JP2017211672A - 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
以下、第1の実施形態について、図1〜図4(B)に基づいて説明する。
図5〜図6(B)には、上記第1の実施形態の変形例(その1)に係る基板ステージ装置20Bが示されている(なお、図5では微動ステージ30(図6(A)参照)は不図示)。
図7及び図8には、上記第1の実施形態の変形例(その2)に係る基板ステージ装置20Cが示されている。上記第1の実施形態の基板ステージ装置20Aは、図4(A)に示されるように、第1ステップガイド50上で重量キャンセル装置40がレベリング装置46を介して微動ステージ30を下方から支持する構成であったのに対し、図8に示されるように、基板ステージ装置20Cでは、第1ステップガイド70A上にレベリング装置78が直接搭載されている点が異なる。なお、不図示であるが、第1ステップガイド70Aは、上記第1の実施形態と同様に、一対のXビーム24(図7及び図8では不図示。図1など参照)に対して機械的に連結されており、一対のXビーム24と一体的にY軸方向に移動する。また、粗動ステージ28は、一対のXビーム24上に搭載され、該一対のXビーム24上でX軸方向に駆動されると共に、一対のXビーム24と共にY軸方向に移動する。
図9には、上記第1の実施形態の変形例(その3)に係る基板ステージ装置20Dが示されている。基板ステージ装置20Dは、上記基板ステージ装置20C(図7及び図8参照)に比べて、第1ステップガイド70Bの構成が異なる。以下、相違点についてのみ説明する。
図11には、上記第1の実施形態の変形例(その4)に係る基板ステージ装置20Eが示されている。基板ステージ装置20Eは、上記基板ステージ装置20D(図9参照)に比べて、第1ステップガイド70Cの構成が異なる。以下、相違点についてのみ説明する。
図12には、上記第1の実施形態の変形例(その5)に係る基板ステージ装置20Fが示されている。基板ステージ装置20Fは、上記基板ステージ装置20C(図7及び図8参照)に比べて、レベリング装置78(図7及び図8参照)、及び複数のZボイスコイルモータ36z(図7参照)を有していない点、並びに第1ステップガイド70Dの構成が異なる。以下、相違点についてのみ説明する。
次に第2の実施形態について図13〜図17を用いて説明する。第2の実施形態に係る液晶露光装置の構成は、基板ステージ装置20Gの構成を除き、上記第1の実施形態と同じであるので、上記第1の実施形態と同様の構成、及び機能を有する要素に関しては、同一の符号を付してその詳細な説明を適宜省略する。
図18及び図19には、上記第2の実施形態の変形例(その1)に係る基板ステージ装置20Hが示されている。微動ステージ30のZ・チルト位置情報は、上記第2の実施形態では、図17に示されるように、複数のZセンサ38zにより、第2ステップガイド54を用いて求められたのに対し、図18及び図19に示される基板ステージ装置20Hでは、複数のZセンサ38zにより、基板ステージ架台18gの上面を用いて求められる点が異なる。
図20には、上記第2の実施形態の変形例(その2)に係る基板ステージ装置20Iが示されている。基板ステージ装置20Iは、上記第2の実施形態に係る基板ステージ装置20G(図13〜図17参照)と、上記第1の実施形態の変形例(その2)に係る基板ステージ装置20C(図7及び図8参照)とを組み合わせたような構成を有している。
図21及び図22には、上記第2の実施形態の変形例(その3)に係る基板ステージ装置20Jが示されている。上記第1の実施形態に係る基板ステージ装置20A(図1など参照)、及び上記第2の実施形態に係る基板ステージ装置20G(図13など参照)では、一対のXビーム24と粗動ステージ28とにより、いわゆるガントリ式の2軸ステージ装置が構成されたのに対し、基板ステージ装置20Jでは、重量キャンセル装置40を支持する第1ステップガイド57と粗動ステージ28とにより、いわゆるガントリ式の2軸ステージ装置が構成される点が異なる。
図23及び図24には、上記第2の実施形態の変形例(その4)に係る基板ステージ装置20Kが示されている。基板ステージ装置20Kは、上記第2の実施形態の変形例(その3)に係る基板ステージ装置20J(図21及び図22参照)と、上記第1の実施形態の変形例(その2)に係る基板ステージ装置20C(図7及び図8参照)とを組み合わせたような構成を有している。
Claims (42)
- 所定の二次元平面内の第1方向に延び、前記二次元平面内で前記第1方向に直交する第2方向に沿った位置を移動可能なガイド部材と、
前記ガイド部材に下方から支持され、前記ガイド部材により規定される第1面に沿って前記第1方向に沿った位置を移動可能、且つ前記ガイド部材と共に前記第2方向に沿った位置を移動可能な移動体と、
前記ガイド部材とは別部材により規定される第2面を基準面として前記移動体の前記二次元平面に交差する方向に関する位置情報を求める位置計測系と、を備える移動体装置。 - 前記別部材は、前記第1方向に延び、前記移動体と共に前記第2方向に沿った位置を移動可能な可動部材である請求項1に記載の移動体装置。
- 前記可動部材は、前記第2方向に関して、前記ガイド部材の一側及び他側それぞれに設けられる請求項2に記載の移動体装置。
- 前記可動部材に支持され、該可動部材により規定される前記第2面上を前記移動体と共に前記第1方向に沿って移動し、且つ前記可動部材と共に前記第2方向に沿って移動する計測用移動部材を更に備え、
前記位置計測系は、前記計測用移動部材を用いて前記位置情報を求める請求項1〜3のいずれか一項に記載の移動体装置。 - 前記計測用移動部材は、前記可動部材に非接触支持される請求項4に記載の移動体装置。
- 前記移動体を前記二次元平面に沿って誘導する誘導装置を更に備え、
前記ガイド部材、前記可動部材、及び前記計測用移動部材は、前記誘導装置に誘導されることにより一体的に前記第2方向に沿った位置を移動する請求項4又は5に記載の移動体装置。 - 前記計測用移動部材は、前記誘導装置により前記第1方向に沿って駆動される請求項6に記載の移動体装置。
- 前記位置計測系は、前記可動部材の上面を用いて前記位置情報を求める請求項1〜3のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記移動体を前記二次元平面に沿って誘導する誘導装置を更に備え、
前記ガイド部材及び前記可動部材は、前記誘導装置に誘導されることにより一体的に前記第2方向に沿った位置を移動する請求項8に記載の移動体装置。 - 前記誘導装置は、第1ベース部材上に設けられ、
前記ガイド部材は、前記第1ベース部材とは異なる第2ベース部材上に設けられる請求項6、7、及び9に記載の移動体装置。 - 前記可動部材は、前記第2ベース部材とは異なる第3ベース部材上に設けられる請求項10に記載の移動体装置。
- 前記別部材は、前記ガイド部材の下方に設けられ、前記移動体の前記二次元平面内の移動可能範囲をカバーする広さで形成される請求項1に記載の移動体装置。
- 前記ガイド部材は、前記別部材とは異なるベース部材上に設けられる請求項12に記載の移動体装置。
- 前記ガイド部材は、前記移動体の自重を支持した状態で前記第1面上を前記移動体と共に前記第1方向に沿って移動し、且つ前記ガイド部材と共に前記第2方向に沿って移動する支持装置を介して前記移動体を下方から支持する請求項1〜13のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記支持装置は、前記ガイド部材に非接触支持される請求項14に記載の移動体装置。
- 前記支持装置は、前記移動体を前記二次元平面に対して傾動可能に支持する傾動支持装置を介して前記移動体を支持する請求項14又は15に記載の移動体装置。
- 前記ガイド部材は、前記移動体を前記二次元平面に交差する方向に駆動する駆動装置を含む請求項1〜16のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記ガイド部材は、前記移動体の自重を支持する自重支持装置を含む請求項17に記載の移動体装置。
- 前記ガイド部材は、前記移動体を前記二次元平面に対して傾動可能に支持する傾動支持装置を介して前記移動体を支持する請求項17又は18に記載の移動体装置。
- 前記傾動支持装置は、前記ガイド部材に非接触支持される請求項19に記載の移動体装置。
- 前記ガイド部材は、前記第1面を前記二次元平面に対して傾動させる傾動駆動装置を有する請求項17又は18に記載の移動体装置。
- 前記移動体は、前記ガイド部材に非接触支持される請求項21に記載の移動体装置。
- 前記位置計測系は、前記移動体に設けられた計測部材を用いて前記移動体の前記二次元平面に交差する方向に関する位置情報を求める請求項1〜22のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 所定の二次元平面内の第1方向に延び、前記二次元平面内で前記第1方向に直交する第2方向に沿った位置を移動可能なガイド部材と、
前記ガイド部材に下方から支持され、前記ガイド部材により規定されるガイド面に沿って前記第1方向に沿った位置を移動可能、且つ前記ガイド部材と共に前記第2方向に沿った位置を移動可能な移動体と、
前記ガイド部材に設けられ、前記移動体を前記二次元平面に交差する方向に駆動する駆動装置と、を備える移動体装置。 - 前記ガイド部材は、前記移動体の自重を支持する自重支持装置を含む請求項24に記載の移動体装置。
- 前記ガイド部材は、前記移動体を前記二次元平面に対して傾動可能に支持する傾動支持装置を介して前記移動体を支持する請求項24又は25に記載の移動体装置。
- 前記傾動支持装置は、前記ガイド部材に非接触支持される請求項26に記載の移動体装置。
- 前記ガイド部材は、前記ガイド面を前記二次元平面に対して傾動させる傾動駆動装置を有する請求項24又は25に記載の移動体装置。
- 前記移動体は、前記ガイド部材に非接触支持される請求項28に記載の移動体装置。
- 所定の二次元平面内の第1方向に延び、前記二次元平面内で前記第1方向に直交する第2方向に沿った位置を移動可能な第1移動部材と、
前記第1移動部材に設けられ、前記第1移動部材に沿って前記第1方向に沿った位置を移動可能、且つ前記第1移動部材と共に前記第2方向に移動可能な第2移動部材と、
前記第1移動部材に下方から支持され、前記第2移動部材に誘導されて前記二次元平面に沿って移動する移動体と、を備える移動体装置。 - 前記第2移動部材を前記第1移動部材に沿って駆動するためのアクチュエータの要素が前記第1及び第2移動部材の少なくとも一方に設けられる請求項30に記載の移動体装置。
- 前記第1移動部材は、自重支持装置を介して前記移動体を下方から支持する請求項30又は31に記載の移動体装置。
- 前記第1移動部材は、前記第2移動部材、及び前記移動体を前記二次元平面に交差する方向に駆動する駆動装置を含む請求項30又は31に記載の移動体装置。
- 前記第1移動部材は、前記第2移動部材、及び前記移動体の自重を支持する自重支持装置を含む請求項33に記載の移動体装置。
- 前記第1移動部材とは別部材により規定される基準面を用いて前記移動体の前記二次元平面に交差する方向に関する位置情報を求める位置計測系を更に備える請求項30〜34のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記別部材は、前記第1方向に延び、前記移動体と共に前記第2方向に沿った位置を移動可能な可動部材である請求項35に記載の移動体装置。
- 前記可動部材は、前記第2方向に関して、前記第1移動部材の一側及び他側それぞれに設けられる請求項36に記載の移動体装置。
- 前記移動体に所定の物体が保持される請求項1〜37のいずれか一項に記載の移動体装置と、
前記移動体に保持された前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置。 - 前記物体は、フラットパネルディスプレイ装置に用いられる基板である請求項38に記載の露光装置。
- 前記基板は、少なくとも一辺の長さ又は対角長が500mm以上である請求項39に記載の露光装置。
- 請求項39又は40に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。 - 請求項38に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
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---|---|---|---|---|
WO2010122788A1 (ja) * | 2009-04-21 | 2010-10-28 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2011232628A (ja) * | 2010-04-28 | 2011-11-17 | Nikon Corp | 移動体装置、露光装置、デバイス製造方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
WO2012033209A1 (en) * | 2010-09-07 | 2012-03-15 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method |
JP5910992B2 (ja) * | 2012-04-04 | 2016-04-27 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
JP6197909B2 (ja) * | 2016-04-06 | 2017-09-20 | 株式会社ニコン | 移動体装置 |
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WO2010122788A1 (ja) * | 2009-04-21 | 2010-10-28 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2011232628A (ja) * | 2010-04-28 | 2011-11-17 | Nikon Corp | 移動体装置、露光装置、デバイス製造方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
WO2012033209A1 (en) * | 2010-09-07 | 2012-03-15 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method |
JP2013538434A (ja) * | 2010-09-07 | 2013-10-10 | 株式会社ニコン | 露光装置、移動体装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
JP5910992B2 (ja) * | 2012-04-04 | 2016-04-27 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
JP6197909B2 (ja) * | 2016-04-06 | 2017-09-20 | 株式会社ニコン | 移動体装置 |
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