JP5134732B2 - Euvマイクロリソグラフィ用の照明光学系 - Google Patents
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Description
6,10 事前設定デバイス
13 光学構成要素
19 物体視野
31 評価デバイス
47 照明光学系
50,53 検出器
61,62 アクチュエータ
Claims (20)
- EUV使用放射線ビーム(3)を用いて物体視野(19)の位置の物体(18)を照明する目的のためのEUVマイクロリソグラフィのための照明光学系(26;38;47)であって、
物体視野(19)を該物体視野内の所定の強度分布及び所定の照明角度分布で照明するための照明強度事前設定デバイス(6)及び照明角度事前設定デバイス(10)を含み、かつ
前記物体視野照明の強度分布、及び
前記物体視野照明の角度分布、
という照明パラメータの少なくとも一方を補正するための照明補正デバイスを含み、
前記照明補正デバイスは、
物体視野平面(17)又はそれに共役な平面の領域に配置され、かつ投影露光中に物体(18)が変位した変位方向(y)に沿って変位させることができる複数の指状絞り(27;74)を有する絞り配列(24;73)と、
前記物体視野(19)の領域におけるEUV使用放射線ビーム(3)の位置を測定するための少なくとも1つの検出器(28;46;50,53;75,76,77,78)と、
信号伝達目的で前記検出器(28;46;50,53;75,76,77,78)に接続され、該検出器のデータを評価して該検出器のデータを制御信号に変換するための少なくとも1つの評価デバイス(31)と、
信号伝達目的で前記評価デバイス(31)に接続され、前記EUV使用放射線ビーム(3)と前記絞り配列(24,73)の間の相対位置を変更するための少なくとも1つのアクチュエータ(32;61,62,62a)と、
を含み、
前記照明補正デバイスは、照明期間中に前記使用放射線ビーム(3)のビーム方向と垂直に前記指状絞り(27;74)の方向に該使用放射線ビーム(3)のエッジに対して8μmの最大変位が保証されるように設計され、
前記照明補正デバイスは、前記アクチュエータ(32;61,62,62a)が前記絞り配列(24,73)の変位を達成し、かつこれによって前記EUV使用放射線ビーム(3)と該絞り配列(24,73)の間の前記相対位置の変動を引き起こすように設計されることを特徴とする照明光学系。 - 前記照明補正デバイスの前記少なくとも1つの検出器(75,76)は、指状絞り(27;74)の前記使用放射線ビーム(3)に向く端部に配置されることを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。
- 前記指状絞り(27;74)は、互いに隣接して前記変位方向(y)に対して横断(x)し、かつそれらが全体として該変位方向(y)に対して横断する物体視野寸法(x)を完全に覆うように設計される、
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の照明光学系。 - EUV使用放射線ビーム(3)を用いて物体視野(19)の位置の物体(18)を照明する目的のためのEUVマイクロリソグラフィのための照明光学系(26;38;47)であって、
物体視野(19)を該物体視野内の所定の強度分布及び所定の照明角度分布で照明するための照明強度事前設定デバイス(6)及び照明角度事前設定デバイス(10)を含み、かつ
前記物体視野照明の強度分布、及び
前記物体視野照明の角度分布、
という照明パラメータの少なくとも一方を補正するための照明補正デバイスを含み、
前記照明補正デバイスは、
物体視野平面(17)又はそれに共役な平面の領域に配置され、かつ投影露光中に物体(18)が変位した変位方向(y)に沿って変位させることができる複数の指状絞り(27;74)を有する絞り配列(24;73)と、
前記物体視野(19)の領域におけるEUV使用放射線ビーム(3)の位置を測定するための少なくとも1つの検出器(28;46;50,53;75,76,77,78)と、
信号伝達目的で前記検出器(28;46;50,53;75,76,77,78)に接続され、該検出器のデータを評価して該検出器のデータを制御信号に変換するための少なくとも1つの評価デバイス(31)と、
信号伝達目的で前記評価デバイス(31)に接続され、前記EUV使用放射線ビーム(3)と前記絞り配列(24,73)の間の相対位置を変更するための少なくとも1つのアクチュエータ(32;61,62,62a)と、
を含み、
前記照明補正デバイスは、照明期間中に前記使用放射線ビーム(3)のビーム方向と垂直に前記指状絞り(27;74)の方向に該使用放射線ビーム(3)のエッジに対して8μmの最大変位が保証されるように設計され、
前記照明補正デバイスは、前記アクチュエータ(32;61,62,62a)が少なくとも1つのEUV補正ミラー(6;13;6,10;10,13)の変位を達成し、かつこれによって前記EUV使用放射線ビーム(3)と前記絞り配列(24,73)の間の前記相対位置の変動を引き起こすように設計され、
前記照明強度事前設定デバイス(6)と前記照明角度事前設定デバイス(10)との下流に配置され、かつ前記物体視野(19)の上流に配置されるEUVミラー(13)が、EUV補正ミラーとして設計される
ことを特徴とする照明光学系。 - 前記EUV補正ミラー(6,13;6,10;10,13)は、少なくとも2つの自由度で駆動されることを通して変位させることができることを特徴とする請求項4に記載の照明光学系。
- 前記補正ミラー(6,10,13)は、少なくとも2つの圧電アクチュエータ(64;70)を通じて又は少なくとも2つのローレンツアクチュエータを通じて駆動されることを通して変位させることができることを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の照明光学系。
- 前記EUV補正ミラー(6)は、外周方向に分散するように配置された3つのアクチュエータ(70)を有し、それを通じて該EUV補正ミラー(6)をその光学面に垂直な軸(67)の回りにピボット回転させることができることを特徴とする請求項4から請求項6のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 圧電アクチュエータ(64;70)が、それぞれ、圧電活物質から作られた複数の積み重ねた個々の板を有することを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の照明光学系。
- 正確に2つのEUV補正ミラー(6,13;6,10;10,13)は、少なくとも2つの自由度で駆動されることを通して変位させることができることを特徴とする請求項3から請求項8のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記照明角度を事前設定するように機能する照明光学系の瞳ファセットミラー(10)が、EUV補正ミラーとして設計されることを特徴とする請求項4から請求項9のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記照明補正デバイスは、前記照明パラメータが、前記検出器(28;46;50,53;75,76,77,78)による照明実際値の取得から前記アクチュエータ(32;61,62,62a)の前記駆動された変位までの5msの前記領域における時定数を用いて補正されるように設計されることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記照明補正デバイスは、前記使用放射線ビーム(3)の経路と一致するか又はそれに近接する経路上で誘導される調節放射線ビーム(43から45)を有する少なくとも1つの調節光源(39から41)を含み、該照明補正デバイスの前記少なくとも1つの検出器(46)は、該少なくとも1つの調節放射線ビーム(43から45)に対して感受性を有するように設計されることを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記照明補正デバイスの前記少なくとも1つの検出器(28;46;50,53;75,76,77,78)は、前記使用放射線ビーム(3)で伝達され、かつ該使用放射線ビーム(3)の波長とは異なる光波長に対して感受性を有するように設計されることを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記照明補正デバイスの前記少なくとも1つの検出器(28;46;50,53;75,76,77,78)は、空間分解能を用いて測定を行い、かつ測定光ビームの少なくとも1つの区画を取得する検出器として設計されることを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 互いに光学的に共役ではない平面に配置された2つの検出器(50,53)が設けられることを特徴とする請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記照明補正デバイスの前記少なくとも1つの検出器(77,78)は、それが、前記使用放射線ビーム(3)の前記変位方向(y)に対して横断(x)するエッジ側区画を該変位方向(y)と平行な該使用放射線ビーム(3)の広がり全体に沿って空間分解能を用いて取得するように設計されることを特徴とする請求項1から請求項15のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記少なくとも1つの検出器(28;46;50,53;75,76,77,78)は、熱検出器として設計されることを特徴とする請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 請求項1から請求項17のいずれか1項に記載の照明光学系を含み、
EUV光源を有し、
前記照明光学系及び前記光源は、共通の支持フレーム上に堅固に固定される、
ことを特徴とする照明系。 - 照明補正デバイスの評価デバイス(31)が、前記光源(2)の制御デバイス(81)に信号伝達目的で接続されることを特徴とする請求項18に記載の照明系。
- 請求項1から請求項19に記載の照明系、
を含むことを特徴とする投影露光機。
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