JP2008258612A - 座標変換を伴う駆動システムを有するリソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
座標変換を伴う駆動システムを有するリソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 Download PDFInfo
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 230000009466 transformation Effects 0.000 title claims description 9
- 238000011426 transformation method Methods 0.000 title 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 183
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 15
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims description 8
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 7
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 abstract 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 31
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 29
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 238000004422 calculation algorithm Methods 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000036461 convulsion Effects 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 3
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000000671 immersion lithography Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Abstract
【解決手段】 リソグラフィ装置は基板支持体上に保持された基板上にパターニングされた放射ビームを投影するための投影システムと、基板支持体を軌道に沿って移動させるための駆動システムとを含んでいる。駆動システムでは、基板支持体を投影システムに対して第1および第2の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データが生成される。第1および第2の方向の設定点座標は第3および第4の方向の設定点座標へと変換される。基板支持体を投影システムに対して第3および第4の方向に移動させ、第3および第4の方向での速度を最大速度に制限するために、移動座標を含む移動データが生成される。第3および第4の方向の移動座標は第1および第2の駆動モータを駆動するために第1および第2の方向の移動座標へと変換される。
【選択図】 図6
Description
p1=1/2*sqrt(2)*x1+1/2*sqrt(2)*y1
q1=−1/2*sqrt(2)*x1+1/2*sqrt(2)*y1
によって決定された変換を行い、
ここで、
x1=第1の方向の設定点座標
y1=第2の方向の設定点座標
p1=第3の方向の設定点座標
q1=第4の方向の設定点座標
である。
x2=1/2*sqrt(2)*p2−1/2*sqrt(2)*q2
y2=1/2*sqrt(2)*p2+1/2*sqrt(2)*q2
によって決定された変換を行い、
ここで、
x2=第1の方向の移動座標
y2=第2の方向の移動座標
p2=第3の方向の移動座標
q2=第4の方向の移動座標
である。
p1=1/2*sqrt(2)*x1+1/2*sqrt(2)*y1[1]
q1=−1/2*sqrt(2)*x1+1/2*sqrt(2)*y1[2]
ここで、
x1=x方向の設定点座標
y1=y方向の設定点座標
p1=p方向の設定点座標
q1=q方向の設定点座標
である。
x2=1/2*sqrt(2)*p2−1/2*sqrt(2)*q2[3]
y2=1/2*sqrt(2)*p2+1/2*sqrt(2)*q2[4]
ここで、
x2=x方向の移動座標
y2=y方向の移動座標
p2=p方向の移動座標
q1=q方向の移動座標
である。
Claims (17)
- 基板を保持するように構成された基板支持体と、
パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
前記基板支持体を前記投影システムに対して軌道に沿って移動させるように構成された駆動システムと
を備え、該駆動システムが、
前記基板支持体を第1の方向に移動させるように構成された第1の駆動モータと、
前記基板支持体を第2の方向に移動させるように構成された第2の駆動モータと、
前記第1の駆動モータが前記基板を前記第1の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成するように構成された第1の軌道プランナと、
前記第2の駆動モータが前記基板を前記第2の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成するように構成された第2の軌道プランナと、
前記第1および第2の軌道プランナによって決定された前記第1の方向および前記第2の方向の前記設定点座標を、第3の方向および第4の方向の設定点座標へとそれぞれ変換するように構成された第1の座標変換器と、
前記第1の駆動モータが前記基板を前記第3の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第3の方向での速度を第1の最大速度に制限するように構成された第1の設定点発生器と、
前記第2の駆動モータが前記基板を前記第4の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第4の方向での速度を第2の最大速度に制限するように構成された第2の設定点発生器と、
前記第1の設定点発生器および前記第2の設定点発生器によって決定された前記第3の方向および前記第4の方向の前記移動座標を、前記第1および第2の駆動モータをそれぞれ駆動するために、前記第1の方向および第2の方向の移動座標へとそれぞれ変換するように構成された第2の座標変換器と
を備える、リソグラフィ装置。 - 前記第1の座標変換器が、
p1=1/2*sqrt(2)*x1+1/2*sqrt(2)*y1
q1=−1/2*sqrt(2)*x1+1/2*sqrt(2)*y1
によって決定された変換を行うように構成され、
ここで、
x1=前記第1の方向の設定点座標
y1=前記第2の方向の設定点座標
p1=前記第3の方向の設定点座標
q1=前記第4の方向の設定点座標
である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第2の座標変換器が、
x2=1/2*sqrt(2)*p2−1/2*sqrt(2)*q2
y2=1/2*sqrt(2)*p2+1/2*sqrt(2)*q2
によって決定された変換を行うように構成され、
ここで、
x2=前記第1の方向の移動座標
y2=前記第2の方向の移動座標
p2=前記第3の方向の移動座標
q2=前記第4の方向の移動座標
である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1の方向が前記第2の方向とほぼ直交する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第3の方向が前記第4の方向とほぼ直交する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第3の方向が前記第1の方向に対して角度αをなし、ここで0<α<90°である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- α=45°である、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第4の方向が前記第2の方向に対して角度βをなし、ここで0<β<90°である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- β=45°である、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記投影システムと前記基板との間に液体が介在する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置の投影システムに対して基板支持体を移動させる方法であって、
基板を保持するように構成された基板支持体を準備すること、
パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムを準備すること、
前記基板支持体を軌道に沿って移動させるように構成され、かつ、前記基板支持体を第1の方向に移動させるように構成された駆動モータおよび前記基板支持体を第2の方向に移動させるように構成された駆動モータを備える、駆動システムを準備すること、
前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第1の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、
前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第2の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、
前記第1の方向および前記第2の方向の前記設定点座標を第3の方向および第4の方向の設定点座標へとそれぞれ変換すること、
前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第3の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第3の方向での速度を第1の最大速度に制限すること、
前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第4の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第4の方向での速度を第2の最大速度に制限すること、および、
前記第1および第2の駆動モータをそれぞれ駆動するために、前記第3の方向および前記第4の方向の前記移動座標を前記第1の方向および第2の方向の移動座標へとそれぞれ変換すること
を含む、方法。 - 前記設定点座標の前記変換が、
p1=1/2*sqrt(2)*x1+1/2*sqrt(2)*y1
q1=−1/2*sqrt(2)*x1+1/2*sqrt(2)*y1
によって決定され、
ここで、
x1=前記第1の方向の設定点座標
y1=前記第2の方向の設定点座標
p1=前記第3の方向の設定点座標
q1=前記第4の方向の設定点座標
である、請求項11に記載の方法。 - 前記移動座標の前記変換が、
x2=1/2*sqrt(2)*p2−1/2*sqrt(2)*q2
y2=1/2*sqrt(2)*p2+1/2*sqrt(2)*q2
によって決定され、
ここで、
x2=前記第1の方向の移動座標
y2=前記第2の方向の移動座標
p2=前記第3の方向の移動座標
q2=前記第4の方向の移動座標
である、請求項11に記載の方法。 - 基板支持体を第1の方向に移動させるように構成された第1の駆動モータと、
基板支持体を第2の方向に移動させるように構成された第2の駆動モータと、
前記第1の駆動モータが前記基板を前記第1の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成するように構成された第1の軌道プランナと、
前記第2の駆動モータが前記基板を前記第2の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成するように構成された第2の軌道プランナと、
前記第1および第2の軌道プランナによって決定された前記第1の方向および前記第2の方向の前記設定点座標を、第3の方向および第4の方向の設定点座標へとそれぞれ変換するように構成された第1の座標変換器と、
前記第1の駆動モータが前記基板を前記第3の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第3の方向での速度を第1の最大速度に制限するように構成された第1の設定点発生器と、
前記第2の駆動モータが前記基板を前記第4の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第4の方向での速度を第2の最大速度に制限するように構成された第2の設定点発生器と、
前記第1の設定点発生器および前記第2の設定点発生器によって決定された前記第3の方向および前記第4の方向の前記移動座標を、前記第1および第2の駆動モータをそれぞれ駆動するために、前記第1の方向および前記第2の方向の移動座標へとそれぞれ変換するように構成された第2の座標変換器と
を備える、駆動システム。 - パターニングされた放射ビームを基板上に投影すること、
前記基板を保持するように構成された基板支持体を準備すること、
前記基板支持体を軌道に沿って移動させるように構成され、かつ、前記基板支持体を第1の方向に移動させるように構成された駆動モータおよび前記基板支持体を第2の方向に移動させるように構成された駆動モータを備える、駆動システムを準備すること、
前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第1の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、
前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第2の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、
前記第1の方向および前記第2の方向の前記設定点座標を第3の方向および第4の方向の設定点座標へとそれぞれ変換すること、
前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第3の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第3の方向での速度を第1の最大速度に制限すること、
前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第4の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第4の方向での速度を第2の最大速度に制限すること、および、
前記第1および第2の駆動モータをそれぞれ駆動するために、前記第3の方向および前記第4の方向の前記移動座標を前記第1の方向および第2の方向の移動座標へとそれぞれ変換すること
を含む、デバイス製造方法。 - 基板支持体をリソグラフィ装置の投影システムに対して移動させるための方法を実施するように適合された1つまたは複数の機械読取可能命令シーケンスを含むコンピュータプログラム製品であって、その方法が、
前記リソグラフィ装置の前記基板支持体を第1の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、
前記基板支持体を第2の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、
前記第1の方向および前記第2の方向の前記設定点座標を第3の方向および第4の方向の設定点座標へとそれぞれ変換すること、
前記基板支持体を前記第3の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第3の方向での速度を第1の最大速度に制限すること、
前記基板支持体を前記第4の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第4の方向での速度を第2の最大速度に制限すること、および、
前記第3の方向および前記第4の方向の前記移動座標を前記第1の方向および第2の方向の移動座標へとそれぞれ変換すること
を含む、コンピュータプログラム製品。 - パターニングされた放射ビームを、投影システムを用いて、基板支持体によって支持される基板上に投影すること、および、
前記基板支持体を軌道に沿って移動させること
を含み、該移動ステップが、
前記基板支持体を前記投影システムに対して第1の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、
前記基板支持体を前記投影システムに対して第2の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、
前記第1の方向および前記第2の方向の前記設定点座標を第3の方向および第4の方向の設定点座標へとそれぞれ変換すること、
前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第3の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第3の方向での速度を第1の最大速度に制限すること、
前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第4の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第4の方向での速度を第2の最大速度に制限すること、および、
前記第1および第2の駆動モータをそれぞれ駆動するために、前記第3の方向および前記第4の方向の前記移動座標を前記第1の方向および前記第2の方向の移動座標へとそれぞれ変換すること
を含む、デバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/783,108 US7679719B2 (en) | 2007-04-05 | 2007-04-05 | Lithographic apparatus having a drive system with coordinate transformation, and device manufacturing method |
US11/783,108 | 2007-04-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008258612A true JP2008258612A (ja) | 2008-10-23 |
JP4729065B2 JP4729065B2 (ja) | 2011-07-20 |
Family
ID=39826593
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008085230A Active JP4729065B2 (ja) | 2007-04-05 | 2008-03-28 | 座標変換を伴う駆動システムを有するリソグラフィ装置および方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7679719B2 (ja) |
JP (1) | JP4729065B2 (ja) |
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- 2007-04-05 US US11/783,108 patent/US7679719B2/en active Active
-
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- 2008-03-28 JP JP2008085230A patent/JP4729065B2/ja active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4729065B2 (ja) | 2011-07-20 |
US20080246934A1 (en) | 2008-10-09 |
US7679719B2 (en) | 2010-03-16 |
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