JP6508268B2 - 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の第5の態様によれば、物体を保持し、互いに交差する第1方向と第2方向とへ移動可能な物体保持部を支持する支持部を第1ベースにより支持することと、上下方向に関する前記物体保持部の位置を計測する計測部を、前記第2方向に関して第1ベースと離間して配置されるよう前記第1ベースの両側に配置された第2ベースにより支持することと、前記物体保持部を支持する前記支持部を、前記第1ベースに対して第1方向へ移動させることと、前記第1駆動部を支持し、前記第1ベースと前記第2ベースとを前記第1方向に交差する第2方向へ移動させることと、を含む移動方法が、提供される。
本発明の第6の態様によれば、第5の態様に係る移動方法により、前記物体を移動させることと、前記第1方向へ移動された前記物体に対して、エネルギビームを用いて所定のパターンを形成することと、を含む露光方法が、提供される。
本発明の第7の態様によれば、第6の態様に係る露光方法を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法が、提供される。
本発明の第8の態様によれば、第6の態様に係る露光方法を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法が、提供される。
以下、第1の実施形態について、図1〜図4(B)に基づいて説明する。
図5〜図6(B)には、上記第1の実施形態の変形例(その1)に係る基板ステージ装置20Bが示されている(なお、図5では微動ステージ30(図6(A)参照)は不図示)。
図7及び図8には、上記第1の実施形態の変形例(その2)に係る基板ステージ装置20Cが示されている。上記第1の実施形態の基板ステージ装置20Aは、図4(A)に示されるように、第1ステップガイド50上で重量キャンセル装置40がレベリング装置46を介して微動ステージ30を下方から支持する構成であったのに対し、図8に示されるように、基板ステージ装置20Cでは、第1ステップガイド70A上にレベリング装置78が直接搭載されている点が異なる。なお、不図示であるが、第1ステップガイド70Aは、上記第1の実施形態と同様に、一対のXビーム24(図7及び図8では不図示。図1など参照)に対して機械的に連結されており、一対のXビーム24と一体的にY軸方向に移動する。また、粗動ステージ28は、一対のXビーム24上に搭載され、該一対のXビーム24上でX軸方向に駆動されると共に、一対のXビーム24と共にY軸方向に移動する。
図9には、上記第1の実施形態の変形例(その3)に係る基板ステージ装置20Dが示されている。基板ステージ装置20Dは、上記基板ステージ装置20C(図7及び図8参照)に比べて、第1ステップガイド70Bの構成が異なる。以下、相違点についてのみ説明する。
図11には、上記第1の実施形態の変形例(その4)に係る基板ステージ装置20Eが示されている。基板ステージ装置20Eは、上記基板ステージ装置20D(図9参照)に比べて、第1ステップガイド70Cの構成が異なる。以下、相違点についてのみ説明する。
図12には、上記第1の実施形態の変形例(その5)に係る基板ステージ装置20Fが示されている。基板ステージ装置20Fは、上記基板ステージ装置20C(図7及び図8参照)に比べて、レベリング装置78(図7及び図8参照)、及び複数のZボイスコイルモータ36z(図7参照)を有していない点、並びに第1ステップガイド70Dの構成が異なる。以下、相違点についてのみ説明する。
次に第2の実施形態について図13〜図17を用いて説明する。第2の実施形態に係る液晶露光装置の構成は、基板ステージ装置20Gの構成を除き、上記第1の実施形態と同じであるので、上記第1の実施形態と同様の構成、及び機能を有する要素に関しては、同一の符号を付してその詳細な説明を適宜省略する。
図18及び図19には、上記第2の実施形態の変形例(その1)に係る基板ステージ装置20Hが示されている。微動ステージ30のZ・チルト位置情報は、上記第2の実施形態では、図17に示されるように、複数のZセンサ38zにより、第2ステップガイド54を用いて求められたのに対し、図18及び図19に示される基板ステージ装置20Hでは、複数のZセンサ38zにより、基板ステージ架台18gの上面を用いて求められる点が異なる。
図20には、上記第2の実施形態の変形例(その2)に係る基板ステージ装置20Iが示されている。基板ステージ装置20Iは、上記第2の実施形態に係る基板ステージ装置20G(図13〜図17参照)と、上記第1の実施形態の変形例(その2)に係る基板ステージ装置20C(図7及び図8参照)とを組み合わせたような構成を有している。
図21及び図22には、上記第2の実施形態の変形例(その3)に係る基板ステージ装置20Jが示されている。上記第1の実施形態に係る基板ステージ装置20A(図1など参照)、及び上記第2の実施形態に係る基板ステージ装置20G(図13など参照)では、一対のXビーム24と粗動ステージ28とにより、いわゆるガントリ式の2軸ステージ装置が構成されたのに対し、基板ステージ装置20Jでは、重量キャンセル装置40を支持する第1ステップガイド57と粗動ステージ28とにより、いわゆるガントリ式の2軸ステージ装置が構成される点が異なる。
図23及び図24には、上記第2の実施形態の変形例(その4)に係る基板ステージ装置20Kが示されている。基板ステージ装置20Kは、上記第2の実施形態の変形例(その3)に係る基板ステージ装置20J(図21及び図22参照)と、上記第1の実施形態の変形例(その2)に係る基板ステージ装置20C(図7及び図8参照)とを組み合わせたような構成を有している。
Claims (18)
- 物体を保持し、互いに交差する第1方向と第2方向とへ移動可能な物体保持部と、
前記物体保持部を支持する支持部と、
前記支持部を支持する第1ベースと、
前記第1方向と前記第2方向とに交差する第3方向に関する前記物体保持部の位置を計測する計測部と、
前記第2方向に関して第1ベースと離間して配置されるよう前記第2方向に関して前記第1ベースの両側に配置され、前記計測部を支持する第2ベースと、
前記物体保持部を支持する前記支持部を、前記第1ベースに対して前記第1方向へ移動させる第1駆動部と、
前記第1駆動部を支持し、前記第1ベースと前記第2ベースとを前記第2方向へ移動させる第2駆動部と、を備える移動体装置。 - 前記第1ベースと前記第2ベースとを支持する第1支持装置と、
前記第1方向に関して前記第1支持装置と離間して配置され、前記第2駆動部を支持する第2支持装置と、を備える請求項1に記載の移動体装置。 - 前記支持部と前記第1駆動部とを接続する第1接続部と、
前記計測部と前記第1駆動部とを接続する第2接続部と、を備え、
前記第1駆動部は、前記第1接続部と前記第2接続部とを介して、前記物体保持部を支持する前記支持部と前記計測部とを前記第1方向へ移動させる請求項1または2に記載の移動体装置。 - 前記計測部は、レーザーを出射するセンサ部と前記レーザーが照射されるターゲット部とを有し、
前記センサ部は、前記物体保持部に設けられ、
前記ターゲット部は、前記第2ベースに支持される請求項1〜3の何れか一項に記載の移動体装置。 - 前記第1ベースと前記第2駆動部とを接続する第1接続装置と、
前記第2ベースと前記第2駆動部とを接続する第2接続装置と、を備え、
前記第2駆動部は、前記第1接続装置と前記第2接続装置とを介して、前記第1ベースと前記第2ベースとを前記第2方向へ移動させる請求項1〜4の何れか一項に記載の移動体装置。 - 前記第1ベースと前記第2ベースとを連結する連結部材を備える請求項1〜5の何れか一項に記載の移動体装置。
- 前記第1ベースは、前記支持部が前記第1ベース上を前記第1方向と前記第2方向とへ相対移動できるよう、前記支持部を非接触支持する請求項1〜6の何れか一項に記載の移動体装置。
- 請求項1〜7のいずれか一項に記載の移動体装置と、
前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置。 - 前記物体は、フラットパネルディスプレイ装置に用いられる基板である請求項8に記載の露光装置。
- 前記基板は、少なくとも一辺の長さ又は対角長が500mm以上である請求項9に記載の露光装置。
- 請求項9又は10に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。 - 請求項8に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。 - 物体を保持し、互いに交差する第1方向と第2方向とへ移動可能な物体保持部を支持する支持部を第1ベースにより支持することと、
上下方向に関する前記物体保持部の位置を計測する計測部を、前記第2方向に関して第1ベースと離間して配置されるよう前記第1ベースの両側に配置された第2ベースにより支持することと、
前記物体保持部を支持する前記支持部を、前記第1ベースに対して第1方向へ移動させることと、
前記第1駆動部を支持し、前記第1ベースと前記第2ベースとを前記第1方向に交差する第2方向へ移動させることと、を含む移動方法。 - 請求項13に記載の移動方法により、前記物体を移動させることと、
前記第1方向へ移動された前記物体に対して、エネルギビームを用いて所定のパターンを形成することと、を含む露光方法。 - 前記物体は、フラットパネルディスプレイ装置に用いられる基板である請求項14に記載の露光方法。
- 前記基板は、少なくとも一辺の長さ又は対角長が500mm以上である請求項15に記載の露光方法。
- 請求項14〜16の何れか一項に記載の露光方法を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。 - 請求項14〜16の何れか一項に記載の露光方法を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
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