JP2005322907A - リソグラフィ装置、熱調節システム、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基準フレームMF上に投影レンズPLを支持する投影レンズ支持体LSを熱調節するための熱調節システムが設けてある。直接熱調節システムでは、レンズ支持体に中を熱調節流体を通す熱調節チャンネルがあり、間接熱調節システムでは、レンズ支持体に取付けた熱調節板4にこの熱調節チャンネルが設けてあり、それぞれ、この熱調節流体によってレンズ支持体を冷却または加熱する。この熱調節チャンネルは、熱調節流体を外へ漏さないために閉チャンネルであるのが好ましい。また、この熱調節システムは、ガス熱調節システムであってもよい。
【選択図】図2
Description
類似の参照記号は、類似の要素を指す。
放射線(例えば、UV放射線、DUV、EUVまたはx線放射線)の投影ビームPBを供給するための照明システム(照明器)IL、
パターニング装置(例えば、マスク)MAを支持し、且つこのパターニング装置を部材PLに関して正確に位置決めするために第1位置決め装置PMに結合された第1支持構造体(例えば、マスクテーブル)MT、
基板(例えば、レジストを塗被したウエハ)Wを保持し、且つこの基板を部材PLに関して正確に位置決めするために第2位置決め装置PWに結合された基板テーブル(例えば、ウエハテーブル)WT、および
パターニング装置MAによって投影ビームPBに与えたパターンを基板Wの目標部分C(例えば、一つ以上のダイを含む)上に結像するための投影システム(例えば、屈折性投影レンズ)PLを含む。
1. ステップモードでは、投影ビームに与えた全パターンを目標部分C上に一度に(即ち、単一静的露出で)投影しながら、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを本質的に固定して保持する。次に基板テーブルWTをXおよび/またはY方向に移動して異なる目標部分Cを露出できるようにする。ステップモードでは、露出領域の最大サイズが単一静的露出で結像する目標部分Cのサイズを制限する。
2. 走査モードでは、投影ビームに与えたパターンを目標部分C上に投影(即ち、単一動的露出で)しながら、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期して走査する。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPLの(縮)倍率および像反転特性によって決る。走査モードでは、露出領域の最大サイズが単一動的露出での目標部分の(非走査方向の)幅を制限し、一方走査運動の長さが目標部分の(走査方向の)高さを決める。
上に説明した使用モードの組合せおよび/または変形または全く異なった使用モードも使ってよい。
4 熱調節板
9 ポンプ
20 供給管
21 戻り管
82 ガス供給源
83 システム支持体の一部
91 制御素子
93 熱調節ユニット
95 第1マニホルド
96 並列チャンネル
97 第2マニホルド
98 単一チャンネル
C 目標部分
FCD 直接熱調節システム
FCI 間接熱調節システム
GC ガス熱調節システム
IL 照明システム
LS 投影システム支持体
LS1 支持ブロック
LS2 支持ブロック
LS3 支持ブロック
MA パターニング装置
MF 基準フレーム
MT 支持構造体
PB 投影ビーム
PL 投影システム
W 基板
WT 基板テーブル
Claims (34)
- 放射線ビームを供給するように構成した照明システム、
前記放射線ビームの断面にパターンを与えることができ、それでパターン化した放射線ビームを作るパターニング装置を支持するように構成した支持構造体、
基板を保持するように構成した基板テーブル、
前記パターン化した放射線ビームを基板の目標部分上に投影するように配置した投影システム、
基準フレーム上に前記投影システムを支持するように構成した投影システム支持体、および
前記投影システム支持体を熱的に調節するように構成した熱調節システム、を含むリソグラフィ装置。 - 前記熱調節システムが流体熱調節システムである請求項1に記載された装置。
- 前記熱調節システムが前記投影システム支持体を直接的に調節する請求項1に記載された装置。
- 前記熱調節システムが前記投影システム支持体を間接的に調節する請求項1に記載された装置。
- 前記熱調節システムが前記投影システム支持体を通して熱調節流体を運ぶように構成した熱調節チャンネルを含む請求項1に記載された装置。
- 前記熱調節チャンネルが前記投影システム支持体内に熱調節流体を保持するように構成した閉チャンネルである請求項5に記載された装置。
- 前記熱調節システムが前記投影システム支持体を熱的に調節するように構成した熱調節板を含み、前記熱調節板が投影システム支持体と熱接触している請求項1に記載された装置。
- 前記熱調節板が前記熱調節板を通してまたはその表面を横切って熱調節流体を運ぶように構成した熱調節チャンネルを備える請求項7に記載された装置。
- 前記熱調節チャンネルが前記熱調節板内に熱調節流体を保持するための閉チャンネルである請求項8に記載された装置。
- 前記熱調節システムが前記熱調節チャンネルを通る流体流れを提供するように構成したポンプを含む請求項1に記載された装置。
- 前記ポンプが、使用する際、前記熱調節システムに発生する流れ誘発振動を制限するように、ある流量の流体流れを提供するように構成した制御素子を含む請求項10に記載された装置。
- 前記制御素子が液体振動を低減するために液圧ダンパを含む請求項11に記載された装置。
- 前記ポンプが時間に関して実質的に均一な流れを提供するように配置した制御素子を含む請求項10に記載された装置。
- 前記流体流れが実質的に毎分約0.5ないし約6リットルの範囲内の流量で流れる請求項10に記載された装置。
- 前記流体流れが毎分約2リットルの流量で流れる請求項10に記載された装置。
- 前記熱調節板が、アルミニウム、鋼、鉄合金、セラミック複合材料、チタン、銅、金および銀の少なくとも一つを含む材料で作ってある請求項7に記載された装置。
- 前記熱調節板がブロックの形をしている請求項7に記載された装置。
- 前記熱調節システムが前記投影システム支持体の少なくとも一部に熱調節ガスを供給するように構成したガス供給源を含む請求項1に記載された装置。
- 前記ガスが空気および清浄空気の少なくとも一つを含む請求項18に記載された装置。
- 前記投影システム支持体が前記投影システムを支持するように配置した複数の支持ブロックを含み、前記熱調節システムがこれらの複数の支持ブロックを直列に冷却するように配列してある請求項1に記載された装置。
- 前記投影システム支持体が前記投影システムを支持するように配置した複数の支持ブロックを含み、前記熱調節システムがこれらの複数の支持ブロックを並列に冷却するように配列してある請求項1に記載された装置。
- 前記熱調節システムが冷却剤を上記複数の支持ブロックへ並列に運ぶための複数の並列チャンネルを提供するように構成した第1マニホルドを含む請求項21に記載された装置。
- 前記熱調節システムが第2マニホルドおよびポンプを含み、上記第2マニホルドは、前記冷却剤を上記ポンプへ運ぶために複数の並列チャンネルを単一チャンネルに結合するように構成してある請求項21に記載された装置。
- 前記熱調節システムが前記投影システム支持体の温度に関して規制した温度の流体を提供するように構成した熱調節ユニットを含む請求項1に記載された装置。
- 前記熱調節システムが前記投影システム支持体に熱調節流体を供給するたように構成した供給管、中を前記熱調節流体が流れ、前記投影システム支持体を熱的に調節するようの構成した熱調節チャンネル、および前記投影システム支持体から前記熱調節流体を戻すように構成した戻り管を含み、前記供給管、熱調節チャンネルおよび戻り管が閉システムを形成する請求項1に記載された装置。
- 前記投影システムが投影レンズを含み、および前記投影システム支持体が前記投影レンズを支持するように構成した投影レンズ支持体である請求項1に記載された装置。
- 前記熱調節システムが前記投影システム支持体を冷却するように構成してある請求項1に記載された装置。
- 前記投影システム支持体が能動素子を含み、前記熱調節システムが前記能動素子を熱的に調節するように構成してある請求項1に記載された装置。
- 更に、前記熱調節板と前記投影システム支持体の間に配置し、前記熱調節板と前記投影システム支持体の間の熱接触を増加するように構成した熱伝導材料を含む請求項7に記載された装置。
- 前記投影システム支持体がレンズ支持ブロックを含み、前記熱伝導材料が前記熱調節板と前記レンズ支持ブロックの間に配置してある請求項29に記載された装置。
- 投影システム支持体を熱的に調節する熱調節器を含む装置。
- 使用する際、投影システムを支持するように構成・配置した投影システム支持体と熱接触して取付けるように配置した板を含み、前記板は、使用する際、前記投影システム支持体を熱的に調節するように、熱調節流体を運ぶように構成した熱調節チャンネルを含む熱調節システム。
- デバイス製造方法であって、
基板を用意する工程、
照明システムを使って放射線の投影ビームを用意する工程、
前記投影ビームの断面にパターンを与えてパターン化した放射線ビームを作るためにパターニング装置を使う工程、および
前記パターン化した放射線ビームを、投影システム支持体で基準フレーム上に支持した投影システムを使って上記基板の目標部分上に投影する工程、および
前記投影システム支持体を熱的に調節する工程、を含む方法。 - デバイスを製造するための方法であって、
投影システム支持体で基準フレーム上に支持した投影システムを使って、パターニング装置からパターンを基板の目標部分に転写する工程、および
前記投影システム支持体を熱的に調節する工程、を含む方法。
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