JPWO2006059634A1 - ステージ装置及び露光装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2004年12月1日に出願された特願2004−348682号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
例えば、半導体デバイス用の露光装置としては、近年における集積回路の高集積化に伴うパターンの最小線幅(デバイスルール)の微細化に応じて、レチクルのパターンを投影光学系を用いてウエハ上に縮小転写する縮小投影露光装置が主として用いられている。
この構成では、露光処理等の所定の処理中はステージへの電気配線が不要になり、ステージの動特性、静特性を改善することが可能である。
ステージには、所定の処理中に静電気が帯電することがあり、静電気の放電によりステージに付設された機器に悪影響を及ぼしたり、ウエハに形成されたパターンが損傷を受ける可能性もある。
本発明のステージ装置は、物体(W)を保持して移動する第1移動ステージ(WST)を有するステージ装置(ST)であって、第1移動ステージ(WST)に設けられた電気接点(115)と、物体(W)に処理を施していない際に電気接点(115)に当接して、第1移動ステージ(WST)を接地する接地装置(100)とを有することを特徴とするものである。
また、投影ユニットPUを保持する保持部材には、オフアクシス型のアライメント系45が設けられており、対象マーク(ウエハWに形成されたアライメントマーク等)の位置を計測する。
ここで、チューブキャリア29がX方向に等速運動するのは、チューブキャリア29の駆動により発生する反力がウエハステージ本体26に及ぼす影響を少なくするためである。
また、これら給気管路及び排気管路それぞれの他端は、ステージ装置STの外部に設けられた気体供給装置201及び真空吸引装置202(図7参照)に接続されている。
なお、上記の気体系供給装置155は、本願出願人が先に出願した特願2004−168481号に用力供給装置として詳細に記載されている。
図5は、ウエハステージ本体26の+Y側の側面26aと対向して電気系供給装置100が設けられた正面図であり、図6は要部詳細を示す平面図である。なお、これらの図においては、理解を容易にするために、気体系供給装置155の図示を省略している。
電気系供給装置100は、エアシリンダ等の直動型のアクチュエータ101、アクチュエータ101のヘッド部102に設けられたベース部103、ベース部103に設けられた給電子104及びアース用接触子(接触子)105を主体に構成されている。
また、給電子104は、チューブキャリア29に接続された給電配線107を介して、主制御装置20に接続された給電装置108(図5及び図6では不図示、図7参照)に接続されている。
また、計測ステージMSTは、露光に関する各種計測を行うための計測器群を備えている。
なお、上記実施形態で示した材料(ウエハホルダ40のSi−SiC、ウエハステージWSTのセラミックス)は一例であり、他の材料を用いてもよいことは言うまでもない。
また、上記実施形態では、給電子104及びアース用接触子105を支持するベース部103が平面ベアリングにより2次元的に移動可能である構成としたが、コロ等により移動可能な構成としてもよい。また、本実施の形態のウエハステージWSTは、ケーブルレスステージとしたが、ケーブルステージ(ケーブルが接続されたステージ)としてもよい。
Claims (17)
- 物体を保持して移動する第1移動ステージを有するステージ装置であって、
前記第1移動ステージに設けられた電気接点と、
前記物体に処理を施していない際に前記電気接点に当接して、前記第1移動ステージを接地する接地装置とを有することを特徴とするステージ装置。 - 請求項1記載のステージ装置において、
前記接地装置は、前記第1移動ステージが前記物体を交換する位置にあるときに、前記電気接点と当接することを特徴とするステージ装置。 - 請求項1記載のステージ装置において、
前記第1移動ステージの移動に応じて移動する第2移動ステージを有し、
前記接地装置が前記第2移動ステージに設けられていることを特徴とするステージ装置。 - 請求項3記載のステージ装置において、
前記第2移動ステージは、前記第1移動ステージに非接触で用力を供給する用力供給装置を備えていることを特徴とするステージ装置。 - 請求項1記載のステージ装置において、
前記第1移動ステージの少なくとも一部は導電性材料で形成されていることを特徴とするステージ装置。 - 請求項1記載のステージ装置において、
前記接地装置は、可撓性をもって前記電気接点に当接する接触子を有することを特徴とするステージ装置。 - 請求項6記載のステージ装置において、
前記第1移動ステージに設けられた第2電気接点と、前記第2電気接点に当接したときに給電する給電子とを有し、
前記接触子は、前記給電子が前記第2電気接点に当接する前に前記電気接点に当接することを特徴とするステージ装置。 - 請求項1記載のステージ装置において、
前記接地装置は、前記電気接点に当接したときに前記第1移動ステージに作用する負荷を吸収する吸収機構を有することを特徴とするステージ装置。 - 請求項8記載のステージ装置において、
前記吸収機構は、前記負荷により、前記第1移動ステージへ向かう方向と略直交する面内で前記接地装置を移動させることを特徴とするステージ装置。 - 請求項1記載のステージ装置において、
前記第1移動ステージは、基板を着脱可能に保持する保持部を有することを特徴とするステージ装置。 - 請求項10記載のステージ装置において、
前記基板が前記保持部から離脱する前に、前記接地装置を前記電気接点に当接させる制御装置を有することを特徴とするステージ装置。 - 請求項1から11のいずれか一項に記載のステージ装置において、
前記第1移動ステージは、ケーブルを有さないケーブルレスステージであることを特徴とするステージ装置。 - ステージ装置を用いて基板にパターンを露光する露光装置であって、
前記ステージ装置として、請求項1から12のいずれか一項に記載のステージ装置が用いられることを特徴とする露光装置。 - 基板を保持して移動するステージ装置を用いて前記基板にパターンを露光する露光方法において、
前記ステージ装置を接地するステップと、
前記接地が完了した後に、露光済みの基板を前記ステージ装置から回収するステップと、
前記未露光の基板の載置が終了した後に前記ステージ装置の接地を解除するステップとを有する露光方法。 - 前記回収するステップは、露光済みの基板を回収するとともに、未露光の基板を前記ステージ装置上に載置するステップを含む請求項14記載の露光方法。
- 前記ステージ装置はバッテリーを備え、接地中は前記バッテリーに充電を行う請求項14記載の露光方法。
- 前記バッテリーの充電は、前記ステージ装置が接地された後に開始される請求項16記載の露光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006547972A JP4905135B2 (ja) | 2004-12-01 | 2005-11-30 | ステージ装置及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004348682 | 2004-12-01 | ||
JP2004348682 | 2004-12-01 | ||
JP2006547972A JP4905135B2 (ja) | 2004-12-01 | 2005-11-30 | ステージ装置及び露光装置 |
PCT/JP2005/021973 WO2006059634A1 (ja) | 2004-12-01 | 2005-11-30 | ステージ装置及び露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2006059634A1 true JPWO2006059634A1 (ja) | 2008-06-05 |
JP4905135B2 JP4905135B2 (ja) | 2012-03-28 |
Family
ID=36565068
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006547972A Expired - Fee Related JP4905135B2 (ja) | 2004-12-01 | 2005-11-30 | ステージ装置及び露光装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9557656B2 (ja) |
EP (1) | EP1826813A4 (ja) |
JP (1) | JP4905135B2 (ja) |
KR (1) | KR101220613B1 (ja) |
TW (1) | TWI405041B (ja) |
WO (1) | WO2006059634A1 (ja) |
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- 2005-11-30 JP JP2006547972A patent/JP4905135B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-11-30 TW TW094142000A patent/TWI405041B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-11-30 EP EP05811520A patent/EP1826813A4/en not_active Withdrawn
- 2005-11-30 WO PCT/JP2005/021973 patent/WO2006059634A1/ja active Application Filing
- 2005-11-30 US US11/791,992 patent/US9557656B2/en not_active Expired - Fee Related
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JP2005209997A (ja) * | 2004-01-26 | 2005-08-04 | Canon Inc | 位置決めステージ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1826813A4 (en) | 2009-05-13 |
JP4905135B2 (ja) | 2012-03-28 |
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US9557656B2 (en) | 2017-01-31 |
US20080060828A1 (en) | 2008-03-13 |
EP1826813A1 (en) | 2007-08-29 |
KR20070083498A (ko) | 2007-08-24 |
TW200632575A (en) | 2006-09-16 |
KR101220613B1 (ko) | 2013-01-18 |
WO2006059634A1 (ja) | 2006-06-08 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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