JP4335197B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
1.ステップ・モード:ステップ・モードでは、基本的にマスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分Cに1回で投影される(即ち単一静止露光)。次に、基板テーブルWTがX及び/又はY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モード:走査モードでは、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが同期走査される(即ち単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの倍率(縮小率)及び画像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅(非走査方向の幅)が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ(走査方向の高さ)が決まる。
3.その他のモード:その他のモードでは、プログラム可能パターン化デバイスを保持するべくマスク・テーブルMTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、基板テーブルWTが移動若しくは走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターン化デバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン化デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
B 放射ビーム
BD ビーム引渡しシステム
C 基板の目標部分
CO コンデンサ
IF 位置センサ
IL 照明システム(イルミネータ)
IN インテグレータ
MA パターン化デバイス(マスク)
MT 支持構造(マスク・テーブル)
M1、M2 マスク位置合せマーク
P 目標の進行方向
PM 第1のポジショナ
PS、4 投影システム
PW 第2のポジショナ
P1、P2 基板位置合せマーク
SO 放射源
W、6 基板
WT 基板テーブル
1 冷媒構造(ダクト構造、ダクト構成)
2 基板サポート(支持構造、ウェハ・テーブル)
3 チャック
5 パターン化された放射ビーム
7 チャックの全体的な移動方向
8 ダイ(次に照射される目標部分)
9 冷媒ダクト(ダクト)
10 中央ダクト
11 次に照射される目標部分の軌道
12 出口
13 入口
14 中央接続部分
15 ウェハ・テーブルの周辺縁
16 蛇行回路
17 結合層
18 陽極結合層
Claims (12)
- 放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与し、パターン化された放射ビームを形成することができるパターン化デバイスを支持するように構築されたパターン化デバイス・サポートと、
基板を支持するように構築された基板サポートと、
前記パターン化された放射ビームを前記基板の目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えたリソグラフィ装置であって、
前記基板サポートが、前記基板の次の目標である目標部分の所定の軌道に沿って前記基板を移動させるようになされ、
前記基板サポートが、前記基板を熱的に安定させるためのダクト構成を備え、前記ダクト構成が、熱安定化媒体をダクトで前記基板サポートに供給し、且つ、前記基板の先行する目標部分を支持している前記基板サポート部分を介して前記目標部分を支持している前記基板サポートの一部から前記熱安定化媒体を実質的にダクトで除去し、それにより次の目標である目標部分を熱的に安定に維持するようになされ、
前記軌道が、前記基板の前記次の目標部分の平均進行方向を縦軸に沿って画定し、前記基板サポート中の前記ダクト構成が、前記平均進行方向とは逆方向の前記熱安定化媒体の平均流れ方向を画定しているリソグラフィ装置。 - 前記ダクト構成が、前記熱安定化媒体が流入し、且つ、流出する入口部分及び出口部分をそれぞれ備え、前記入口部分及び出口部分が前記基板サポートの一方の側に互いに隣接して配置され、前記熱安定化媒体を前記入口部分から前記基板サポートの周辺縁を介して前記基板サポートの反対側へダクトで供給するようにダクトが配置された、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記熱安定化媒体が前記基板サポートの一方の側から蛇行回路を介して前記基板サポートの反対側へ流れる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ダクト構成が、半径方向に配向された少なくとも1つのダクトを介して接続された、同心で配置された複数のダクトを備えた、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記熱安定化媒体が前記基板サポートの一方の側から反対側へ流れる、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ダクト構成が、連続する走査軌道に従うレイアウトを備えた、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- パターン化された放射ビームを基板の目標部分に投射するリソグラフィ装置内で、前記基板を支持するための基板サポートであって、
前記基板の次の目標である目標部分の所定の軌道に沿って前記基板を移動させ、
前記基板を熱的に安定させるためのダクト構成を備え、
前記ダクト構成が、熱安定化媒体をダクトで前記基板サポートに供給し、且つ、前記基板の先行する目標部分を支持している前記基板サポート部分を介してパターン化放射ビームを受け取る前記基板の目標部分を支持している前記基板サポートの一部から前記熱安定化媒体を実質的にダクトで除去し、それにより次の目標である目標部分を熱的に安定に維持するようになされ、
前記軌道が、前記基板の前記次の目標部分の平均進行方向を縦軸に沿って画定し、前記ダクト構成が、前記平均進行方向とは逆方向の前記熱安定化媒体の平均流れ方向を画定している基板サポート。 - 前記基板サポートが、前記熱安定化媒体が流入し、且つ、流出する入口部分及び出口部分を備え、前記入口部分及び出口部分が前記基板サポートの一方の側に互いに隣接して配置され、前記熱安定化媒体を前記入口部分から前記基板サポートの周辺縁を介して前記基板サポートの反対側へ直接ダクトで供給するようにダクトが配置された、請求項7に記載の基板サポート。
- 前記冷媒が前記基板サポートの一方の側から蛇行回路を介して前記基板サポートの反対側へ流れる、請求項7に記載の基板サポート。
- リソグラフィ装置を使用したデバイス製造方法であって、
パターン化された放射ビームを基板と熱接触している基板サポートによって支持されている前記基板の目標部分に投射するステップと、
最初の目標部分から最後の目標部分まで所定の軌道に沿って前記基板を移動させるステップであって、前記軌道が前記基板の次の目標部分の平均進行方向を縦軸に沿って画定しているステップと、
次の目標部分を熱的に安定に維持するために、前記平均進行方向とは逆方向の平均流れ方向に熱安定化媒体を前記基板サポートにダクトで供給するステップと、を含む方法。 - リソグラフィ装置を使用したデバイス製造方法であって、
パターン化された放射ビームを基板と熱接触している基板サポートによって支持されている前記基板の目標部分に投射するステップと、
最初の目標部分から最後の目標部分まで所定の軌道に沿って前記基板を移動させるステップと、
次の目標部分を熱的に安定に維持するために、前記軌道の縦軸に沿って画定された平均進行方向とは逆方向の熱安定化媒体の平均流れ方向を画定する前記基板サポート中のダクト構成が、前記基板の先行する目標部分を支持している前記基板サポート部分を介して前記目標部分を支持している前記基板サポートの一部から熱安定化媒体を実質的にダクトで除去するステップと、を含む方法。 - 放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与し、パターン化された放射ビームを形成することができるパターン化デバイスを支持するように構築されたパターン化デバイス・サポートと、
基板を支持するように構築された基板サポートと、
前記パターン化された放射ビームを前記基板の目標部分に投射するようになされた投影システムであって、液浸リソグラフィを提供するために、前記基板と前記投影システムの間に光学液体を提供するようになされた投影システムとを備えた液浸リソグラフィ装置であって、
前記基板サポートが、次の目標である目標部分の所定の軌道に沿って前記基板を移動させるようになされ、
前記基板サポートが、前記基板を熱的に安定させるためのダクト構成を備え、前記ダクト構成が、熱安定化媒体をダクトで前記基板サポートに供給し、且つ、前記基板の先行する目標部分を支持している前記基板サポート部分を介して前記目標部分を支持している前記基板サポートの一部から前記熱安定化媒体を実質的にダクトで除去し、それにより次の目標である目標部分を熱的に安定に維持するようになされ、
前記軌道が、前記基板の前記次の目標部分の平均進行方向を縦軸に沿って画定し、前記基板サポート中の前記ダクト構成が、前記平均進行方向とは逆方向の前記熱安定化媒体の平均流れ方向を画定している液浸リソグラフィ装置。
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