JP2007110100A - リソグラフィ装置及び制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】コントローラは、第1のコントローラ移動機能と、第2のコントローラ移動機能とを備える。セレクタは、可動部の状態に応じて、第1のコントローラ移動機能CON1または第2のコントローラ移動機能CON2を選択する。可動部が実質的に静止状態であるときに第1のコントローラ移動機能CON1を選択し、一方、可動部が実質的に非静止状態であるときに第2のコントローラ移動機能CON2を選択することができる。
【選択図】図2
Description
Claims (24)
- 可動部と、
可動部の位置量を制御するコントローラであって、第1のコントローラ移動機能と第2のコントローラ移動機能を備え、かつ可動部の状態に応じて第1のコントローラ移動機能または第2のコントローラ移動機能を選択するセレクタをさらに備えるコントローラと、
を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 - セレクタは、可動部が実質的に静止状態である場合に第1のコントローラ移動機能を選択し、可動部が実質的に非静止状態である場合に第2のコントローラ移動機能を選択することを特徴とする、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 可動部の非静止状態が可動部の加速を含み、可動部の静止状態が可動部の一定速度を含むことを特徴とする、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 可動部の非静止状態が可動部の移動を含み、可動部の静止状態が可動部の静止位置を含むことを特徴とする、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- セレクタが、可動部の設定信号を受信する設定点入力を備え、セレクタが設定信号に応じて第1のコントローラ移動機能または第2のコントローラ移動機能を選択する場合に、コントローラが、設定信号から可動部の状態を判定することを特徴とする、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- セレクタは、設定信号が非静止状態にある場合に第1のコントローラ移動機能を選択し、設定信号が静止状態にある場合に、少なくとも可動部の整定時間中は、第2のコントローラ移動機能を選択することを特徴とする、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- セレクタが重み付きセレクタを備え、コントローラが当該重み付きセレクタを駆動する重み係数を発生する重み関数係数発生器を備え、これにより、重み付きセレクタが第1のコントローラ移動機能と第2のコントローラ移動機能との間の段階的な移行を行うことを特徴とする、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 第1および第2のコントローラは、それぞれPIDコントローラ移動機能と、第2のコントローラ移動機能の積分器ゲインが第1のコントローラ移動機能の積分器ゲインを上回ることを特徴とする、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- セレクタが第1および/または第2のコントローラ移動機能の積分器ゲインを選択することを特徴とする、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 位置量が、可動部の位置、速度および加速度のうちの1つを含むことを特徴とする、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 可動部が、基板を保持する基板テーブル、パターン形成体を保持するマスクテーブル、投影システムの光学素子および基板を操作する基板操作部のうちの1つを備えることを特徴とする、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- プロセスの出力量を制御するコントローラを備えるリソグラフィ装置であって、コントローラが第1のコントローラ移動機能および第2のコントローラ移動機能を備え、プロセスの状態に応じて第1のコントローラ移動機能または第2のコントローラ移動機能を選択するセレクタをさらに備えることを特徴とするリソグラフィ装置。
- セレクタが、プロセスが実質的に静止状態である場合に第1のコントローラ移動機能を選択し、プロセスが実質的に非静止状態である場合に第2のコントローラ移動機能を選択することを特徴とする、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置の可動部の位置量を制御する方法であって、
第1のコントローラ移動機能と第2のコントローラ移動機能とを設けることと、
可動部の状態に応じて第1のコントローラ移動機能または第2のコントローラ移動機能を選択することと、
を含む方法。 - 可動部が実質的に静止状態である場合に第1のコントローラ移動機能を選択し、可動部が実質的に非静止状態である場合に第2のコントローラ移動機能を選択することを含むことを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 可動部の非静止状態が可動部の加速を含み、可動部の静止状態が可動部の一定速度を含むことを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 可動部の非静止状態が可動部の移動を含み、可動部の静止状態が可動部の静止位置を含むことを特徴とする請求項14の方法。
- 可動部の設定信号を受信することと、当該設定信号に応じて第1のコントローラ移動機能または第2のコントローラ移動機能を選択することにより設定信号から可動部の状態を判定することと、を含むことを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 設定信号が非静止状態にある場合に第1のコントローラ移動機能を選択することと、少なくとも可動部の整定時間中、設定信号が静止状態にある場合に第2のコントローラ移動機能を選択することと、を含むことを特徴とする請求項18に記載の方法。
- 選択を行うよう重み付きセレクタを駆動する重み係数を発生することを含み、これにより重み付きセレクタが第1コントローラ移動機能と第2のコントローラ移動機能との間の段階的な移行を与えることを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 第1および第2のコントローラ移動機能が、それぞれPIDコントローラ移動機能を備え、第2のコントローラ移動機能の積分器ゲインが第1のコントローラ移動機能の積分ゲインを上回ることを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 第1および/または第2のコントローラ移動機能の積分器ゲインを選択することを含むことを特徴とする請求項21に記載の方法。
- 位置量が、可動部の位置、速度および加速度のうちの1つを含むことを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 可動部が、基板を保持する基板テーブル、パターン形成体を保持するマスクテーブル、投影システムの光学素子、および基板を操作する基板操作部のうちの一つを備えることを特徴とする請求項14に記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/227,445 US7657334B2 (en) | 2005-09-16 | 2005-09-16 | Lithographic apparatus and control method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007110100A true JP2007110100A (ja) | 2007-04-26 |
Family
ID=37885259
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006249159A Pending JP2007110100A (ja) | 2005-09-16 | 2006-09-14 | リソグラフィ装置及び制御方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7657334B2 (ja) |
JP (1) | JP2007110100A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2009253287A (ja) * | 2008-04-08 | 2009-10-29 | Asml Netherlands Bv | ステージシステム、および当該ステージシステムを備えるリソグラフィ装置 |
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CA2727794A1 (en) * | 2008-06-11 | 2009-12-17 | Qinghui Yuan | Auto-tuning electro-hydraulic valve |
WO2014122223A1 (en) | 2013-02-08 | 2014-08-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
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-
2005
- 2005-09-16 US US11/227,445 patent/US7657334B2/en active Active
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2006
- 2006-09-14 JP JP2006249159A patent/JP2007110100A/ja active Pending
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US8279407B2 (en) | 2008-04-08 | 2012-10-02 | Asml Netherlands B.V. | Stage system and lithographic apparatus comprising such stage system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070067057A1 (en) | 2007-03-22 |
US7657334B2 (en) | 2010-02-02 |
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