JP2012064918A - 基板搬送装置、基板搬送方法及びその基板搬送方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
基台と、基台から進退自在に設けられ、基板Wを保持する保持部3Aと、保持部3Aが基板Wを保持した状態で後退しているときに、保持部3Aが保持している基板Wの周縁部の位置を、それぞれ異なる位置で検出する4個以上の検出部5と、検出部5が周縁部の位置を検出した検出値に基づいて、検出部5のいずれかが基板Wの周縁部の切欠きが設けられた部分WNを検出したか否かを判定し、一の検出部5が切欠きが設けられた部分WNを検出したと判定したときに、一の検出部5以外の3個の検出部5の検出値に基づいて、次の処理ユニットに搬送するときに処理ユニットの基板Wの受渡し位置に補正する、制御部とを有する。
【選択図】図7
Description
(第1の実施の形態)
先ず、図1から図4を参照し、本発明の第1の実施の形態に係る基板処理装置である、塗布現像装置に露光装置を接続したレジストパターン形成装置について、図面を参照しながら簡単に説明する。
Δa[mm]={(a'点の画素数)−(a点の画素数)}×画素間隔[mm] (1)
Δb[mm]={(b'点の画素数)−(b点の画素数)}×画素間隔[mm] (2)
Δc[mm]={(c'点の画素数)−(c点の画素数)}×画素間隔[mm] (3)
Δd[mm]={(d'点の画素数)−(d点の画素数)}×画素間隔[mm] (4)
なお、a点の画素数とは、リニアイメージセンサ52のウェハWの中心側における始点からa点までにおける画素の数を意味する。
a'点 (X1',Y1')=(X1−Δasinθ1,Y1−Δacosθ1)
=(X−(R+Δa)sinθ1,Y−(R+Δa)cosθ1) (6)
b点 (X2,Y2)=(X−Rsinθ2,Y+Rcosθ2) (7)
b'点 (X2',Y2')=(X2−Δbsinθ2,Y2+Δbcosθ2)
=(X−(R+Δb)sinθ2,Y+(R+Δb)cosθ2) (8)
c点 (X3,Y3)=(X+Rsinθ3,Y+Rcosθ3) (9)
c'点 (X3',Y3')=(X3+Δcsinθ3,Y3+Δccosθ3)
=(X+(R+Δc)sinθ3,Y+(R+Δc)cosθ3) (10)
d点 (X4,Y4)=(X+Rsinθ4,Y−Rcosθ4) (11)
d'点 (X4',Y4')=(X4+Δdsinθ4,Y4−Δdcosθ4)
=(X+(R+Δd)sinθ4,Y−(R+Δd)cosθ4) (12)
従って、式(6)、式(8)、式(10)、式(12)により、a´点(X1´,Y1´)、b´点(X2´,Y2´)、c´点(X3´,Y3´)、d´点(X4´,Y4´)の座標を求めることができる。
ΔX[mm]=X´−X (16)
ΔY[mm]=Y´−Y (17)
により算出する。
(第2の実施の形態)
次に、図23から図25を参照し、本発明の第2の実施の形態に係る基板処理方法について説明する。
(第2の実施の形態の第1の変形例)
次に、図26を参照し、本発明の第2の実施の形態の第1の変形例に係る基板処理方法について説明する。
(第2の実施の形態の第2の変形例)
次に、図27を参照し、本発明の第2の実施の形態の第2の変形例に係る基板処理方法について説明する。
31 基台
41A〜41D 真空吸着部
5、5A〜5D 検出部
51、51A〜51D 光源
52、52A〜52D リニアイメージセンサ
6 制御部
Claims (23)
- 基台と、
前記基台から進退自在に設けられ、基板を保持する保持部と、
前記保持部が基板を保持した状態で後退しているときに、前記保持部が保持している前記基板の周縁部の位置を、それぞれ異なる位置で検出する4個以上の検出部と、
前記検出部が前記周縁部の位置を検出した検出値に基づいて、前記検出部のいずれかが前記基板の周縁部であって切欠きが設けられた部分を検出したか否かを判定し、一の検出部が前記切欠きが設けられた部分を検出したと判定したときに、前記一の検出部以外の3個の検出部の前記検出値に基づいて、次の処理ユニットに搬送するときに前記処理ユニットの基板の受渡し位置に補正する、制御部と
を有する、基板搬送装置。 - 基台と、
前記基台から進退自在に設けられ、基板を保持する保持部と、
前記保持部が基板を保持した状態で後退しているときに、前記保持部が保持している前記基板の周縁部の位置を、それぞれ異なる位置で検出する3個の検出部と、
前記検出部が前記周縁部の位置を検出した検出値に基づいて、前記検出部のいずれかが前記基板の周縁部であって切欠きが設けられた部分を検出したか否かを判定し、一の検出部が前記切欠きが設けられた部分を検出したと判定したときに、前記切欠きが設けられた部分が前記検出部に検出されないように前記保持部を前記検出部に対して移動させ、移動した前記保持部が保持している前記基板の周縁部の位置を前記検出部により再び検出した再検出値に基づいて、次の処理ユニットの基板の受渡し位置に補正する、制御部と
を有する、基板搬送装置。 - 前記制御部は、前記検出部が検出した前記周縁部の位置に基づいて、前記基板の中心位置を算出し、算出した前記中心位置が所定位置になるように制御することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の基板搬送装置。
- 前記制御部は、前記保持部の基準位置と、前記保持部が基板を受け取り後退したときの位置とを比較して、前記保持部の形状の異常を判定することを特徴とする、請求項1から請求項3のいずれかに記載の基板搬送装置。
- 前記保持部は、上下に重なるように複数個設けられており、
前記検出部は、前記保持部のいずれか1個が基板を保持した状態で後退しているときに、前記保持部が保持している前記基板の周縁部の位置を検出するものである、請求項1から請求項4のいずれかに記載の基板搬送装置。 - 前記検出部の各々は、後退している前記保持部が保持している基板のいずれをも上下から挟むように設けられた、一対の、光源と、複数の受光素子が配列してなる受光部とにより構成されるものである、請求項1から請求項5のいずれかに記載の基板搬送装置。
- 前記制御部は、前記光源により発光した光が前記保持部に保持されている基板に通常遮られない位置に配置されている前記受光素子により、前記光の光量を検出し、検出した検出値に基づいて、前記光源の異常を検知するものである、請求項6に記載の基板搬送装置。
- 前記制御部は、前記保持部が基板を保持していないときに、前記受光素子により、前記光源により発光した光の光量を検出し、検出した検出値に基づいて、前記受光素子の異常を検知するものである、請求項6又は請求項7に記載の基板搬送装置。
- 前記受光部は、リニアイメージセンサである、請求項6から請求項8のいずれかに記載の基板搬送装置。
- 前記制御部は、一の前記検出部が、互いに異なる2つの前記周縁部の位置を検出したときに、前記基板が割れていると判定するものである、請求項1から請求項9のいずれかに記載の基板搬送装置。
- 前記保持部は、前記基板を真空吸着する真空吸着部を備え、前記真空吸着部により前記基板を真空吸着することによって前記基板を保持するものである、請求項1から請求項10のいずれかに記載の基板搬送装置。
- 基台と、前記基台から進退自在に設けられ、基板を保持する保持部と、前記保持部が基板を保持した状態で後退しているときに、前記保持部が保持している前記基板の周縁部の位置を、それぞれ異なる位置で検出する4個以上の検出部とを有する、基板搬送装置における基板搬送方法であって、
前記検出部が前記周縁部の位置を検出した検出値に基づいて、前記検出部のいずれかが前記基板の周縁部であって切欠きが設けられた部分を検出したか否かを判定する判定工程を有し、
一の検出部が前記切欠きが設けられた部分を検出したと判定したときに、前記一の検出部以外の3個の検出部の前記検出値に基づいて、次の処理ユニットに搬送するときに前記処理ユニットの基板の受渡し位置に補正する、基板搬送方法。 - 基台と、前記基台から進退自在に設けられ、基板を保持する保持部と、前記保持部が基板を保持した状態で後退しているときに、前記保持部が保持している前記基板の周縁部の位置を、それぞれ異なる位置で検出する3個の検出部とを有する、基板搬送装置における基板搬送方法であって、
前記検出部が前記周縁部の位置を検出した検出値に基づいて、前記検出部のいずれかが前記基板の周縁部であって切欠きが設けられた部分を検出したか否かを判定する判定工程を有し、
一の検出部が前記切欠きが設けられた部分を検出したと判定したときに、前記切欠きが設けられた部分が前記検出部に検出されないように前記保持部を前記検出部に対して移動させ、移動した前記保持部が保持している前記基板の周縁部の位置を前記検出部により再び検出した再検出値に基づいて、次の処理ユニットの基板の受渡し位置に補正する、基板搬送方法。 - 前記検出部が検出した前記周縁部の位置に基づいて、前記基板の中心位置を算出し、算出した前記中心位置が所定位置になるように制御することを特徴とする請求項12又は請求項13に記載の基板搬送方法。
- 前記保持部の基準位置と、前記保持部が基板を受け取り後退したときの位置とを比較して、前記保持部の形状の異常を判定することを特徴とする、請求項12から請求項14のいずれかに記載の基板搬送方法。
- 前記保持部は、上下に重なるように複数個設けられており、
前記検出部は、前記保持部のいずれか1個が基板を保持した状態で後退しているときに、前記保持部が保持している前記基板の周縁部の位置を検出するものである、請求項12から請求項15のいずれかに記載の基板搬送方法。 - 前記検出部の各々は、後退している前記保持部が保持している基板のいずれをも上下から挟むように設けられた、一対の、光源と、複数の受光素子が配列してなる受光部とにより構成されるものである、請求項12から請求項16のいずれかに記載の基板搬送方法。
- 前記光源により発光した光が前記保持部に保持されている基板に通常遮られない位置に配置されている前記受光素子により、前記光の光量を検出し、検出した検出値に基づいて、前記光源の異常を検知する、請求項17に記載の基板搬送方法。
- 前記保持部が基板を保持していないときに、前記受光素子により、前記光源により発光した光の光量を検出し、検出した検出値に基づいて、前記受光素子の異常を検知する、請求項17又は請求項18に記載の基板搬送方法。
- 前記受光部は、リニアイメージセンサである、請求項17から請求項19のいずれかに記載の基板搬送方法。
- 一の前記検出部が、互いに異なる2つの前記周縁部の位置を検出したときに、前記基板が割れていると判定する、請求項12から請求項20のいずれかに記載の基板搬送方法。
- 前記保持部は、前記基板を真空吸着する真空吸着部を備え、前記真空吸着部により前記基板を真空吸着することによって前記基板を保持するものである、請求項12から請求項21のいずれかに記載の基板搬送方法。
- コンピュータに請求項12から請求項22のいずれかに記載の基板搬送方法を実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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