JP2012074718A - 位置決めデバイスのためのコントローラ、位置決めデバイスを制御する方法、位置決めデバイスおよび位置決めデバイスを備えるリソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】位置決めデバイスのためのコントローラは、位置決めデバイスの位置を示す位置信号を受信し、エラー信号を得るために位置信号を位置決めデバイスの所望の位置を示すセットポイント信号と比較し、変更されたエラー信号を得るためにエラー信号の振幅成分および周波数成分に基づいてエラー信号を選択的に変更し、位置決めデバイスを制御するための制御信号を変更されたエラー信号に基づいて生成するように構成される。このコントローラは、リソグラフィ装置の位置決めデバイスの制御に適用されてもよい。
【選択図】図2
Description
という形の単一ノッチフィルタ型の演算であってもよい。ここでβzとβpとは減衰係数を表し、βz>βpを満たす。また、ωzはゼロ周波数、ωpは極周波数であり、ωz=ωpを満たす。これらの周波数は、性能を制限する振動の周波数成分に合わせて決定できる。そうすることによって、(フィルタされたエラー信号のなかに)この振動を観測したか否かを識別することができる。
によって与えられる。ここでδはデッドゾーン長さであり、|e1|はフィルタされたエラー信号e1の振幅を示す。取り出されたエラー応答のなかに性能を制限する振動が十分に存在する場合、追加的なコントローラ利得が演算θ(.)によって導入される。逆に、e1がそのような振動を含まない場合、追加的な利得は導入されない。これによりフィードバックによるノイズの余分な増幅を避けることができる。
の形を取りうる。ここでαは安定性に制限された追加的な利得比であり、ωzはノッチフィルタのゼロブレイクポイント、ωpはノッチフィルタの極ブレイクポイントであり、ωz=ωpを満たす。βzとβpとは対応する減衰係数を表し、βz>βpを満たす。また、ωlpは2次の低域通過フィルタのブレイクポイントであり、βlpはその減衰係数である。結果として、説明されたコントローラ(もしくは制御方法)は、性能を制限する振動の周波数成分に基づいて、その振動と他のものとを識別することを可能とする。それによって、厳格に性能に基づいたフィルタの動作であって、上述の振動を効果的に処理する動作が可能となる。例としては、ハイブリッド制御方法を用いた結果が、基板スキャナの基板ステージにおいて明らかにされうる。ウェーハスキャナの模式的な図が例えば図1に示される。
Claims (8)
- 位置決めデバイスに使用されるためのコントローラであって、
前記位置決めデバイスの位置を示す位置信号を受信し、エラー信号を得るために前記位置信号を前記位置決めデバイスの所望の位置を示すセットポイント信号と比較し、変更されたエラー信号を得るために前記エラー信号の振幅成分および周波数成分に基づいて前記エラー信号を選択的に変更し、前記位置決めデバイスを制御するための制御信号を前記変更されたエラー信号に基づいて生成するように構成されたコントローラであり、
本コントローラは、
前記エラー信号を選択的に変更するための非線形のフィルタと、
前記非線形のフィルタによって変更されたエラー信号が入力され、入力されたエラー信号に基づいて第1出力信号を生成するフィードバックコントローラと、
前記セットポイント信号が入力され、入力されたセットポイント信号に基づいて第2出力信号を生成するフィードフォワードコントローラと、を備え、
前記非線形のフィルタは、大きさが所定の範囲内にあるエラー信号に対する利得を、大きさが前記範囲外にあるエラー信号に対する値よりも低いある値に選択的に設定し、
前記制御信号は前記第1出力信号に前記第2出力信号を加えることにより生成されるコントローラ。 - エラー信号を振幅に基づいて選択的に変更する前に周波数に基づいてフィルタリングするよう構成される請求項1に記載のコントローラ。
- 対象を位置決めする位置決めデバイスであって、
第1部分および第2部分を備え、
前記第1部分は前記第2部分に対して移動可能であり、前記第2部分は前記対象を受け、
当該位置決めデバイスはさらに、
前記対象の位置を示す位置信号を生成する位置センサと、
前記対象の位置を示す位置信号を受信し、エラー信号を得るために前記位置信号を前記対象の所望の位置を示すセットポイント信号と比較し、変更されたエラー信号を得るために前記エラー信号の振幅成分および周波数成分に基づいて前記エラー信号を選択的に変更し、前記位置決めデバイスを制御するための制御信号を前記変更されたエラー信号に基づいて生成するコントローラと、を備え、
前記コントローラは、
前記エラー信号を選択的に変更するための非線形のフィルタと、
前記非線形のフィルタによって変更されたエラー信号が入力され、入力されたエラー信号に基づいて第1出力信号を生成するフィードバックコントローラと、
前記セットポイント信号が入力され、入力されたセットポイント信号に基づいて第2出力信号を生成するフィードフォワードコントローラと、を備え、
前記非線形のフィルタは、大きさが所定の範囲内にあるエラー信号に対する利得を、大きさが前記範囲外にあるエラー信号に対する値よりも低いある値に選択的に設定し、
前記制御信号は前記第1出力信号に前記第2出力信号を加えることにより生成される位置決めデバイス。 - 前記第1部分はロングストロークアクチュエータであり、前記第2部分はショートストロークアクチュエータである請求項3に記載の位置決めデバイス。
- 前記コントローラは、エラー信号を振幅に基づいて選択的に変更する前に周波数に基づいてフィルタリングするよう構成される請求項3または4に記載の位置決めデバイス。
- 放射ビームを調節する照明システムと、
パターン形成された放射ビームを形成するために前記放射ビームの断面にパターンを付与することが可能なパターニングデバイスを支持するよう構成されたパターニングサポートと、
基板を保持するよう構成された基板サポートと、
前記基板のターゲット部分に前記パターン形成された放射ビームを投影する投影システムと、
前記サポートのうちの少なくともひとつを位置決めする位置決めデバイスと、を備え、
前記位置決めデバイスは、
第1部分および第2部分を含み、
前記第1部分は前記第2部分に対して移動可能であり、前記第2部分は前記サポートのうちの前記少なくともひとつを受け、
前記位置決めデバイスはさらに、
前記サポートのうちの前記少なくともひとつの位置を示す位置信号を生成する位置センサと、
前記サポートのうちの前記少なくともひとつの位置を示す位置信号を受信し、エラー信号を得るために前記位置信号を前記サポートのうちの前記少なくともひとつの所望の位置を示すセットポイント信号と比較し、変更されたエラー信号を得るために前記エラー信号の振幅成分および周波数成分に基づいて前記エラー信号を選択的に変更し、前記位置決めデバイスを制御するための制御信号を前記変更されたエラー信号に基づいて生成するコントローラと、を含み、
前記コントローラは、
前記エラー信号を選択的に変更するための非線形のフィルタと、
前記非線形のフィルタによって変更されたエラー信号が入力され、入力されたエラー信号に基づいて第1出力信号を生成するフィードバックコントローラと、
前記セットポイント信号が入力され、入力されたセットポイント信号に基づいて第2出力信号を生成するフィードフォワードコントローラと、を備え、
前記非線形のフィルタは、大きさが所定の範囲内にあるエラー信号に対する利得を、大きさが前記範囲外にあるエラー信号に対する値よりも低いある値に選択的に設定し、
前記制御信号は前記第1出力信号に前記第2出力信号を加えることにより生成されるリソグラフィ装置。 - 前記第1部分はロングストロークアクチュエータであり、前記第2部分はショートストロークアクチュエータである請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コントローラは、エラー信号を振幅に基づいて選択的に変更する前に周波数に基づいてフィルタリングするよう構成される請求項6または7に記載のリソグラフィ装置。
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Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1036292A1 (nl) * | 2007-12-19 | 2009-06-22 | Asml Netherlands Bv | Controller for a positioning device, method for controlling a positioning device, positioning device, and lithographic apparatus provided with a positioning device. |
US20120319637A1 (en) * | 2011-06-20 | 2012-12-20 | Nikon Corporation | Synchronization control devices and methods |
EP3415988A1 (en) * | 2017-06-14 | 2018-12-19 | ASML Netherlands B.V. | Device manufacturing methods |
CN110221626B (zh) * | 2019-06-06 | 2022-03-25 | 睿魔智能科技(深圳)有限公司 | 一种跟拍控制方法、装置、计算机设备及存储介质 |
CN111367073B (zh) * | 2020-04-29 | 2022-03-29 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种基于位置修正模式的单检测复合轴控制系统设计方法 |
Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03235687A (ja) * | 1990-02-08 | 1991-10-21 | Mitsubishi Electric Corp | 外乱抑圧制御システム |
JPH10223522A (ja) * | 1997-02-06 | 1998-08-21 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2000347741A (ja) * | 1999-06-07 | 2000-12-15 | Nikon Corp | ステージ制御装置、ステージ装置、及び露光装置 |
JP2003115450A (ja) * | 2001-06-06 | 2003-04-18 | Asml Netherlands Bv | リトグラフ装置、デバイス製造方法、およびその方法により製造されたデバイス |
JP2003264134A (ja) * | 2002-03-08 | 2003-09-19 | Nikon Corp | ステージ制御装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2003330545A (ja) * | 2002-05-15 | 2003-11-21 | Canon Inc | 制御装置及びこれを用いた振動切削装置 |
JP2003332233A (ja) * | 2002-05-10 | 2003-11-21 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、デバイス製造方法、性能測定方法、較正方法、およびコンピュータ・プログラム |
JP2004311904A (ja) * | 2003-04-10 | 2004-11-04 | Nikon Corp | ステージ制御装置及び露光装置 |
JP2004342082A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-12-02 | Asml Netherlands Bv | 特にリソグラフ装置における質量の位置の制御 |
JP2005236296A (ja) * | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Asml Netherlands Bv | フィードフォワード焦点制御を有するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2005354088A (ja) * | 2004-05-25 | 2005-12-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ運動制御システム及び方法 |
JP2006310849A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-11-09 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、位置量コントローラ及び制御方法 |
JP2007214562A (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-23 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2007251162A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Asml Netherlands Bv | 設定値プロファイルを介した構成要素を移動するシステムおよび方法、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2007281461A (ja) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Asml Netherlands Bv | 位置決めデバイスの制御方法、位置決めデバイス、および位置決めデバイスを備えるリソグラフィ装置 |
JP2007294958A (ja) * | 2006-04-20 | 2007-11-08 | Asml Netherlands Bv | 改善されたフィードフォワードデータを取得する方法、その方法を実行するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2264904B1 (ja) * | 1974-03-21 | 1977-08-19 | Inst Textile De France | |
JPH0738136B2 (ja) * | 1988-08-22 | 1995-04-26 | 三菱電機株式会社 | 位置決め制御装置 |
US5302158A (en) * | 1992-11-24 | 1994-04-12 | Eaton Corporation | Lubricant pumping in tandem drive axles |
JPH11168048A (ja) * | 1997-12-03 | 1999-06-22 | Nikon Corp | 露光方法及び露光装置 |
JP2000021738A (ja) * | 1998-06-26 | 2000-01-21 | Nikon Corp | 位置検出装置及び該装置を用いた位置検出方法 |
JP2000100721A (ja) * | 1998-07-21 | 2000-04-07 | Nikon Corp | 走査露光方法および走査型露光装置ならびにデバイスの製造方法 |
US6618219B1 (en) * | 1999-10-12 | 2003-09-09 | Seagate Technology Llc | Method and apparatus for feedforward cancellation using a peak detector |
JP2002112585A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-12 | Nikon Corp | モータ駆動装置および露光装置 |
JP2002126964A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-05-08 | Hitachi Ltd | 位置決めステージの制御装置 |
US6766339B2 (en) * | 2001-01-11 | 2004-07-20 | Asml Holding N.V. | Method and system for efficient and accurate filtering and interpolation |
US6732004B2 (en) * | 2001-02-26 | 2004-05-04 | Asml Netherlands B.V. | Computer program for determining a corrected position of a measured alignment mark, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
EP1243969A1 (en) * | 2001-03-20 | 2002-09-25 | Asm Lithography B.V. | Lithographic projection apparatus and positioning system |
JP2003141833A (ja) * | 2001-11-05 | 2003-05-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ヘッド位置決め装置、およびこれを用いたディスク装置 |
JP4106487B2 (ja) * | 2002-10-24 | 2008-06-25 | 株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ | 位置決め制御装置 |
US7181296B2 (en) * | 2003-08-06 | 2007-02-20 | Asml Netherlands B.V. | Method of adaptive interactive learning control and a lithographic manufacturing process and apparatus employing such a method |
US7084958B2 (en) * | 2004-04-14 | 2006-08-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, control system and device manufacturing method |
US7307262B2 (en) * | 2004-12-23 | 2007-12-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7265813B2 (en) * | 2004-12-28 | 2007-09-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2009501401A (ja) * | 2005-07-15 | 2009-01-15 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | エラーを訂正するための方法及びシステム |
JP2007081078A (ja) * | 2005-09-14 | 2007-03-29 | Nikon Corp | 制御システム及び露光装置 |
NL1036292A1 (nl) * | 2007-12-19 | 2009-06-22 | Asml Netherlands Bv | Controller for a positioning device, method for controlling a positioning device, positioning device, and lithographic apparatus provided with a positioning device. |
-
2008
- 2008-12-08 NL NL1036292A patent/NL1036292A1/nl active Search and Examination
- 2008-12-10 US US12/331,829 patent/US8135488B2/en active Active
- 2008-12-17 JP JP2008320578A patent/JP4891307B2/ja active Active
-
2011
- 2011-11-21 JP JP2011254107A patent/JP5483480B2/ja active Active
-
2012
- 2012-02-08 US US13/369,163 patent/US8452442B2/en active Active
Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03235687A (ja) * | 1990-02-08 | 1991-10-21 | Mitsubishi Electric Corp | 外乱抑圧制御システム |
JPH10223522A (ja) * | 1997-02-06 | 1998-08-21 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2000347741A (ja) * | 1999-06-07 | 2000-12-15 | Nikon Corp | ステージ制御装置、ステージ装置、及び露光装置 |
JP2003115450A (ja) * | 2001-06-06 | 2003-04-18 | Asml Netherlands Bv | リトグラフ装置、デバイス製造方法、およびその方法により製造されたデバイス |
JP2003264134A (ja) * | 2002-03-08 | 2003-09-19 | Nikon Corp | ステージ制御装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2003332233A (ja) * | 2002-05-10 | 2003-11-21 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、デバイス製造方法、性能測定方法、較正方法、およびコンピュータ・プログラム |
JP2003330545A (ja) * | 2002-05-15 | 2003-11-21 | Canon Inc | 制御装置及びこれを用いた振動切削装置 |
JP2004342082A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-12-02 | Asml Netherlands Bv | 特にリソグラフ装置における質量の位置の制御 |
JP2004311904A (ja) * | 2003-04-10 | 2004-11-04 | Nikon Corp | ステージ制御装置及び露光装置 |
JP2005236296A (ja) * | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Asml Netherlands Bv | フィードフォワード焦点制御を有するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2005354088A (ja) * | 2004-05-25 | 2005-12-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ運動制御システム及び方法 |
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