系统16分别进行相对扫描的方向设为X轴方向，将在水平面内与X轴正交的方向设为Y轴方向，将与X轴及Y轴正交的方向设为Z轴方向来进行说明，并且将绕X轴、Y轴及Z轴的旋转(倾斜)方向分别设为θx方向、θy方向及θz方向来进行说明。另外，将关于X轴方向、Y轴方向及Z轴方向的位置分别设为X位置、Y位置及Z位置来进行说明。
照明系统12例如是与美国专利第5,729,331号说明书等中所公开的照明系统同样地构成。照明系统12使从未图示的光源(例如汞灯)射出的光分别经由未图示的反射镜、双色镜(dichroic mirror)、光闸(shutter)、波长选择滤波器、各种透镜等，形成为曝光用照明光(照明光)IL而照射至掩模M。作为照明光IL，例如可使用i线(波长365nm)、g线(波长436nm)、h线(波长405nm)等的光(或者，所述i线、g线、h线的合成光)。
掩模台14保持透光型的掩模M。掩模台14例如经由包括线性马达的驱动系统(未图示)相对于照明系统12(照明光IL)在X轴方向(扫描方向)上以规定的长冲程驱动掩模M，同时在Y轴方向及θz方向上进行微量驱动。掩模M在水平面内的位置信息例如是通过包括激光干涉计或编码器的掩模台位置测量系统(未图示)求出。
投影光学系统16配置于掩模台14的下方。投影光学系统16是与例如美国专利第6,552,775号说明书等所公开的投影光学系统同样的构成的所谓多透镜型的投影光学系统，例如包括形成正立正像的双侧远心(telecentric)的多个光学系统。
在曝光装置10A中，若利用来自照明系统12的照明光IL对位于规定的照明区域内的掩模M进行照明，则会通过已通过掩模M的照明光，经由投影光学系统16将所述照明区域内的掩模M的图案的投影像(部分图案的像)形成于基板P上的曝光区域内。继而，通过掩模M相对于照明区域(照明光IL)沿扫描方向相对移动，并且基板P相对于曝光区域(照明光IL)沿扫描方向相对移动，而进行基板P上的1个照射(shot)区域的扫描曝光，将形成于掩模M上的图案(对应于掩模M的扫描范围的整个图案)转印至所述照射区域内。此处，掩模M上的照明区域与基板P上的曝光区域(照明光的照射区域)通过投影光学系统而成为相互光学共轭的关系。
(基板台装置20A)
基板台装置20A是用以对基板P相对于投影光学系统16(照明光IL)以高精度进行位置控制的装置，将基板P在X轴方向及Y轴方向上以规定的长冲程(long stroke)驱动，并且在六个自由度方向上微量驱动。曝光装置10A中使用的基板台装置的结构并无特别限定，但在本第一实施方式中，作为一例，可使用如美国专利申请公开第2012/0057140号说明书等所公开的包括龙门式(gantry type)的二维粗动台、以及相对于所述二维粗动台进行微量驱动的微动台的所谓的粗微动结构的基板台装置20A。
如图1所示，基板台装置20A包括：一对圆柱(column)18、压盘19、微动台50A、一对底架(base frame)70、Y粗动台30、X粗动台40、及用以驱动构成基板台装置20A的各元件的基板驱动系统、以及用以测量所述各元件的位置信息的测量系统等。
一对圆柱18分别包含沿Y轴方向延伸的构件(参照图3(A)等)，其长度方向的两端部由设置于地板(地面)F上的除振装置17从下方支撑(参照图1)。一对圆柱18沿X轴方向以规定间隔平行地配置。除振装置17上的一对圆柱18与一对底架70分离地设置于地板(地面)F上。
压盘19包含沿X轴方向延伸的构件(参照图3(A)等)，其长度方向的两端部由一对圆柱18从下方支撑。压盘19的上表面(+Z侧的面)的平面度被加工得非常高。压盘19的上表面作为支撑支撑机构53A的支撑面而发挥作用。
如图2所示，微动台50A包括保持基板P的保持装置55A、以及支撑保持装置55A的支撑机构53A。详细情况将后述，微动台50A由压盘19非接触支撑。
保持装置55A包括基板固持器51A以及基板台52A。
在基板固持器51A的上表面载置基板P。基板固持器51A的上表面作为支撑基板P的支撑面而发挥作用。基板固持器51A的上表面的X轴及Y轴方向上的尺寸设定为与基板P为相同程度(实际上为稍短)。基板固持器51A的上表面(+Z侧的面)的平面度被加工得非常高。基板P通过以载置于基板固持器51A的上表面的状态真空吸附保持于基板固持器51A上，而沿平面度被加工得非常高的基板固持器51A的上表面对大致整体(整个面)进行平面矫正。
基板台52A支撑基板固持器51A。在基板台52A上安装有后述的音圈马达61X、61Y、61Z的一部分的元件(例如动子)。
如图2所示，支撑机构53A配置于保持装置55A与压盘19之间，且固定于基板台52A上。支撑机构53A朝向基板台52A的下表面赋予重力方向向上的力，支撑保持装置55A。另外，支撑机构53A由压盘19以非接触方式支撑。
在本第一实施方式中，支撑机构53A例如包括在橡胶制的外框的内部充满高压气体的所谓气体弹簧531。如图2所示，气体弹簧531具有规定的厚度，且上端部经由连接部522与基板台52A连接，下端部与以非接触方式配置于压盘19的上方的支撑部533连接。在支撑部533的下表面安装有轴承面朝向-Z侧的气体轴承(以下称为底垫)56。再者，在图3(B)及图4中，以虚线示出底垫56。由此，基板台52A经由支撑机构53A被压盘19非接触地支撑。再者，气体轴承56在本实施方式中记载为存在三个，但并不限于三个，可为一个，也可为多个。
气体弹簧531例如可为图1及图2所示那样的风箱型气体弹簧，也可为隔膜(diaphragm)型气体弹簧。在气体弹簧531上连接有气体用阀，与搭载载荷的变化等相对应地使其内压变化。由此，气体弹簧531所产生的重力方向向上的力与包括保持装置55A在内的系统的重量(重力方向向下的力)平衡。
在本第一实施方式中，支撑机构53A通过使气体弹簧531的内压发生变化、即使气体弹簧内的空气的体积发生变化来产生重力方向向上的力，但并不限定于所述结构。只要构成为伴随着保持装置55A的姿势的变化而弹性变形，则例如也可使用压缩弹簧等来代替气体弹簧531。另外，压缩弹簧可由一根构成，也可由多根构成。
气体弹簧531在X轴方向、Y轴方向、Z轴方向、θx方向、θy方向、及θz方向上具有运动自由度。即，伴随着基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面所成的角度的变化(相对于压盘19上表面的保持装置55A的姿势的变化)、即保持装置55A在θx方向及θy方向上的摆动(倾斜)，气体弹簧531进行变形。例如，在保持装置55A从规定的状态变成沿θx方向旋转了规定角度的状态的情况下(在变成绕X轴旋转的状态的情况下)，气体弹簧531的其中一侧(例如+Y侧)收缩，另一侧(例如-Y侧)伸长，由此沿着保持装置55A的姿势变化而进行变形。此处，由于微动台50A不具有机械旋转中心，因此微动台50A绕重心G摆动(倾斜)。再者，基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面所成的角度是指将基板固持器51A的上表面延长至压盘19侧的面与包含压盘19的上表面的平面的交叉角度。
此处，对相对于基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面所成的角度的变化(相对于压盘19上表面的保持装置55A的姿势的变化)的气体弹簧531的变形进行更详细的说明。
伴随着基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面所成的角度的变化，气体弹簧531以基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面的间隔窄的一侧的厚度(重力方向的厚度)变薄、且基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面的间隔宽的另一侧的厚度变厚的方式进行弹性变形来支撑保持装置55A。即，气体弹簧531与保持装置55A的姿势变化相对应地使在与重力方向正交的方向上相互不同的位置(基板固持器51A的上表面与平板19的上表面的间隔窄的位置及宽的位置)上的重力方向上的高度变化。其也可说气体弹簧531与保持装置55A的姿势变化相对应地，使其高度的分布变化。再者，基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面所成的角度包括成为基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面平行的状态的0度。
再者，在基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面的间隔窄的位置及宽的位置，气体弹簧531的高度发生变化，因此气体弹簧531的恢复力不同。因此，伴随着基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面所成的角度的变化，气体弹簧531在基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面的间隔窄的位置及宽的位置，以不同的力支撑保持装置55A。
另外，在保持装置55A从规定的状态变为其他状态的情况下，气体弹簧531使在与重力方向正交的方向上相互不同的位置上的气体弹簧531的重力方向上的高度的比在规定的状态及其他状态下变化为不同的大小。更具体而言，例如，在基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面平行的状态下，在与重力方向正交的方向上相互不同的位置上的气体弹簧531的重力方向上的高度分别为L1及L2(L1＝L2)的情况下，重力方向的高度的比(例如，L1/L2)为1。此处，若基板固持器51A的上表面变成沿θx方向旋转了规定角度的状态，则气体弹簧531进行变形，所述不同位置上的气体弹簧531的重力方向上的高度例如分别成为L1'(＜L1)及L2'(＞L2)，重力方向上的高度的比(L1'/L2')小于1。如此，气体弹簧531与相对于压盘19的保持装置55A的姿势的变化相对应地而使其重力方向的高度的比变化。再者，以基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面平行的状态为基准，对重力方向上的高度的比进行了说明，但并不限于此。
通过如此气体弹簧531进行变形，基板固持器51A的上表面可沿Z轴方向、θx方向及θy方向自由移动。
如图1及图2所示，为了轻量高刚性化，基板台52A为中空且内部具有肋的气密结构。在本第一实施方式中，将基板台52A的内部及气体弹簧531的内部通过中空的连接部522连结，由此，使基板台52A作为气体弹簧531的储存槽而发挥作用。由此，可减小气体弹簧531的弹簧常数，可提高支撑机构53A的除振性能。
图5(A)及图5(B)是用于对气体弹簧的除振性能进行说明的图。在图5(A)中，k表示弹簧常数，c表示衰减系数，m表示质量。另外，Z0表示地板的位移，Z表示质量的位移。
如图5(A)所示，若在弹簧之上搭载质量，则如图5(B)所示，相对于从弹簧的设置面进入的外部干扰，在低于弹簧的固有振动频率的频带中无延迟地追随，在固有振动频率附近的频带中放大振动(振动传递率大于0)，在高于固有振动频率的频带中衰减振动(振动传递率小于0)。弹簧常数越小，除振区域越扩大，除振率也越提高。
在本第一实施方式中，由于基板台52A作为气体弹簧531的储存槽而发挥作用，因此可减小气体弹簧531的弹簧常数。由于通过弹簧常数小的气体弹簧531支撑微动台50A的重量，因此支撑机构53A具有高的除振性能。由此，如图6所示，可有效地衰减从曝光装置10A内的其他单元传递至微动台50A的外部干扰(参照箭头A1)以及从曝光装置10A外传递至微动台50A的外部干扰(参照箭头A2)。由此，可提高微动台50A的控制性。
再者，由于通过气体用阀向气体弹簧531时常供给气体，因此基板台52A的气密性也可不严密，例如，也可采用由铸件制作基板台52A，如图1及图2所示在铸孔上设置盖521进行密闭的结构。
返回至图1，X粗动台40经由一对线性导引装置71而载置于微动台50A的下方(-Z侧)，即载置于一对底架70上。如图4所示，X粗动台40包括俯视时呈矩形的板状构件，在其中央部形成有开口部。在X粗动台40的X轴方向的两端部设置有一对线性导引装置41。
Y粗动台30配置于X粗动台40的上方(+Z侧)，即配置于微动台50A的下方(微动台50A与X粗动台40之间)。如图3(B)所示，Y粗动台30包括俯视时呈矩形的板状构件，在其中央部形成有开口部。Y粗动台30经由X粗动台40所具有一对线性导引装置41而载置于X粗动台40上，相对于X粗动台40在Y轴方向上移动自如，相对于此，在X轴方向上与X粗动台40一体地移动。
基板驱动系统包括：第一驱动系统，用以将微动台50A相对于压盘19而在六个自由度方向(X轴、Y轴、Z轴、θx、θy及θz的各方向)上微量驱动；第二驱动系统，用以将X粗动台40在底架70上沿X轴方向以长冲程驱动；以及第三驱动系统，用以将Y粗动台30在X粗动台40上沿Y轴方向进行长冲程驱动。构成第二驱动系统及第三驱动系统的致动器的种类并无特别限定，作为一例，可使用线性马达或滚珠螺杆驱动装置等。通过第二驱动系统及第三驱动系统驱动X粗动台40及Y粗动台30的驱动力经由后述的构成第一驱动系统的音圈马达而赋予至微动台50A。微动台50A通过利用第二驱动系统使X粗动台40向X轴方向移动的驱动力，向X轴方向移动。另外，微动台50A通过利用第三驱动系统使Y粗动台30向Y轴方向移动的驱动力，向Y轴方向移动。
构成第一驱动系统的致动器的种类也并无特别限定，例如，在图2中，作为在X轴、Y轴、Z轴的各方向上产生推力的推力赋予装置，图示了多个音圈马达。
多个音圈马达包括：将保持装置55A沿X轴方向微量驱动的X音圈马达61X(参照图3(A))、将保持装置55A沿Y轴方向微量驱动的Y音圈马达61Y(参照图2、图3(A))及用以将保持装置55A在θx方向、θy方向及Z轴方向的三个自由度方向上微量驱动的多个Z音圈马达61Z(参照图2)。各音圈马达61X、61Y、61Z的定子安装于Y粗动台30上，动子安装于保持装置55A的基板台52A上。
如图3(A)所示，X音圈马达61X在Y轴方向上分离地设置一对，Y音圈马达61Y在X轴方向上分离地设置一对。另外，为了相对于微动台50A不产生力矩，X音圈马达61X及Y音圈马达61Y如图2所示，在Z轴方向上在微动台50A的大致重心G的位置安装于Y粗动台30及微动台50A上。其结果，微动台50A可通过重心驱动进行平移移动(向X轴方向和/或Y轴方向的水平移动)。另外，如上所述，微动台50A绕重心G摆动(倾斜、旋转移动)。因此，微动台50A可通过重心驱动进行平移移动且旋转移动。假设在微动台50A具有机械性的旋转中心的情况下，有时其旋转中心与重心不一致。于是，微动台50A在平移移动及旋转移动中成为基准的点(平移运动为重心G，旋转运动为机械性的旋转中心)不同，从而驱动台的控制性变差。与此相对，微动台50A的平移移动及旋转移动以相同的重心G为基准，因此可提高驱动台的控制性。
多个Z音圈马达61Z配置于与基板台52A的底面的四角部对应的位置(在图2中，仅示出四个Z音圈马达61Z中的两个，其他两个省略图示)。再者，Z音圈马达61Z的数量并不限于四个，可为三个，也可为五个以上。
相对于Y粗动台30，对微动台50A(保持装置55A)经由各音圈马达61X、61Y、61Z在六个自由度方向上赋予(传递)推力。微动台50A通过来自各音圈马达61X、61Y、61Z的推力而变更其位置或姿势，以使掩模M上的图案的投影像在基板P上成像。
显得平坦的基板P的表面在微观层面上也具有凹凸。由于所述凹凸，投影像有时不会在基板P的表面上成像。另外，例如，在基板P上进行第二次曝光的情况下，有时基板P会因第一次的曝光而变形，有时投影像会因所述变形而不会在基板P的表面上成像。因此，通过Z音圈马达61Z调整微动台50A(保持装置55A)的Z位置及倾斜角度(基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面所成的角度)，以使投影光学系统16的成像面与基板P的表面一致(基板P的表面进入投影光学系统16的最优选成像面的焦点深度的范围内)。另外，说明了将压盘19的上表面的平面度加工得非常高，但假设在其上表面发生了变形的情况下，投影光学系统16的成像面与基板P的表面不一致。此时，微动台50A通过Z音圈马达61Z来调整Z位置及倾斜角度。
关于第一驱动系统～第三驱动系统的详细构成，作为一例而公开在美国专利申请公开第2010/0018950号说明书等中，因此省略说明。安装于基板台52A上的动子及安装于Y粗动台30上的定子以非接触方式连接，可将所产生的推力赋予至微动台50A。
如此，在本第一实施方式中，由于微动台50A从X粗动台40及Y粗动台30机械地分离(由于并未机械地连接)，因此可抑制外部干扰从粗动台30、粗动台40传递至微动台50A(图6的箭头A3)。另外，支撑X粗动台40的一对底架70相对于支撑微动台50A的除振装置17而分离地配置于地板(地板上)F上，可抑制通过粗动台30、粗动台40产生的外部干扰经由底架70或除振装置17传递至微动台50A。
返回至图2，在基板台52A的-Y侧的侧面，经由镜基座57Y固定有具有与Y轴正交的反射面的Y移动镜(条状镜)58Y。另外，如图3(A)所示，在基板台52A的+X侧的侧面，经由镜基座57X固定有具有与X轴正交的反射面的X移动镜58X。微动台50A在XY平面内的位置信息通过使用了X移动镜58X及Y移动镜58Y的激光干涉计系统(以下称为基板干涉计系统)91(参照图2)以例如0.5nm～1nm左右的分辨率时常加以检测。再者，实际上，基板干涉计系统91分别具有多个与X移动镜58X对应的X激光干涉计及与Y移动镜58Y对应的Y激光干涉计，但在图2中，仅代表性地图示了Y激光干涉计。多个激光干涉计分别固定于装置本体上。再者，微动台50A的位置信息也可并非通过激光干涉计，而是通过例如一维以上的编码器来检测。
另外，微动台50A的θx方向、θy方向、及Z轴方向相关的位置信息通过固定于基板台52A的下表面的未图示的传感器(Z传感器)，并使用例如固定于支撑部533上的靶材来求出。关于所述微动台50A的位置测量系统的结构，例如公开于美国专利申请公开第2010/0018950号说明书中，因此省略详细说明。
如以上详细说明那样，第一实施方式的基板台装置20A包括：保持装置55A，具有支撑基板P的支撑面(基板固持器51A的上表面)；支撑机构53A，具有规定的厚度，支撑保持装置55A且能够进行弹性变形；压盘19，具有支撑支撑机构53A的支撑面(压盘19的上表面)；以及Z音圈马达61Z，使保持装置55A移动以变更基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面所成的角度。伴随着基于Z音圈马达61Z的角度的变更，支撑机构53A以基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面的间隔窄的一侧的厚度变薄、且基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面的间隔窄的一侧的厚度变厚的方式进行弹性变形来支撑保持装置55A。
如上所述，微动台50A不具有机械性的旋转中心，因此微动台50A绕重心G摆动(倾斜)。因此，微动台50A的旋转中心的位置与作为进行平移移动的基准的重心G的位置一致，因此微动台50A具有高控制性，微动台50A的定位精度提高。
另外，根据本第一实施方式，基板台装置20A包括：保持装置55A，具有支撑基板P的支撑面(基板固持器51A的上表面)；支撑机构53A，对基板台52A的下表面赋予重力方向向上的力，支撑保持装置55A；以及Z音圈马达61Z，使保持装置55A移动以使保持装置55A从第一状态(例如成为基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面平行的状态)变成基板固持器51A的上表面的倾斜角度得到了变更的第二状态。相对于成为第二状态的保持装置55A，支撑机构53A在与重力方向交叉的方向上，在基板台52A的下表面上的相互不相同的位置，以相互不相同的力支撑保持装置55A。由此，与以上所述同样地，微动台50A的定位精度提高。
另外，根据本第一实施方式，基板台装置20A包括：保持装置55A，具有支撑基板P的支撑面(基板固持器51A的上表面)；压盘19，具有支撑保持装置55A的支撑面；以及支撑机构53A，在重力方向上配置于保持装置55A与压盘19之间，支撑保持装置55A，并且基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面的间隔窄的一侧厚度变薄，基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面的间隔宽的另一侧厚度变厚。由此，与以上所述同样地，微动台50A的定位精度提高。
另外，根据本第一实施方式，基板台装置20A包括：保持装置55A，载置基板P；支撑机构53A，从下方支撑保持装置55A；以及Z音圈马达61Z，驱动保持装置55A，使保持装置55A的姿势从第一状态(例如，在θx方向上未倾斜的状态)变为第二状态(在θx方向上旋转了规定角度的状态)。支撑机构53A包括相对于从保持装置55A对支撑机构53A施加的载荷而能够进行弹性变形的气体弹簧531，气体弹簧531与基于Z音圈马达61Z的保持装置55A的姿势变化相对应地使气体弹簧531的高度的分布变化。由此，与以上所述同样地，微动台50A的定位精度提高。再者，高度的分布可为厚度的分布，也可为弹性力的分布。
另外，根据本第一实施方式，基板台装置20A包括：保持装置55A，载置基板P；支撑机构53A，从下方支撑保持装置55A；以及Z音圈马达61Z，驱动保持装置55A，使保持装置55A的姿势从第一状态(例如，在θx方向上未倾斜的状态)变为第二状态(在θx方向上旋转了规定角度的状态)。支撑机构53A包括相对于从保持装置55A对支撑机构53A施加的载荷而能够进行弹性变形的气体弹簧531，气体弹簧531与基于Z音圈马达61Z的保持装置55A的姿势变化相对应地使在与重力方向正交的方向上相互不同的位置上的气体弹簧531的重力方向上的高度变化为相互不同的高度。由此，与以上所述同样地，微动台50A的定位精度提高。再者，重力方向的高度可为重力方向的厚度，也可为重力方向的弹性力。
另外，根据本第一实施方式，包括：保持装置55A，载置基板P；支撑机构53A，从下方支撑保持装置55A；以及Z音圈马达61Z，驱动保持装置55A，使保持装置55A的姿势从第一状态(例如，在θx方向上未倾斜的状态)变为第二状态(在θx方向上旋转了规定角度的状态)。支撑机构53A包括相对于从保持装置55A对支撑机构53A施加的载荷而能够进行弹性变形的气体弹簧531，气体弹簧531使在与重力方向正交的方向上相互不同的位置上的气体弹簧531的重力方向上的高度的比在第一状态及第二状态下变化为不同的大小。由此，与以上所述同样地，微动台50A的定位精度提高。再者，高度的比可为重力方向的厚度的比，也可为重力方向的弹性力的比。
另外，在本第一实施方式中，支撑机构53A与保持装置55A连接。由于保持装置55A与支撑机构53A连接而成为一体，因此当保持装置55A移动时，支撑机构53A也会移动。因此，无需与使保持装置55A移动的结构不同地设置使支撑机构53A移动的结构。保持装置55A经由定子与动子以非接触方式连接的音圈马达进行移动。保持装置55A及粗动台30、粗动台40为并非机械连结的结构，可抑制外部干扰从粗动台30、粗动台40传递至微动台50A。
另外，在本第一实施方式中，基板台装置20A包括：Y粗动台30及X粗动台40，使被支撑机构53A支撑的保持装置55A相对于压盘19进行相对移动；以及音圈马达61X、61Y、61Z，包括设置于Y粗动台30上的定子以及设置于保持装置55A上的动子，且经由相互非接触地配置的动子及定子而使保持装置55A相对于Y粗动台30及X粗动台40进行相对移动。由此，可使基板P移动至所期望的位置，并且可使投影光学系统16的成像面与基板P的表面一致。
另外，在本第一实施方式中，音圈马达61X、61Y、61Z将用以通过Y粗动台30及X粗动台40使保持装置55A相对于压盘19进行相对移动的驱动力经由动子及定子传递至保持装置55A。可通过定子及动子将微动台50A以及Y粗动台30及X粗动台40非接触地连接，因此可抑制Y粗动台30及X粗动台40的振动传递至微动台50A。
另外，在将保持装置55A与支撑机构53A机械分离，通过Y粗动台30牵引支撑机构53A的情况下，Y粗动台30的振动有可能传递至支撑机构53A。由于在支撑机构53A的支撑部533上例如设置有Z传感器的靶材，因此当振动传递至支撑机构53A时，会对Z传感器的测量造成影响。因此，必须考虑振动传递对支撑机构53A的影响等，在基板台52A与支撑机构53A机械分离的微动台中，难以模拟相对于控制的微动台的动作。
另一方面，在本第一实施方式的微动台50A中，保持装置55A与支撑机构53A连接而成为一体，Y粗动台30的振动不会传递至支撑机构53A。因此，由于Y粗动台30的振动不对Z传感器的测量造成影响，因此在微动台50A中，容易模拟相对于控制的微动台的动作。
另外，在微动台例如具有用以使基板台在θx方向及θy方向上旋转的旋转机构的情况下，为了使旋转中心与微动台的重心位置一致，需要降低微动台的刚性(具体而言，使中央部变薄，尽可能在上方设置旋转机构)。另一方面，在本第一实施方式中，由于无需设置旋转机构，因此可提高基板台的刚性，从而可提高基板固持器的平面度。进而，通过提高基板台的刚性，也可提高基板台的定位精度。
另外，由于支撑机构53A支撑(取消)微动台50A的重量，因此可降低在Z轴方向、θx方向、θy方向上驱动基板台52A所需的Z音圈马达61Z的推力。由此，可降低Z音圈马达61Z的发热量，因此可降低由Z音圈马达61Z的发热引起的温度变动。温度变动会对位置测量造成影响，但根据第一实施方式，温度变动会降低，因此能够提高位置测量的精度。
另外，在本第一实施方式中，支撑机构53A是内部充满气体的气体弹簧531。由于支撑机构53A的构成零件仅为气体弹簧531，因此可容易且廉价地使微动台50A薄型化。另外，由于支撑机构53A小型，因此可使微动台50A轻量化，进而，由于气体弹簧531的刚性小，因此能够以小的推力倾斜驱动基板台52A，因此可降低音圈马达61X、音圈马达61Y、音圈马达61Z的发热量。由此，可抑制因热引起的曝光装置10A的性能恶化。
另外，在本第一实施方式中，基板台52A为中空，基板台52A的内部与气体弹簧531的内部连通。由此，基板台52A作为气体弹簧531的储存槽而发挥作用，因此可减小气体弹簧531的弹簧常数，从而可提高气体弹簧531的除振性能。
进而，由于气体弹簧531的弹簧常数小，因此在将基板台52A沿Z轴方向、θx方向及θz方向驱动的情况下，对抗弹簧的恢复力所需的推力变小，从而可减小Z轴方向、θx方向及θy方向驱动用的音圈马达的推力。由此，可减小音圈马达的发热量，因此可降低热量对曝光装置10A的影响。
另外，在本第一实施方式中，对保持装置55A赋予X轴方向及Y轴方向中的至少一个方向的推力的音圈马达61X、音圈马达61Y的一部分元件(例如定子)在Z轴方向上与包括保持装置55A及支撑机构53A的微动台50A的重心G大致一致的位置上设置于Y粗动台30。由此，关于X轴方向及Y轴方向，音圈马达61X、音圈马达61Y在Z轴方向上的推力产生点的位置与微动台50A的重心G大致一致。因此，关于X轴方向及Y轴方向，可在不干涉其他方向的运动的情况下驱动微动台50A。即，在X轴方向上驱动微动台50A的情况下，例如可在不干涉θy方向上的运动的情况下在X轴方向上驱动微动台50A。另外，在Y轴方向上驱动微动台50A的情况下，例如可在不干涉θx方向上的运动的情况下在Y轴方向驱动微动台50A。
关于Z轴方向，Z音圈马达61Z通过在保持力矩平衡的同时产生推力，可在不干涉其他轴的情况下驱动微动台50A。关于θz方向，通过向微动台50A施加所述方向的力矩，微动台50A以成为最稳定的方式绕重心G运动。θx方向及θy方向上气体弹簧531的运动并未受到限制，因此通过对基板台52A施加所述方向的力矩，基板台52A以成为最稳定的方式绕重心G运动。如此，由于轴间并无干涉，因此可提高微动台50A的定位精度。
另外，在本第一实施方式中，Z音圈马达61Z以重心G为旋转中心而使微动台50A旋转移动。由此，微动台50A的平移移动与旋转移动以相同的重心G为基准，因此可提高驱动台的控制性。
(变形例1)
图7(A)是表示第一实施方式的变形例1的基板台装置20B的结构的图，图7(B)是表示变形例1的微动台50B的图。
如图7(B)所示，变形例1的微动台50B包括板簧501。板簧501的一端与从基板台52A的下表面沿重力方向(Z轴方向)延伸的连接构件523的下端部连接，另一端与支撑部533连接。板簧501以厚度方向与压盘19的上表面(微动台50B的移动基准面)正交的方向(即Z轴方向)平行的方式设置。其他结构与第一实施方式相同，因此省略详细说明。
第一实施方式的变形例1的微动台50B包括板簧501，所述板簧501以一端与基板台52A连接、另一端与支撑部533连接且厚度方向与Z轴方向平行的方式设置。如此设置的板簧501的X轴方向及Y轴方向的刚性大，Z轴方向的刚性小。因此，板簧501不阻碍微动台50B在θx方向及θy方向的驱动。另一方面，通过板簧501提高支撑机构53A对基板台52A的追随性，并且可提高气体弹簧531的下部的固有振动频率。因此，即使在支撑机构53A因外部干扰而摆动的情况下，由于振幅小，因此经由压盘19传递至曝光装置10A的力(激振力)变小，作为曝光装置10A整体的性能提高。
(变形例2)
在第一实施方式及其变形例1中，使基板台52A作为气体弹簧531的储存槽而发挥作用，但并不限于此。
图8是概略地表示第一实施方式的变形例2的基板台装置20C的结构的图。如图8所示，在变形例2中，支撑机构53B的气体弹簧531的内部与保持装置55B的基板台52B的内部不连通，仅气体弹簧531作为储存槽而发挥作用。其他结构与第一实施方式相同，因此省略详细说明。
与将基板台52B用作储存槽的情况相比较，在不将基板台52B用作气体弹簧531的储存槽的情况下，气体弹簧531的弹簧常数变大，可更容易地构成微动台50C。另外，由于储存槽变小，因此相对于气体弹簧531的内压变动而供给的气体的量较少便可。
再者，在变形例2中，虽然气体弹簧531的上端部经由连接部522与基板台52B连接，但也可省略连接部522，将气体弹簧531与基板台52B直接连接。不限于第一实施方式的变形例2，其他实施方式及其变形例也同样。
(变形例3-1)
图9(A)是表示变形例3-1的基板台装置20D1的结构的图。在变形例3-1的基板台装置20D1中，支撑机构53D1除了包括气体弹簧531以外也包括衰减机构54A。衰减机构54A在与移动基准面(XY平面)垂直的方向(Z轴方向)上产生衰减力。
在变形例3-1中，衰减机构54A包括形成于保持装置55C的基板台52C上的节流部541以及压力损失元件542。当气体弹簧531进行变形时，在基板台52C的内部(储存槽)与气体弹簧531的内部之间发生气体的往来，利用通过节流部541的气体的压力损失，可获得衰减作用。由此，可进一步衰减传递至微动台50D1的外部干扰。
压力损失元件542例如是过滤器，如图9(A)所示，与节流部541串联地配置。压力损失元件542使因节流部541产生的配管共振衰减。再者，也可省略压力损失元件542。由于其他结构与第一实施方式相同，因此省略详细说明。
节流部541形成于基板台52C的下表面，压力损失元件542设置于基板台52C的内侧(储存槽内)，因此不会使支撑机构53D1大型化，即不会使微动台50D1大型化，而可进一步使传递至微动台50D1的外部干扰衰减。
(变形例3-2)
图9(B)是概略地表示第一实施方式的变形例3-2的基板台装置20D2的结构的图。在变形例3-2的基板台装置20D2中，支撑机构53D2除了包括气体弹簧531以外，也包括作为衰减机构的阻尼机构54B。由此，可进一步使传递至微动台50D2的外部干扰衰减。由于其他结构与第一实施方式相同，因此省略详细说明。
由于阻尼机构54B能够设置于由气体弹簧531与基板台52A形成的储存槽内部，因此不会使支撑机构53D2大型化，即不会使微动台50D2大型化，而可进一步使传递至微动台50D2的外部干扰衰减。
(变形例4)
图10是概略地表示第一实施方式的变形例4的基板台装置20E的结构的图。如图10所示，变形例4的基板台装置20E包括支撑微动台50E的微动台支撑机构80A。
微动台支撑机构80A包括工作台部83以及气体轴承81、82。工作台部83插入至形成于Y粗动台30上的开口部(参照图3(B))内。工作台部83经由多个连接装置90(也称为挠曲(flexure)装置)与Y粗动台30机械连接，通过工作台部83被Y粗动台30牵引，微动台支撑机构80A与Y粗动台30一体地沿XY平面移动。
在工作台部83的下表面(-Z侧的面)上安装有轴承面朝向-Z侧的气体轴承82。由此，微动台支撑机构80A经由气体轴承82以非接触状态载置于上表面的平面度被加工得非常高的压盘19上。在工作台部83的上表面(+Z侧的面)上安装有轴承面朝向+Z侧的气体轴承81(称为密封垫)。
另外，在变形例4中，支撑气体弹簧531的支撑部533的下表面的平面度被加工得非常高，作为微动台支撑机构80A的所述密封垫81的导引面而发挥作用。
在变形例4中，支撑机构53E的气体弹簧531与基板台52A直接连接，基板台52A的内部与气体弹簧531的内部连通。由于其他结构与第一实施方式相同，因此省略详细说明。
即使采用变形例4的微动台50E，也可获得与第一实施方式同样的效果。再者，也可与变形例1同样地，在变形例4中，利用板簧连接基板台52A与支撑部533。由此，可获得与变形例1同样的效果。另外，与变形例2同样地，在变形例4中，也可不使基板台52A的内部与气体弹簧531的内部连通。另外，也可与变形例3-1及变形例3-2同样地，在变形例4中，支撑机构53E除了包括气体弹簧531以外，也包括衰减机构54A或阻尼机构54B。
(变形例5)
图11是概略地表示第一实施方式的变形例5的基板台装置20F的结构的图。在变形例5中，微动台支撑机构80B的工作台部83的上表面(+Z侧的面)作为微动台50F的导引面而发挥作用，在工作台部83与支撑机构53F的支撑部533之间安装有轴承面朝向-Z侧的气体轴承85。由于其他结构与变形例4相同，因此省略详细说明。即使采用变形例5的微动台50F，也可获得与第一实施方式同样的效果。
(变形例6)
所述第一实施方式及其变形例1～变形例5的支撑机构53A、支撑机构53B、支撑机构53D1、支撑机构53D2、支撑机构53E、支撑机构53F包括气体弹簧531，但支撑机构也可具有其他结构。
图12是概略地表示第一实施方式的变形例6的基板台装置20G的结构的图。如图12所示，变形例6的微动台50G的支撑机构53G包括多个螺旋弹簧534以及衰减机构54C。
多个螺旋弹簧534配置于基板台52B的下表面内的不同位置，螺旋弹簧534的一端固定于基板台52B的下表面，螺旋弹簧534的另一端固定于支撑部533上。伴随着相对于压盘19上表面的保持装置55B的姿势的变化、即保持装置55B在θx方向及θy方向上的摆动(倾斜)，多个螺旋弹簧534进行变形。例如，在保持装置55B从规定的状态沿θx方向旋转了规定角度的情况下(绕X轴旋转的情况下)，某个螺旋弹簧534(例如，设置于比保持装置55B在Y轴方向上的中心靠+Y侧的螺旋弹簧534)收缩，而另一螺旋弹簧534(例如，设置于比保持装置55B在Y轴方向上的中心靠-Y侧的螺旋弹簧534)伸长。
即，伴随着基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面所成的角度的变化，多个螺旋弹簧534以位于基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面的间隔窄的一侧的螺旋弹簧534在重力方向上的高度变低、且位于基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面的间隔宽的另一侧的螺旋弹簧534在重力方向上的高度变高的方式进行弹性变形来支撑保持装置55B。
再者，在基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面的间隔窄的位置及宽的位置，螺旋弹簧534的高度发生变化，因此螺旋弹簧534的恢复力不同。因此，伴随着基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面所成的角度的变化，配置于基板台52B的下表面内的不同位置的多个螺旋弹簧534在基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面的间隔窄的位置及宽的位置，以不同的力支撑保持装置55B。
衰减机构54C在与移动基准面(XY平面)垂直的方向(Z轴方向)上产生衰减力。由于其他结构与变形例4相同，因此省略详细说明。
变形例6的基板台装置20G包括：保持装置55B，具有支撑基板P的支撑面(基板固持器51A的上表面)；支撑机构53G，具有从下方支撑保持装置55B的能够进行弹性变形的多个螺旋弹簧534；压盘19，具有支撑支撑机构53G的支撑面；以及Z音圈马达61Z，使保持装置55B移动以变更基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面所成的角度，伴随着基于Z音圈马达61Z的角度的变更，支撑机构53G以在多个螺旋弹簧534中支撑基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面的间隔窄的一侧的螺旋弹簧534收缩、且支撑基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面的间隔宽的另一侧的螺旋弹簧534伸长的方式进行弹性变形来支撑保持装置55B。如此，即使使用螺旋弹簧534来代替气体弹簧531，也可获得与第一实施方式相同的效果。
在使用螺旋弹簧534的情况下，与气体弹簧相比，弹簧常数变大，可容易地构成支撑机构53G。另外，由于无需储存槽，因此可减少能量消耗。另外，通过衰减机构54C而可使传递至微动台50G的外部干扰衰减。作为衰减机构54C，优选为利用粘性流体的阻尼机构、或利用粘弹性体的固体阻尼器等。
《第二实施方式》
第一实施方式的微动台能够在θx方向及θy方向上倾斜，但第二实施方式的微动台在θx方向及θy方向上不倾斜。
图13是概略地表示第二实施方式的基板台装置20H的结构的图。基板台装置20H包括压盘19以及微动台50H。
微动台50H配置于压盘19上。微动台50H包括具有基板固持器51H及基板台52H的保持装置55H、支撑机构53H、以及气体轴承58。
支撑机构53H包括多个(例如三个)气体弹簧531H以及支撑部533。多个气体弹簧531H以包围微动台50H的重心G的方式设置，并在重力方向(Z轴方向)上产生与包括基板固持器51H及基板台52H在内的系统的重量平衡的力。
在第二实施方式中，微动台50H包括用以将基板台52H沿Z轴方向驱动的Z音圈马达62Z。Z音圈马达62Z的动子例如安装于基板台52H的下表面，定子安装于支撑部533的上表面。Z音圈马达62Z在Z轴方向上对基板台52H赋予推力。Z音圈马达62Z具有Z导引件(未图示)，所述Z导引件将Z音圈马达62Z对基板台52H的驱动方向限制于Z轴方向上。由此，微动台50H无法在θx方向及θy方向上倾斜。再者，也可分别设置对基板台52H在Z轴方向上赋予推力的Z音圈马达62Z、以及将基板台52H的驱动方向限制于Z轴方向上的Z导引件。
如此，第二实施方式的基板台装置20H包括：基板台52H，保持基板P并进行移动；以及支撑机构53H，与基板台52H连接，且在与基板台52H移动时成为基准的移动基准面(压盘19的上表面)正交的方向(Z轴方向)上，相对于移动基准面非接触地支撑基板台52H，支撑机构53H包括：多个气体弹簧531H，上端部与基板台52H连接且下端部与非接触地配置于移动基准面的上方的支撑部533连接。由此，与第一实施方式及其变形例1～变形例5同样地，通过气体弹簧531H可使从压盘19传递的外部干扰衰减。
另外，由于多个气体弹簧531H支撑保持装置55H的重量，因此Z音圈马达62Z可通过小的推力在Z轴方向上驱动保持装置55H。由此，可降低Z音圈马达62Z的发热量，从而可防止因温度变动而导致的位置测量制度的恶化。
另外，与为了在Z轴方向驱动基板台52H而使用滚珠螺杆驱动装置的情况相比较，通过使用Z音圈马达62Z，可提高微动台50H的位置控制精度。
(变形例)
图14是表示第二实施方式的变形例的基板台装置20J的结构的图。在变形例中，将第二实施方式的微动台50H适用于支架台，进而，将基板台52H构成为能够在θx方向及θy方向上倾斜。
如图14所示，基板台装置20J包括一对X导引件2(在图14中仅图示了一根)、X托架3、Y横梁导引件4以及Y托架7。
沿X轴方向延伸的一对X导引件2在底座1的上表面沿Y轴方向隔开间隔地平行铺设，分别移动自如地设置有与各X导引件2卡合的X托架3。在X托架3的上部，悬架并紧固固定有沿Y轴方向延伸且连结两托架3的桥状的Y横梁导引件4。
在图14中，如虚线所示，在X托架3与X导引件2的上表面之间配置有多个气体轴承5，在X托架3与X导引件2的侧面之间配置有多个气体轴承6。气体轴承5、气体轴承6固定于X托架3上，相对于X导引件2而受到非接触支撑的X托架3(以及固定于X托架3上的Y横梁导引件4)构成为被X导引件2导引而在X轴方向上移动自如。再者，也可省略X托架3中的任一者的气体轴承6。
在Y横梁导引件4的上部载置有Y托架7。如图14所示，在Y托架7与Y横梁导引件4的上表面之间配置有多个气体轴承8，在Y托架7的侧面7a及Y横梁导引件4的侧面4a之间配置有多个气体轴承9。这些气体轴承8、气体轴承9固定于Y托架7上，被Y横梁导引件4非接触支撑的Y托架7构成为被Y横梁导引件4导引而在Y轴方向上移动自如。Y横梁导引件4的上表面的平面度被加工得非常高。在第二实施方式的变形例中，Y横梁导引件4的上表面为移动基准面。
在Y托架7的上表面，经由作为支撑机构53J的多个气体弹簧531H而载置有基板台52H。多个气体弹簧531H配置于基板台52H的下表面内的不同位置，气体弹簧531H的一端固定于基板台52H的下表面，气体弹簧531H的另一端固定于Y托架7的上表面。
另外，在基板台52H的下表面，例如安装有Z音圈马达61Z的动子，在Y托架7的上表面安装有Z音圈马达61Z的定子。
与第二实施方式中的Z音圈马达61Z不同，变形例中的Z音圈马达61Z不具有仅在Z轴方向上限制基板台52H的驱动的Z导引件。因此，基板台52H能够在θx方向及θy方向上倾斜。
伴随着相对于Y横梁导引件4的上表面的基板台52H的姿势的变化、即基板台52H在θx方向及θy方向的摆动(倾斜)，多个气体弹簧531H进行变形。例如，在基板台52H从规定的状态沿θx方向旋转了规定角度的情况下(绕X轴旋转的情况下)，某个气体弹簧531H(例如，设置于比基板台52H在Y轴方向上的中心靠+Y侧的气体弹簧531H)收缩，而另一气体弹簧531H(例如，设置于比基板台52H在Y轴方向上的中心靠-Y侧的气体弹簧531H)伸长。由此，配置于基板台52H的下表面内的不同位置的多个气体弹簧531H以相互不同的力支撑基板台52H。
另外，变形例的微动台50J包括板簧501。板簧501的一端与从基板台52H的下表面沿重力方向(Z轴方向)延伸的连接构件523的下端部连接，另一端与Y托架7连接。板簧501以厚度方向与Z轴方向平行的方式设置。
如此设置的板簧501的Z轴方向的刚性小，X轴方向及Y轴方向的刚性大。因此，板簧501在XY平面上约束基板台52H，另一方面不阻碍基板台52H在θx方向及θy方向上的驱动。由于通过板簧501可提高气体弹簧531下部的固有振动频率，因此与第一实施方式的变形例1同样地，可提高曝光装置整体的性能。
第二实施方式的变形例的基板台装置20J包括：保持装置55H，具有支撑基板P的支撑面；支撑机构53J，朝向保持装置55H所包括的基板台52H的下表面赋予重力方向向上的力，支撑保持装置55H；以及Z音圈马达61Z，使保持装置55H移动以使移动体从第一状态(例如，基板固持器51A的上表面与压盘19的上表面平行的状态)变成保持装置55H的支撑面(基板固持器51A的上表面)的倾斜角度得到了变更的第二状态。相对于成为第二状态的保持装置55H，支撑机构53J在与重力方向交叉的方向上，在基板台52H的下表面上的相互不相同的位置，以相互不同的力支撑保持装置55H。
由于多个气体弹簧531H支撑保持装置55H的重量，因此Z音圈马达61Z可通过小的推力沿Z轴方向驱动保持装置55H。由此，可降低Z音圈马达61Z的发热量，从而可防止因温度变动而导致的位置测量制度的恶化。
再者，在所述第二实施方式及其变形例中，也可并非多个气体弹簧531，而与第一实施方式同样地，将一个气体弹簧531设置于微动台的重心G的下方。另外，也可与第一实施方式的变形例3同样地，除了设置多个气体弹簧531之外，也设置阻尼机构等衰减机构。另外，也可代替多个气体弹簧531，而与第一实施方式的变形例6同样地，将多个螺旋弹簧及衰减机构用作支撑机构。另外，也可为并用气体弹簧及螺旋弹簧来支撑基板台的结构。进而，也可并用衰减机构。
另外，在第一实施方式及其变形例1～变形例5中，对微动台具有一个气体弹簧531的情况进行了说明，但并不限于此，与第二实施方式及其变形例同样地，微动台也可具有多个气体弹簧。
另外，在所述第一实施方式、第二实施方式及这些的变形例中，也可不使用气体弹簧或螺旋弹簧，而使基板台在支撑部533上磁悬浮。再者，也可并用气体弹簧或螺旋弹簧及磁悬浮，将基板台支撑于支撑部533上。
再者，在所述各实施方式中，作为投影光学系统16，使用等倍系统，但并不限于此，也可使用缩小系统或放大系统。
作为曝光装置的用途，并不限定于在方型的玻璃板上转印液晶显示器件图案的液晶用的曝光装置，例如也可广泛地应用于有机电致发光(Electro-Luminescence，EL)面板制造用的曝光装置、半导体制造用的曝光装置、用以制造薄膜磁头、微机器及去氧核糖核酸(Deoxyribonucleic acid，DNA)芯片等的曝光装置。另外，不仅是半导体器件等微元件，也可应用于为了制造光曝光装置、极紫外线(Extreme Ultraviolet，EUV)曝光装置、X射线曝光装置及电子束曝光装置等中所使用的掩模或光掩模，而在玻璃基板或二氧化硅晶片等上转印电路图案的曝光装置。
另外，成为曝光对象的基板不限于玻璃板，例如可为晶片、陶瓷基板、膜构件或空白掩模(mask blanks)等其他物体。另外，在曝光对象物为平板显示器用的基板的情形时，所述基板的厚度并无特别限定，例如也包含膜状(具有可挠性的片材状构件)。再者，本实施方式的曝光装置在一边的长度或对角长为500mm以上的基板为曝光对象物的情形时特别有效。另外，在曝光对象的基板为具有可挠性的片材状的情形时，所述片材也可形成为辊状。
另外，可使用所述各实施方式的曝光装置来制造作为微元件的液晶显示器件。首先，执行在感光性基板(涂布有抗蚀剂的玻璃基板等)上形成图案像的所谓光刻工序。通过所述光刻工序，而在感光性基板上形成包含多个电极等的规定图案。其后，使经曝光的基板经过显影工序、蚀刻工序、抗蚀剂剥离工序等各工序，由此在基板上形成规定的图案。其后，通过经过彩色滤光片形成工序、单元组装工序及模块组装工序等，可获得作为微元件的液晶显示器件。
再者，援用此前说明中引用的与曝光装置等相关的所有公报、国际公开、美国专利申请公开说明书及美国专利说明书的公开，作为本说明书的记载的一部分。
以上所述的实施方式为本发明的优选实施例。但是，并不限定于此，可在不脱离本发明的主旨的范围内加以各种变形而实施。
符号的说明
10A：曝光装置
20A～20J：基板台装置
50A～50J：微动台
51A、51H：基板固持器
52A～52H：基板台
53A～53J：支撑机构
61X、61Y、61Z：音圈马达
501：板簧
531、531H：气体弹簧
533：支撑部

Claims (26)

1.一种台装置，包括：
移动体，具有支撑物体的第一支撑面；
支撑部，具有规定的厚度，支撑所述移动体且能够进行弹性变形；
支撑装置，具有支撑所述支撑部的第二支撑面；以及
驱动部，使所述移动体移动以变更所述第一支撑面与所述第二支撑面所成的角度，
伴随着基于所述驱动部的所述角度的变更，所述支撑部以所述第一支撑面与所述第二支撑面的间隔窄的一侧的所述规定的厚度变薄、且所述第一支撑面与所述第二支撑面的间隔宽的另一侧的所述规定的厚度变厚的方式进行弹性变形来支撑所述移动体。
2.一种台装置，包括：
移动体，具有支撑物体的第一支撑面；
支撑部，具有从下方支撑所述移动体的能够进行弹性变形的第一支撑构件及第二支撑构件；
支撑装置，具有支撑所述支撑部的第二支撑面；以及
驱动部，使所述移动体移动以变更所述第一支撑面与所述第二支撑面所成的角度，
伴随着基于所述驱动部的所述角度的变更，所述支撑部以支撑所述第一支撑面与所述第二支撑面的间隔窄的一侧的所述第一支撑构件收缩、且支撑所述第一支撑面与所述第二支撑面的间隔宽的另一侧的所述第二支撑构件伸长的方式进行弹性变形来支撑所述移动体。
3.一种台装置，包括：
移动体，具有支撑物体的第一支撑面；
支撑部，朝向与所述第一支撑面不同的第二支撑面赋予重力方向向上的力来支撑所述移动体；以及
驱动部，使所述移动体移动以使所述移动体从第一状态变成所述第一支撑面的倾斜角度得到了变更的第二状态，
相对于成为所述第二状态的所述移动体，所述支撑部在与重力方向交叉的方向上，在所述第二支撑面上的相互不同的第一位置及第二位置，以相互不同的力支撑所述移动体。
4.根据权利要求3所述的台装置，其中，
所述支撑部具有在所述第一位置支撑所述移动体的第一支撑构件、以及在所述第二位置支撑所述移动体的第二支撑构件。
5.根据权利要求4所述的台装置，其中，
所述第一支撑构件及所述第二支撑构件通过相对于所述移动体而言不同的弹性力支撑所述移动体。
6.根据权利要求3至5中任一项所述的台装置，包括从下方支撑所述支撑部的支撑装置。
7.一种台装置，包括：
移动体，具有支撑物体的第一支撑面；
支撑装置，具有支撑所述移动体的第二支撑面；以及
支撑部，在重力方向上配置于所述移动体与所述支撑装置之间，支撑所述移动体，且在所述第一支撑面与所述第二支撑面的间隔窄的一侧厚度变薄，在所述第一支撑面与所述第二支撑面的间隔宽的另一侧厚度变厚。
8.根据权利要求7所述的台装置，其中，
包括驱动部，所述驱动部使所述移动体移动以变更所述第一支撑面与所述第二支撑面所成的角度。
9.一种台装置，包括：
移动体，载置物体；
支撑部，从下方支撑所述移动体；以及
驱动部，驱动所述移动体，使所述移动体的姿势从第一状态向第二状态变化，
所述支撑部包括相对于从所述移动体对所述支撑部施加的载荷而能够进行弹性变形的弹性构件，
所述弹性构件与基于所述驱动部的所述移动体的姿势变化相对应地使所述弹性构件的高度的分布变化。
10.一种台装置，包括：
移动体，载置物体；
支撑部，从下方支撑所述移动体；以及
驱动部，驱动所述移动体，使所述移动体的姿势从第一状态向第二状态变化，
所述支撑部包括相对于从所述移动体对所述支撑部施加的载荷而能够进行弹性变形的弹性构件，
所述弹性构件与基于所述驱动部的所述移动体的姿势变化相对应地使在与重力方向正交的方向上相互不同的位置上的所述弹性构件的重力方向上的高度变化为相互不同的高度。
11.一种台装置，包括：
移动体，载置物体；
支撑部，从下方支撑所述移动体；以及
驱动部，驱动所述移动体，使所述移动体的姿势从第一状态向第二状态变化，
所述支撑部包括相对于从所述移动体对所述支撑部施加的载荷而能够进行弹性变形的弹性构件，
所述弹性构件使在与重力方向正交的方向上相互不同的第一位置及第二位置上的所述弹性构件的重力方向上的高度的比在所述第一状态与所述第二状态下变化为不同的大小。
12.根据权利要求1、2、6及8中任一项所述的台装置，其中，
所述驱动部具有：
第一驱动部，使被所述支撑部支撑的所述移动体相对于所述支撑装置进行相对移动；以及
第二驱动部，包括设置于所述第一驱动部上的第一构件以及设置于所述移动体上的第二构件，经由相互非接触地配置的所述第一构件及所述第二构件，使所述移动体相对于所述第一驱动部进行相对移动。
13.根据权利要求12所述的台装置，其中，
所述第二驱动部将用以通过所述第一驱动部使所述移动体相对于所述支撑装置进行相对移动的驱动力经由所述第一构件及所述第二构件传递至所述移动体。
14.根据权利要求13所述的台装置，其中，
所述第一构件设置于与包括所述移动体及所述支撑部的结构物的重心大致一致的位置。
15.根据权利要求14所述的台装置，其中，
所述第二驱动部以所述重心为旋转中心，使所述结构物旋转移动。
16.根据权利要求12至15中任一项所述的台装置，其中，
包括板簧，所述板簧以一端与所述移动体连接、另一端与所述支撑部连接且厚度方向与和所述移动体的移动基准面正交的方向平行的方式设置。
17.根据权利要求1至16中任一项所述的台装置，其中，
所述支撑部与所述移动体连接。
18.根据权利要求1至17中任一项所述的台装置，其中，
所述支撑部具有衰减机构，所述衰减机构对于所述移动体在重力方向上产生衰减力。
19.根据权利要求1至18中任一项所述的台装置，其中，
所述支撑部是内部充满气体的空气弹簧。
20.根据权利要求19所述的台装置，其中，
所述移动体是中空，
所述移动体的内部与所述气体弹簧的内部连通。
21.根据权利要求1至20中任一项所述的台装置，其中，
所述支撑部是螺旋弹簧。
22.一种曝光装置，包括：
如权利要求1至21中任一项所述的台装置；以及
图案形成装置，通过能量射束在所述物体上形成规定的图案。
23.根据权利要求22所述的曝光装置，其中，
所述物体是用于平板显示器的基板。
24.根据权利要求23所述的曝光装置，其中，
所述基板的至少一边的长度或对角长度为500mm以上。
25.一种平板显示器的制造方法，包括：
使用如权利要求22至24中任一项所述的曝光装置对所述物体进行曝光；以及
对经曝光的所述物体进行显影。
26.一种元件制造方法，包括：
使用如权利要求22至24中任一项所述的曝光装置对所述物体进行曝光；以及
对经曝光的所述物体进行显影。
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