JP2007514319A - リソグラフィシステムにおけるユーティリティ輸送システム - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (59)
- 照明源と;
光学系と;
ウエハ又はレチクルを支持するのに適したステージと;
前記ステージを支持するフレームと;
前記ステージの内部又はその表面に配置され、前記ステージと前記フレームとの間でユーティリティを輸送するステージユーティリティ輸送手段と;
前記フレームの内部又はその表面に配置され、前記ステージと前記フレームとの間でユーティリティを輸送するフレームユーティリティ輸送手段と、を備え、
前記ステージと前記フレームとの間でユーティリティが輸送される間、前記ステージ及び前記フレームを、互いに物理的に離れたままにできる、リソグラフィシステム。 - 前記ステージ輸送手段及び前記フレーム輸送手段は、前記ステージと前記フレームとの間で、電力、電気信号、光信号、熱、ガス、固体、及び/又は流体を輸送する、請求項1に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージは、前記フレームユーティリティ輸送手段から受け取る電気信号を処理する、少なくとも1つの処理手段をさらに有する、請求項2に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージは、前記ステージ内にユーティリティを蓄積する、少なくとも1つのバッファリング手段をさらに有する、請求項2に記載のリソグラフィシステム。
- 請求項1のリソグラフィシステムで製造される物品。
- 請求項1のリソグラフィシステムによって像がその上に形成されたウエハ。
- リソグラフィプロセスを使用して物品を製作する方法であって、
請求項1に記載のリソグラフィシステムを前記リソグラフィプロセスが利用する方法。 - リソグラフィプロセスを使用してウエハにパターン形成する方法であって、
請求項1に記載のリソグラフィシステムを前記リソグラフィプロセスが利用する方法。 - 誘導コア、一次誘導コイル、及び二次誘導コイルを有する変圧器であって、前記誘導コアが第1端及び第2端を有し、前記誘導コアの第1端のまわりに前記一次誘導コイルが巻かれた前記変圧器と;
前記二次誘導コイルを収容し、ウエハ又はレチクルを支持するのに適したステージと;
前記誘導コアの第2端が前記二次誘導コイルの中に延びるように、前記ステージ及び前記誘導コアを支持するフレームと、を備え、
前記誘導コアの各側面は、前記二次誘導コイルの内表面から最小離間距離を維持し、それによって前記一次誘導コイル内の電流が電磁場を生成し、この電磁場によって前記二次誘導コイル内に電流が流れるようにした、リソグラフィシステム。 - 前記ステージの各表面は、前記フレームのそれぞれの表面から最小離間距離を維持する、請求項9に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージは、走査軸に沿って前記フレームに対して移動し、前記誘導コアの前記第2端の長軸は、前記走査軸に平行である、請求項9に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージは、複数の二次誘導コイルを収容し、前記誘導コアの第2端は、複数の二次誘導コイルのそれぞれを貫通して延びている、請求項9に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージ内に位置する、ステージ無線周波数送信機、受信機、又は送受信機と;
前記フレーム上に位置する、フレーム無線周波数送信機、受信機、又は送受信機と、
をさらに備え、
前記ステージ及び前記フレームの無線周波数送信機、受信機、又は送受信機は、それらの間で電気信号を送る、請求項9に記載のリソグラフィシステム。 - 前記ステージ内に位置する、ステージ光信号送信機、受信機、又は送受信機と;
前記フレーム上に位置する、フレーム光信号送信機、受信機、又は送受信機と、
をさらに備え、
前記ステージ及び前記フレームの光信号送信機、受信機、又は送受信機は、それらの間で光信号を送る、請求項9に記載のリソグラフィシステム。 - 前記ステージは、走査軸に沿って前記フレームに対して移動し、前記ステージ及び前記フレームの光信号送信機、受信機、又は送受信機の間で送られる光信号は、前記走査軸と実質的に平行な軸に沿って伝わる、請求項14に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージの表面上の少なくとも1つのステージ熱伝達表面と;
前記フレーム上の少なくとも1つのフレーム熱伝達表面と、
をさらに備え、
前記ステージ及び前記フレームの熱伝達表面は、互いに離間しかつ隣接し、それによって前記ステージ熱伝達表面からの熱が前記フレーム熱伝達表面に伝達可能である、請求項9に記載のリソグラフィシステム。 - 前記ステージ内に位置しかつ前記ステージ熱伝達表面に接続された熱シンクをさらに備える、請求項16に記載のリソグラフィシステム。
- 前記熱シンクは、熱蓄積材料を有し、前記熱蓄積材料が、前記ステージによって発生する熱を、前記ステージによって発生する熱によって前記熱蓄積材料が相変化を起こすときの潜熱として収集及び蓄積するのに適した、請求項17に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージの上面は前記フレームの底面に隣接し、前記ステージの前記上面は通路開口を有し、前記フレームの前記底面は空隙を有し、前記空隙は前記通路開口の上方に位置し、それによってガス及び流体を前記通路開口と前記空隙との間で輸送可能である、請求項9に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージは、前記通路開口を介してガスを放出可能なステージ貯蔵部をさらに有し、前記フレームは、真空ポンプと真空通路とを有し、前記真空通路は、前記空隙内に開口を有し、それによって前記真空ポンプは、前記ステージ貯蔵部から前記真空通路中に放出されたガスを収集可能である、請求項19に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージは、熱蓄積材料をさらに有し、前記熱蓄積材料が、前記ステージによって発生する熱を、前記ステージによって発生する熱によって前記熱蓄積材料が相変化を起こすときの潜熱として収集及び蓄積するのに適した、請求項19に記載のリソグラフィシステム。
- 前記熱蓄積材料は、前記ステージからの熱を収集及び蓄積する間に、比較的一定の温度を維持する、請求項21に記載のリソグラフィシステム。
- 前記熱蓄積材料は、パラフィンワックスである、請求項21に記載のリソグラフィシステム。
- 前記熱蓄積材料は、それぞれの支持構造内にそれぞれカプセル化された顆粒の形態である、請求項21に記載のリソグラフィシステム。
- 堆積機構をさらに備え、
前記堆積機構は、前記熱蓄積材料を前記ステージに輸送し、重力によって前記堆積機構から前記ステージに前記熱蓄積材料が移動するように構成されている、請求項24に記載のリソグラフィシステム。 - 前記ステージは、前記熱蓄積材料を前記堆積機構から受け入れるための開口を有する、請求項25に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージは、前記熱蓄積材料を前記ステージから放出するための底部開口を有する、請求項25に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージの上面は前記フレームの底面に隣接し、前記ステージの前記上面は窪んだ窪みを有し、前記フレームの前記底面は空隙を有し、前記空隙は前記窪みの上方に位置し、それによって前記窪みと前記空隙の間でガス及び流体を輸送可能である、請求項9に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージは、前記窪み中にガスを放出可能なステージ貯蔵部をさらに有し、前記フレームは、真空ポンプと真空通路とを有し、前記真空通路は、前記空隙内に開口を有し、それによって前記真空ポンプは、前記ステージ貯蔵部から前記真空通路中に放出されたガスを収集可能である、請求項28に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージ貯蔵部は、流体を前記窪み中に放出することがさらに可能であり、
前記ステージは、前記窪みを加熱し、それによって前記空隙中に放出された液体を蒸発させ得るように構成された加熱要素をさらに有する、請求項29に記載のリソグラフィシステム。 - 前記ステージは、前記窪んだ空隙の表面を冷却し、それによって湿分を前記窪みの表面上に凝縮させ得るように構成された冷却要素をさらに有する、請求項28に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージ内に、前記二次誘導コイルから受ける電力を蓄積するための蓄電池、キャパシタ、及び/又はウルトラキャパシタをさらに備える、請求項9に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージ内に、少なくとも1つのメモリ装置、増幅器、駆動装置、アクチュエータ、及び/又はセンサをさらに備える、請求項9に記載のリソグラフィシステム。
- リソグラフィシステムのステージとベースとの間でユーティリティを輸送する方法であって、
フレームと前記ステージとの間に供給チャネルを接続する工程と;
前記接続された供給チャネルを介して、前記ステージと前記フレームとの間でユーティリティを輸送する工程と;
前記ステージから前記供給チャネルを切り離す工程と、
を有する方法。 - 前記供給チャネルを接続する前に、走査運動から静止位置にステージを安定化させる工程と;
前記供給チャネルを切り離した後に、前記ステージに走査運動を再開させる工程と、
をさらに有する、請求項34に記載の方法。 - 前記接続動作は、導電性ケーブルを前記ステージに接続する工程を有し、前記輸送動作は、前記ケーブルを介して電力及び/又は電気信号を送る工程を有する、請求項34に記載の方法。
- 前記接続動作は、導電性電極を、それらが前記ステージ上の電気端子と接触するように、前記フレームから延ばす工程を有する、請求項34に記載の方法。
- 前記接続動作は、前記供給チャネルが前記フレームと接触するように、前記ステージの表面を前記フレームの表面に近づくように移動させる工程を有する、請求項34に記載の方法。
- 前記接続動作は、前記ステージにホースを接続する工程を有し、前記輸送動作は、前記ホースを介してガス及び/又は流体を輸送する工程を有する、請求項34に記載の方法。
- 前記ガス及び/又は流体は、熱蓄積材料を有し、前記熱蓄積材料が、前記ステージによって発生する熱によって前記熱蓄積材料が相変化を起こすときの潜熱としての、前記ステージによって発生する熱を収集及び蓄積するのに適した、請求項39に記載の方法。
- 前記ステージと前記フレームとの間のホースを包囲する領域を空にする工程をさらに有し、それによって前記ホースから漏出するガス及び/又は流体を収集可能にした、請求項39に記載の方法。
- 前記ステージ上に位置するステージ熱伝達表面を、前記フレーム上に位置するフレーム熱伝達表面に接続し、それによって前記ステージから前記フレームに熱を伝達可能にする工程と;
前記ステージ熱伝達表面を前記フレーム熱伝達表面から切り離す工程と、をさらに有する、請求項34に記載の方法。 - 前記接続供給チャネルを介して前記フレームから前記ステージ内のユーティリティを受け取る工程と;
前記受け取ったユーティリティを前記ステージ内に蓄積する工程と、をさらに有する、請求項34に記載の方法。 - 少なくとも一次誘導コイル及び二次誘導コイルを有する変圧器であって、前記二次誘導コイルが第1端及び第2端を有し、前記第1端及び前記第2端が前記二次誘導コイルの長軸の両端にある、前記変圧器と;
ウエハ又はレチクルを支持するのに適したステージであって、少なくとも前記二次コイルの第1端に取り付けられ、それによって前記二次誘導コイルを支持する前記ステージと;
前記一次コイルが前記二次コイルに近接するように、前記一次コイルを支持するフレームと、を備え、
前記ステージが前記二次コイルの長軸に沿って前記フレームに対して移動するときに、前記一次コイルと前記二次コイルが互いに離間距離を維持し、それによって前記一次コイル内の電流が電磁場を生成し、この電磁場によって前記二次誘導コイル内に電流が流れるようにした、リソグラフィシステム。 - 前記ステージと前記フレームが、互いに物理的に離れたままとなるように、前記ステージが前記フレーム上に支持されている、請求項44に記載のリソグラフィシステム。
- 前記二次コイルは、その形状が細長い輪になるように巻かれている、請求項44に記載のリソグラフィシステム。
- 前記フレームは2つの通路を含み、前記二次コイルのそれぞれの部分が、各通路を通過している、請求項46に記載のリソグラフィシステム。
- 前記フレームは、前記2つの通路のそれぞれを分ける誘導コアを有し、前記一次誘導コイルは前記誘導コアのまわりに巻かれている、請求項47に記載のリソグラフィシステム。
- 前記フレームは少なくとも1つの通路を有し、前記二次誘導コイルは前記通路を通過して延びている、請求項44に記載のリソグラフィシステム。
- 前記二次誘導コイルは、ソレノイドである、請求項49に記載のリソグラフィシステム。
- 前記一次誘導コイルは、前記通路の内表面のまわりに巻かれて、前記一次誘導コイルが前記ソレノイドの少なくとも一部分を包囲している、請求項50に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージは、前記二次誘導コイル内で生成される電流から電流を引き出す電気構成要素をさらに有する、請求項44に記載のリソグラフィシステム。
- 照明源と;
光学系と;
レチクル又はウエハを支持するのに適したステージと;
前記ステージの表面上に位置するステージポートと;
前記ステージを支持するフレームと;
前記フレームの表面上に位置するフレームポートであって、前記ステージポート及び前記フレームポートが互いの接続に適し、それによってガス及び/又は流体を前記ステージと前記フレームとの間で輸送可能にされた、フレームポートと;
前記フレーム内のフレーム真空ポンプであって、前記フレームポートの縁のまわりの位置において、前記フレームの表面に延びる真空通路を有し、それによって前記ステージポートと前記フレームポートとの間の接続から漏れるガス及び/又は流体を排出可能である、前記フレーム真空ポンプと、を備えるリソグラフィシステム。 - 前記ステージ内のステージ真空ポンプであって、前記ステージポートの縁のまわりの位置で、前記ステージの表面に延びる真空通路を有し、それによって、前記ステージポートと前記フレームポートとの間の接続から漏れるガス及び/又は流体を排出可能である、ステージ真空ポンプをさらに備える、請求項53に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ステージ内に位置するとともに、前記ステージポートに接続された、ガス及び/又は流体を蓄積するのに適したステージ貯蔵部と;
前記フレーム内に位置するとともに、前記フレームポートに接続された、ガス及び/又は流体を蓄積するのに適したフレーム貯蔵部と、
をさらに備える、請求項53に記載のリソグラフィシステム。 - 請求項53のリソグラフィシステムを用いて製造される物品。
- 請求項53のリソグラフィシステムによって、像がその上に形成されたウエハ。
- リソグラフィプロセスを使用して物品を製作する方法であって、
請求項53に記載のリソグラフィシステムを前記リソグラフィプロセスが利用する方法。 - リソグラフィプロセスを使用してウエハにパターン形成する方法であって、
請求項53に記載のリソグラフィシステムを前記リソグラフィプロセスが利用する方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/734,396 | 2003-12-12 | ||
US10/734,396 US20050128449A1 (en) | 2003-12-12 | 2003-12-12 | Utilities transfer system in a lithography system |
PCT/US2004/041112 WO2005062130A2 (en) | 2003-12-12 | 2004-12-06 | Utilities transfer system in a lithography system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007514319A true JP2007514319A (ja) | 2007-05-31 |
JP5018088B2 JP5018088B2 (ja) | 2012-09-05 |
Family
ID=34653352
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006543953A Expired - Fee Related JP5018088B2 (ja) | 2003-12-12 | 2004-12-06 | リソグラフィシステム |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US20050128449A1 (ja) |
EP (1) | EP1692571A2 (ja) |
JP (1) | JP5018088B2 (ja) |
KR (1) | KR101286002B1 (ja) |
CN (2) | CN101833249A (ja) |
SG (1) | SG155960A1 (ja) |
WO (1) | WO2005062130A2 (ja) |
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- 2003-12-12 US US10/734,396 patent/US20050128449A1/en not_active Abandoned
-
2004
- 2004-12-06 CN CN201010156656A patent/CN101833249A/zh active Pending
- 2004-12-06 CN CN2004800365147A patent/CN1890607B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-06 WO PCT/US2004/041112 patent/WO2005062130A2/en active Application Filing
- 2004-12-06 KR KR1020067011582A patent/KR101286002B1/ko active IP Right Grant
- 2004-12-06 JP JP2006543953A patent/JP5018088B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-06 EP EP04813434A patent/EP1692571A2/en not_active Withdrawn
- 2004-12-06 SG SG200906332-2A patent/SG155960A1/en unknown
-
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- 2006-06-23 US US11/473,967 patent/US8619234B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-06-23 US US11/473,966 patent/US7375797B2/en not_active Expired - Lifetime
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US20050128449A1 (en) | 2005-06-16 |
KR20060120691A (ko) | 2006-11-27 |
SG155960A1 (en) | 2009-10-29 |
CN101833249A (zh) | 2010-09-15 |
WO2005062130A3 (en) | 2006-04-20 |
WO2005062130A2 (en) | 2005-07-07 |
US20060250595A1 (en) | 2006-11-09 |
US8619234B2 (en) | 2013-12-31 |
EP1692571A2 (en) | 2006-08-23 |
US20060261679A1 (en) | 2006-11-23 |
KR101286002B1 (ko) | 2013-07-15 |
CN1890607B (zh) | 2010-05-26 |
US7375797B2 (en) | 2008-05-20 |
CN1890607A (zh) | 2007-01-03 |
JP5018088B2 (ja) | 2012-09-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071106 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100525 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100723 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101214 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110214 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110913 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111209 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20111219 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120515 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120528 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5018088 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150622 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150622 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |