JP4729065B2 - 座標変換を伴う駆動システムを有するリソグラフィ装置および方法 - Google Patents
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Description
p1=1/2*sqrt(2)*x1+1/2*sqrt(2)*y1
q1=−1/2*sqrt(2)*x1+1/2*sqrt(2)*y1
によって決定された変換を行い、
ここで、
x1=第1の方向の設定点座標
y1=第2の方向の設定点座標
p1=第3の方向の設定点座標
q1=第4の方向の設定点座標
である。
x2=1/2*sqrt(2)*p2−1/2*sqrt(2)*q2
y2=1/2*sqrt(2)*p2+1/2*sqrt(2)*q2
によって決定された変換を行い、
ここで、
x2=第1の方向の移動座標
y2=第2の方向の移動座標
p2=第3の方向の移動座標
q2=第4の方向の移動座標
である。
p1=1/2*sqrt(2)*x1+1/2*sqrt(2)*y1[1]
q1=−1/2*sqrt(2)*x1+1/2*sqrt(2)*y1[2]
ここで、
x1=x方向の設定点座標
y1=y方向の設定点座標
p1=p方向の設定点座標
q1=q方向の設定点座標
である。
x2=1/2*sqrt(2)*p2−1/2*sqrt(2)*q2[3]
y2=1/2*sqrt(2)*p2+1/2*sqrt(2)*q2[4]
ここで、
x2=x方向の移動座標
y2=y方向の移動座標
p2=p方向の移動座標
q1=q方向の移動座標
である。
Claims (6)
- 基板を保持するように構成された基板支持体と、
パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
前記基板支持体を前記投影システムに対して軌道に沿って移動させるように構成された駆動システムと
を備え、該駆動システムが、
前記基板支持体を第1の方向に移動させるように構成された第1の駆動モータと、
前記基板支持体を第2の方向に移動させるように構成された第2の駆動モータと、
前記第1の駆動モータが前記基板を前記第1の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成するように構成された第1の軌道プランナと、
前記第2の駆動モータが前記基板を前記第2の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成するように構成された第2の軌道プランナと、
前記第1および第2の軌道プランナによって決定された前記第1の方向および前記第2の方向の前記設定点座標を、第3の方向および第4の方向の設定点座標へとそれぞれ変換するように構成された第1の座標変換器と、
前記第1の駆動モータが前記基板を前記第3の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第3の方向での速度を第1の最大速度に制限するように構成された第1の設定点発生器と、
前記第2の駆動モータが前記基板を前記第4の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第4の方向での速度を第2の最大速度に制限するように構成された第2の設定点発生器と、
前記第1の設定点発生器および前記第2の設定点発生器によって決定された前記第3の方向および前記第4の方向の前記移動座標を、前記第1および第2の駆動モータをそれぞれ駆動するために、前記第1の方向および第2の方向の移動座標へとそれぞれ変換するように構成された第2の座標変換器と
を備え、
前記投影システムと前記基板との間に液体が介在し、
前記第1の方向が前記第2の方向と直交し、
前記第3の方向が前記第4の方向と直交し、
前記第3の方向が前記第1の方向に対して45°の角度をなし、
前記第4の方向が前記第2の方向に対して45°の角度をなし、
前記第1の最大速度は、1/2*sqrt(2)*最大液浸速度であり、
前記第2の最大速度は、1/2*sqrt(2)*最大液浸速度である、
液浸リソグラフィ装置。 - 前記第1の座標変換器が、
p1=1/2*sqrt(2)*x1+1/2*sqrt(2)*y1
q1=−1/2*sqrt(2)*x1+1/2*sqrt(2)*y1
によって決定された変換を行うように構成され、
ここで、
x1=前記第1の方向の設定点座標
y1=前記第2の方向の設定点座標
p1=前記第3の方向の設定点座標
q1=前記第4の方向の設定点座標
である、請求項1に記載の液浸リソグラフィ装置。 - 前記第2の座標変換器が、
x2=1/2*sqrt(2)*p2−1/2*sqrt(2)*q2
y2=1/2*sqrt(2)*p2+1/2*sqrt(2)*q2
によって決定された変換を行うように構成され、
ここで、
x2=前記第1の方向の移動座標
y2=前記第2の方向の移動座標
p2=前記第3の方向の移動座標
q2=前記第4の方向の移動座標
である、請求項1又は2に記載の液浸リソグラフィ装置。 - 液浸リソグラフィ装置の投影システムに対して基板支持体を移動させる方法であって、
基板を保持するように構成された基板支持体を準備すること、
パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムを準備すること、
前記基板支持体を軌道に沿って移動させるように構成され、かつ、前記基板支持体を第1の方向に移動させるように構成された駆動モータおよび前記基板支持体を第2の方向に移動させるように構成された駆動モータを備える、駆動システムを準備すること、
前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第1の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、
前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第2の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、
前記第1の方向および前記第2の方向の前記設定点座標を第3の方向および第4の方向の設定点座標へとそれぞれ変換すること、
前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第3の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第3の方向での速度を第1の最大速度に制限すること、
前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第4の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第4の方向での速度を第2の最大速度に制限すること、および、
前記第1および第2の駆動モータをそれぞれ駆動するために、前記第3の方向および前記第4の方向の前記移動座標を前記第1の方向および第2の方向の移動座標へとそれぞれ変換すること
を含み、
前記投影システムと前記基板との間に液体が介在し、
前記第1の方向が前記第2の方向と直交し、
前記第3の方向が前記第4の方向と直交し、
前記第3の方向が前記第1の方向に対して45°の角度をなし、
前記第4の方向が前記第2の方向に対して45°の角度をなし、
前記第1の最大速度は、1/2*sqrt(2)*最大液浸速度であり、
前記第2の最大速度は、1/2*sqrt(2)*最大液浸速度である、
方法。 - 前記設定点座標の前記変換が、
p1=1/2*sqrt(2)*x1+1/2*sqrt(2)*y1
q1=−1/2*sqrt(2)*x1+1/2*sqrt(2)*y1
によって決定され、
ここで、
x1=前記第1の方向の設定点座標
y1=前記第2の方向の設定点座標
p1=前記第3の方向の設定点座標
q1=前記第4の方向の設定点座標
である、請求項4に記載の方法。 - 前記移動座標の前記変換が、
x2=1/2*sqrt(2)*p2−1/2*sqrt(2)*q2
y2=1/2*sqrt(2)*p2+1/2*sqrt(2)*q2
によって決定され、
ここで、
x2=前記第1の方向の移動座標
y2=前記第2の方向の移動座標
p2=前記第3の方向の移動座標
q2=前記第4の方向の移動座標
である、請求項4又は5に記載の方法。
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