JP2007281462A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、基板Wを保持するように構成された基板テーブルWTを有しており、基板テーブルは、調整流体を保持し、かつ、基板テーブルを調整するように構成された調整システム100を備えている。調整システム100は、調整システム100と流体連絡している圧力ダンパ104を備えており、調整システム100の圧力変化を抑制する。
【選択図】図6
Description
[0031] −放射ビームB(たとえばUV放射またはDUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
[0032] −パターニングデバイス(たとえばマスク)MAを支持するように構築され、特定のパラメータに従って該パターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(たとえばマスクテーブル)MTと、
[0033] −基板(たとえばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構築された、特定のパラメータに従って該基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(たとえばウェーハテーブル)WTと、
[0034] −パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付与されたパターンを基板Wのターゲット部分C(たとえば1つまたは複数のダイを備えている)上に投影するように構成された投影システム(たとえば屈折型投影レンズシステム)PSと
を備えている。
[0046] 1.ステップモード:支持構造MTおよび基板テーブルWTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体がターゲット部分C上に1回で投影される(すなわち単一静止露光)。次に、基板テーブルWTがX方向および/またはY方向にシフトされ、異なるターゲット部分Cが露光される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静止露光で画像化されるターゲット部分Cのサイズが制限部される。
[0047] 2.スキャンモード:放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分C上に投影されている間、支持構造MTおよび基板テーブルWTが同期スキャンされる(すなわち単一動的露光)。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの倍率(縮小率)および像反転特性によって決まる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の幅(非スキャン方向の幅)が制限部され、また、スキャン運動の長さによってターゲット部分の高さ(スキャン方向の高さ)が決まる。
[0048] 3.その他のモード:プログラマブルパターニングデバイスを保持するべく支持構造MTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分C上に投影されている間、基板テーブルWTが移動またはスキャンされる。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、スキャン中、各基板テーブルWTが移動した後に、あるいは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用しているマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (41)
- パターニングデバイスから基板上にパターンを投影するリソグラフィ装置であって、前記リソグラフィ装置は、調整システムを備えたオブジェクトを有し、前記調整システムが、調整流体を保持し、かつ、前記オブジェクトを調整するように構成され、また、前記調整システムが、前記調整システムと流体連絡している圧力ダンパを備え、前記調整システムの圧力変化を抑制し、および/または前記オブジェクト内の前記調整流体を前記オブジェクトの外部の調整流体から分離する、リソグラフィ装置。
- 前記圧力ダンパは、前記オブジェクト近傍に配置される、請求項1に記載の装置。
- 前記圧力ダンパは、前記オブジェクトを運搬するオブジェクトキャリヤ内に配置される、請求項2に記載の装置。
- 前記調整システムは、前記調整流体を前記オブジェクトに輸送するように構成された調整流体供給デバイスを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記圧力ダンパは前記供給デバイスと流体連絡している、請求項4に記載の装置。
- 前記調整システムは、前記調整流体を前記オブジェクトから運び去るように構成された調整流体除去デバイスを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記圧力ダンパは前記除去デバイスと流体連絡している、請求項6に記載の装置。
- 前記圧力ダンパは、可動部材によって分離された2つのコンパートメントを有するハウジングを備え、前記コンパートメントのうちの一方が前記調整システムに接続された、請求項1に記載の装置。
- 前記可動部材はフレキシブルな膜である、請求項8に記載の装置。
- 前記可動部材は可動ピストンである、請求項8に記載の装置。
- 他方のコンパートメントが圧縮可能媒体を保持している、請求項8に記載の装置。
- 前記圧力ダンパは、
一方の側が前記調整システムと流体連絡している可動部材と、
前記可動部材に接続されたアクチュエータであって、使用中、前記可動部材に一定の力を印加するためのアクチュエータとを備える、請求項1に記載の装置。 - 前記フレキシブルな膜をニュートラル位置へ復帰させるための制御エレクトロニクスをさらに備える、請求項12に記載の装置。
- 前記制御エレクトロニクスは、低周波数、好ましくは0.1Hz未満で動作する、請求項13に記載の装置。
- 前記圧力ダンパが能動圧力ダンパであり、前記装置が、
前記調整流体の圧力を測定するための圧力センサと、前記圧力センサからの信号に基づいて前記アクティブ圧力ダンパを駆動し、それにより前記圧力センサによって測定される圧力変化に等しく、かつ、それらに対抗する圧力を実質的に印加するためのコントローラとを備える、請求項1に記載の装置。 - パッシブダンパをさらに備えた、請求項15に記載の装置。
- 前記調整システムは、前記オブジェクトを残すことなく、前記基板テーブル周辺に少なくとも部分的にループをなして調整流体を循環させるようになされる、請求項1に記載の装置。
- 前記調整システムは、前記基板テーブルに取り付けられた、調整流体を前記ループの周りにポンプ供給するためのポンプを備える、請求項17に記載の装置。
- 前記調整システムは、前記オブジェクトに取り付けられた、前記調整流体を調整するための加熱器をさらに備える、請求項17に記載の装置。
- 前記調整システムは、調整流体を前記オブジェクトの外側から前記ループに加えるためのコンジットと、調整流体を前記ループから前記オブジェクトの外側へ除去するためのコンジットとをさらに備える、請求項17に記載の装置。
- 前記調整システム内の調整流体の流路に少なくとも1つの流量制限部をさらに備える、請求項1に記載の装置。
- 前記流量制限部は、前記オブジェクト内の前記流路の一部にある、請求項21に記載の装置。
- 前記流量制限部は、前記流路内の、調整流体が前記オブジェクトに流入し、かつ/または前記オブジェクトから流出する位置に配置され、あるいはそれらの位置に隣接して配置される、請求項21に記載の装置。
- 前記流量制限部は、前記流路の、調整流体が使用中に実質的に前記オブジェクトに向かって流れる部分に配置される、請求項21に記載の装置。
- 調整流体をポンプ供給するためのポンプをさらに備え、前記ポンプは、前記流路の、調整流体が使用中に実質的に前記オブジェクトから流れ去る部分に配置された、請求項21に記載の装置。
- 前記ポンプが容積式ポンプである、請求項25に記載の装置。
- 調整流体の流路に2つのポンプをさらに備え、前記2つのポンプのうちの第1のポンプは、前記流路内の、調整流体が使用中に実質的に前記オブジェクトに向かって流れる位置に配置され、前記2つのポンプのうちの第2のポンプは、前記流路内の、調整流体が使用中に実質的に前記オブジェクトから流れ去る位置に配置されている、請求項1に記載の装置。
- 前記オブジェクトは、基板を保持するように構成された基板テーブル、またはマスクを保持するように構成されたマスクテーブルのうちのいずれかである、請求項1に記載の装置。
- パターニングデバイスから基板上にパターンを投影するリソグラフィ装置であって、前記リソグラフィ装置は、基板を保持するように構成された基板テーブルを備え、オブジェクトは、調整流体を前記オブジェクトに取り付けられたポンプを使用してループの周りにポンピングすることによって前記オブジェクトを調整するように構成された調整システムを備える、リソグラフィ装置。
- 前記調整流体の温度を変化させるための調整流体コンディショナをさらに備えた、請求項29に記載の装置。
- 前記調整流体コンディショナは、前記オブジェクトに取り付けられた加熱器である、請求項30に記載の装置。
- 前記調整システムは、前記ループ内の調整流体の大部分が前記ループ内を再循環し、かつ、前記ループに戻る前に前記ループ内の調整流体の微小部分が前記ループから除去され、それにより前記オブジェクトの外側を調整するように構成される、請求項29に記載の装置。
- 前記オブジェクトは、基板を保持するように構成された基板テーブルまたはマスクを保持するように構成されたマスクテーブルのいずれかである、請求項1に記載の装置。
- パターニングデバイスから基板上にパターンを投影するリソグラフィ装置であって、前記リソグラフィ装置は、基板を保持するように構成された基板テーブルを備え、オブジェクトは、前記オブジェクトを調整するように構成された調整システムを備え、前記調整システムは、アクティブ圧力ダンパと、前記調整流体の圧力を測定するための圧力センサと、前記圧力センサからの信号に基づいて前記アクティブ圧力ダンパを駆動し、それにより前記圧力センサによって測定される圧力変化に等しく、かつ、それらに対抗する圧力を実質的に印加するためのコントローラとを備える、リソグラフィ装置。
- パターニングデバイスから基板上にパターンを投影するリソグラフィ装置であって、前記リソグラフィ装置は、基板を保持するように構成された基板テーブルを備え、オブジェクトは、調整流体を前記オブジェクト内の流路の周りにポンプ供給することによって前記オブジェクトを調整するように構成された調整システムを備え、前記流路が、少なくとも1つの流量制限部を備える、リソグラフィ装置。
- 前記流量制限部は前記オブジェクト内の流路に配置される、請求項33に記載の装置。
- 前記流量制限部は、調整流体が使用中にそれぞれ前記オブジェクトに流入する入口位置または前記オブジェクトから流出する出口位置に配置され、あるいはそれらの位置に隣接して配置される、請求項33に記載の装置。
- 調整流体を前記流路にポンプ供給するための少なくとも1つのポンプをさらに備え、前記ポンプが、(i)前記流量制限部が、前記流路内の、調整流体が実質的に前記オブジェクトから流れ去る位置に存在している場合は、前記流路内の、調整流体が実質的に前記オブジェクトに向かって流れる位置に配置され、あるいは(ii)前記流量制限部が、前記流路内の、調整流体が実質的に前記オブジェクトに向かって流れる位置に存在している場合は、前記流路内の、調整流体が実質的に前記基板テーブルから流れ去る位置に配置される、請求項33に記載の装置。
- パターニングデバイスから基板上にパターンを投影するリソグラフィ装置であって、前記リソグラフィ装置は、基板を保持するように構成された基板テーブルを備え、前記基板テーブルは、調整流体を前記基板テーブルを介してポンプ供給することによって前記基板テーブルを調整するように構成された調整システムを備え、前記調整システムは、調整流体の流路に2つのポンプを備え、前記2つのポンプのうちの第1のポンプが、前記流路内の、調整流体が使用中に実質的に前記基板テーブルに向かって流れる位置に配置され、前記2つのポンプのうちの第2のポンプが、前記流路内の、調整流体が使用中に実質的に前記基板テーブルから流れ去る位置に配置される、リソグラフィ装置。
- パターニングデバイスから基板上にパターンを投影するリソグラフィ装置であって、前記リソグラフィ装置は、基板を保持するように構成された基板テーブルを備え、前記基板テーブルは、調整流体を保持し、かつ、前記基板テーブルを調整するように構成された調整システムを備え、前記調整システムは、調整流体を前記基板テーブルに輸送するように構成された調整流体供給デバイスと、調整流体を前記基板テーブルから運び去るように構成された調整流体除去デバイスと、前記供給デバイスと流体連絡している第1の圧力ダンパと、前記除去デバイスと流体連絡している第2の圧力ダンパとを備え、前記圧力ダンパは、前記調整システムの圧力変化を抑制し、かつ/または前記基板テーブル内の前記調整流体を前記基板テーブルの外部の前記調整流体から分離する、リソグラフィ装置。
- パターン化された放射のビームを基板のターゲット部分上に投射することと、
調整システムを使用して前記基板を調整することと、
前記調整システムの圧力変化を抑制することを含む、デバイス製造方法。
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