JP2012009853A - ステージ装置およびそのようなステージ装置を備えるリソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】対象を位置決めするためのステージ装置であって、対象を保持するテーブルと、テーブルを支持するサポート構造と、を備え、テーブルはサポート構造に対して変位可能であり、サポート構造は第1データクロックおよび第2データクロックのうちの一方を備え、テーブルは第1データクロックおよび第2データクロックのうちの他方を備え、さらに、第1データクロックと第2データクロックとを同期させる回路を備え、回路は送信器および受信器を含み、送信器は第1データクロックから第2データクロックへクロック信号データを無線送信するよう構成され、回路はさらに、無線送信され受信器によって受信されたクロック信号データから、第2データクロックを第1データクロックと同期させる同期回路を含む。
【選択図】図1
Description
1.ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が1回の照射でターゲット部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTもしくは「マスクサポート」および基板テーブルWTもしくは「基板サポート」は、実質的に静止状態とされる(すなわち1回の静的な露光)。そして基板テーブルWTもしくは「基板サポート」がX方向及び/またはY方向に移動されて、異なるターゲット部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズによって、1回の静的露光で結像されるターゲット部分Cの寸法が制限されることになる。
2.スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTもしくは「マスクサポート」および基板テーブルWTもしくは「基板サポート」は、同期して走査される(すなわち1回の動的な露光)。パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTもしくは「マスクサポート」に対する基板テーブルWTもしくは「基板サポート」の速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)特性及び像反転特性により定められる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが1回の動的露光でのターゲット部分Cの(非走査方向の)幅を制限し、走査移動距離がターゲット部分の(走査方向の)長さを決定する。
3.その他のモードにおいては、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTもしくは「マスクサポート」はプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、基板テーブルWTもしくは「基板サポート」が移動またはスキャンされる。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、スキャン中、基板テーブルWTもしくは「基板サポート」が移動する毎に、あるいは連続する放射パルス間に、必要に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、上述したタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用しているマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (13)
- 対象を位置決めするためのステージ装置であって、本ステージ装置は、
前記対象を保持するよう構成されたテーブルと、
前記テーブルを支持するよう構成されたサポート構造と、を備え、
前記テーブルは前記サポート構造に対して変位可能であり、前記サポート構造は第1データクロックおよび第2データクロックのうちの一方を備え、前記テーブルは前記第1データクロックおよび前記第2データクロックのうちの他方を備え、
本ステージ装置はさらに、
前記第1データクロックと前記第2データクロックとを同期させるよう構成された回路を備え、前記回路は送信器および受信器を含み、前記送信器は前記第1データクロックから前記第2データクロックへクロック信号データを無線送信するよう構成され、
前記回路はさらに、
無線送信され前記受信器によって受信されたクロック信号データから、前記第2データクロックを前記第1データクロックと同期させるよう構成された同期回路を含む、ステージ装置。 - 前記送信器および受信器は、
第1伝送経路を提供するよう構成された第1送信器および第1受信器と、
第2伝送経路を提供するよう構成された第2送信器および第2受信器と、を含み、
前記第1伝送経路および前記第2伝送経路はそれぞれ第1方向に沿って逆向きに伸びる、請求項1に記載のステージ装置。 - 前記同期回路は、
前記第1受信器および前記第2受信器によって受信されたクロック信号データを混合するよう構成されたミキサと、
混合されたクロック信号データの第2高調波部分を選択するよう構成されたハイパスフィルタと、を含む、請求項2に記載のステージ装置。 - 前記同期回路は、
前記第1受信器および前記第2受信器によって受信されたクロック信号データを混合するよう構成されたミキサと、
混合されたクロック信号データの実質的に一定な信号部分を選択するよう構成されたローパスフィルタと、を含む、請求項2または3に記載のステージ装置。 - 前記第1方向は前記テーブルの移動方向である、請求項2から4のいずれかに記載のステージ装置。
- 前記送信器は、前記第2データクロックから前記第1データクロックへクロック信号データを、前記受信器によって受信された状態で送り返すよう構成される、請求項1に記載のステージ装置。
- 前記同期回路は、
前記第1データクロックを、前記第2データクロックへ送信される前に遅延させるよう構成された第1調整可能遅延ユニットと、
前記第1データクロックに戻り受け取られた状態の信号を遅延させるよう構成された第2調整可能遅延ユニットと、を含み、
前記同期回路は、前記第2データクロックを、前記第2データクロックにおいて受信された状態の遅延第1データクロックと同期させるよう構成され、
前記同期回路はさらに前記第1調整可能遅延ユニットおよび前記第2調整可能遅延ユニットを制御するよう構成されたコントローラを含み、
前記コントローラは、
前記第1データクロックを受信するよう前記第1データクロックと接続された第1コントローラ入力と、
前記第2データクロックから受け取った状態の遅延信号を受信する前記第2調整可能遅延ユニットの出力と接続された第2コントローラ入力と、を含み、
前記コントローラは、前記第1コントローラ入力によって受信される信号の位相が前記第2コントローラ入力によって受信される信号の位相と実質的に等しくなるように、前記第1調整可能遅延ユニットおよび前記第2調整可能遅延ユニットの遅延を制御するよう構成される、請求項6に記載のステージ装置。 - 前記コントローラは、
前記第2コントローラ入力で受信された信号を90度位相シフトで遅延させるよう構成された位相遅延器と、
前記第1コントローラ入力における前記第1データクロックを前記位相遅延器の出力信号と混合するよう構成されたミキサと、
前記ミキサの出力信号をフィルタするよう構成されたローパスフィルタと、
前記ローパスフィルタの出力信号を積分するよう構成された積分器と、を含む、請求項7に記載のステージ装置。 - 前記コントローラは、前記第1調整可能遅延ユニットの遅延と前記第2調整可能遅延ユニットの遅延とが実質的に等しくなるように、前記第1調整可能遅延ユニットおよび前記第2調整可能遅延ユニットを制御するよう構成される、請求項7または8に記載のステージ装置。
- 前記対象は放射感応性材料でコーティングされた基板である、請求項1に記載のステージ装置。
- 前記対象は放射ビームにパターンを付与するよう構成されたパターニングデバイスである、請求項1に記載のステージ装置。
- パターニングデバイスから基板上へパターンを転写するよう構成されたリソグラフィ装置であって、請求項1から9のいずれかに記載のステージ装置を備えるリソグラフィ装置。
- 前記ステージ装置はパターニングデバイスステージまたは基板ステージである、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
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Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10270535A (ja) * | 1997-03-25 | 1998-10-09 | Nikon Corp | 移動ステージ装置、及び該ステージ装置を用いた回路デバイス製造方法 |
JPH11154914A (ja) * | 1997-11-20 | 1999-06-08 | Toshiba Tec Corp | 全二重光通信装置 |
JP2000240717A (ja) * | 1999-02-19 | 2000-09-05 | Canon Inc | 能動的除振装置 |
JP2004325162A (ja) * | 2003-04-23 | 2004-11-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 位相計測装置及び宇宙太陽発電システム |
JP2005072677A (ja) * | 2003-08-27 | 2005-03-17 | Sharp Corp | 無線通信システム、無線通信システムにおける無線装置および移動無線装置 |
JP2005109137A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マスク基板と露光装置およびそれを用いたパターン形成方法 |
WO2005081290A1 (ja) * | 2004-02-19 | 2005-09-01 | Nikon Corporation | 露光装置及びデバイス製造方法 |
WO2006085511A1 (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | パルス変調無線通信装置 |
JP2007115784A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-05-10 | Nikon Corp | 露光システム、露光方法、及びデバイス製造工場 |
JP2007514319A (ja) * | 2003-12-12 | 2007-05-31 | 株式会社ニコン | リソグラフィシステムにおけるユーティリティ輸送システム |
JP2007189180A (ja) * | 2006-01-16 | 2007-07-26 | Nikon Corp | 工具物体、計測装置及び露光装置、並びに計測方法及び調整方法 |
WO2007113955A1 (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Nikon Corporation | 移動体装置、露光装置及び露光方法、微動体、並びにデバイス製造方法 |
JP2007274881A (ja) * | 2006-12-01 | 2007-10-18 | Nikon Corp | 移動体装置、微動体及び露光装置 |
JP2008300477A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Nikon Corp | 信号伝達方法、露光装置の診断方法、装置及び露光装置 |
WO2009078154A1 (ja) * | 2007-12-14 | 2009-06-25 | Nikon Corporation | 移動体システム、パターン形成装置、露光装置、及び計測装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2009253291A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Asml Holding Nv | ロボット位置キャリブレーションツール(rpct) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6873573B2 (en) * | 2001-09-21 | 2005-03-29 | Quartex, Inc. | Wireless synchronous time system |
US7151945B2 (en) | 2002-03-29 | 2006-12-19 | Cisco Systems Wireless Networking (Australia) Pty Limited | Method and apparatus for clock synchronization in a wireless network |
US7072432B2 (en) | 2002-07-05 | 2006-07-04 | Meshnetworks, Inc. | System and method for correcting the clock drift and maintaining the synchronization of low quality clocks in wireless networks |
KR100776736B1 (ko) | 2005-12-28 | 2007-11-19 | 주식회사 하이닉스반도체 | 클럭 동기 장치 |
US8488109B2 (en) | 2009-08-25 | 2013-07-16 | Nikon Corporation | Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US8493547B2 (en) * | 2009-08-25 | 2013-07-23 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
-
2011
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Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10270535A (ja) * | 1997-03-25 | 1998-10-09 | Nikon Corp | 移動ステージ装置、及び該ステージ装置を用いた回路デバイス製造方法 |
JPH11154914A (ja) * | 1997-11-20 | 1999-06-08 | Toshiba Tec Corp | 全二重光通信装置 |
JP2000240717A (ja) * | 1999-02-19 | 2000-09-05 | Canon Inc | 能動的除振装置 |
JP2004325162A (ja) * | 2003-04-23 | 2004-11-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 位相計測装置及び宇宙太陽発電システム |
JP2005072677A (ja) * | 2003-08-27 | 2005-03-17 | Sharp Corp | 無線通信システム、無線通信システムにおける無線装置および移動無線装置 |
JP2005109137A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マスク基板と露光装置およびそれを用いたパターン形成方法 |
JP2007514319A (ja) * | 2003-12-12 | 2007-05-31 | 株式会社ニコン | リソグラフィシステムにおけるユーティリティ輸送システム |
WO2005081290A1 (ja) * | 2004-02-19 | 2005-09-01 | Nikon Corporation | 露光装置及びデバイス製造方法 |
WO2006085511A1 (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | パルス変調無線通信装置 |
JP2007115784A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-05-10 | Nikon Corp | 露光システム、露光方法、及びデバイス製造工場 |
JP2007189180A (ja) * | 2006-01-16 | 2007-07-26 | Nikon Corp | 工具物体、計測装置及び露光装置、並びに計測方法及び調整方法 |
WO2007113955A1 (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Nikon Corporation | 移動体装置、露光装置及び露光方法、微動体、並びにデバイス製造方法 |
JP2007274881A (ja) * | 2006-12-01 | 2007-10-18 | Nikon Corp | 移動体装置、微動体及び露光装置 |
JP2008300477A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Nikon Corp | 信号伝達方法、露光装置の診断方法、装置及び露光装置 |
WO2009078154A1 (ja) * | 2007-12-14 | 2009-06-25 | Nikon Corporation | 移動体システム、パターン形成装置、露光装置、及び計測装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2009253291A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Asml Holding Nv | ロボット位置キャリブレーションツール(rpct) |
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