JP4602317B2 - リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびリソグラフィ装置の較正方法 - Google Patents
リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびリソグラフィ装置の較正方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4602317B2 JP4602317B2 JP2006338021A JP2006338021A JP4602317B2 JP 4602317 B2 JP4602317 B2 JP 4602317B2 JP 2006338021 A JP2006338021 A JP 2006338021A JP 2006338021 A JP2006338021 A JP 2006338021A JP 4602317 B2 JP4602317 B2 JP 4602317B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- temperature
- flow rate
- individual
- temperature control
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
それぞれ少なくとも1つの基板を保持するようになされ、かつ、温度制御流体を送るためのコンジットを中に有する複数の基板ホルダと、
実質的に所定の温度の温度制御流体を供給するようになされた流体供給システムと、
複数の基板ホルダのうちの第1の基板ホルダの流量と複数の基板ホルダのうちの第2の基板ホルダの流量が異なるよう、個々の基板ホルダの温度制御流体の流量を制御するようになされた流量コントローラと
を備えている。
基板を保持するようになされた、温度制御流体を送るためのコンジットを内部に有する基板ホルダと、
実質的に所定の温度の温度制御流体を供給するようになされた流体供給システムと、
流体供給システムによって供給される流体をコンジットに到達する前に加熱するようになされた加熱器と、
第1の基板に対する露光の完了と基板ホルダへの第2の基板の装荷との間の期間に温度制御流体を加熱するために加熱器を制御するようになされたコントローラと
を備えている。
個々の基板ホルダに保持された基板を露光している間、実質的に所定の温度の温度制御流体を個々の基板ホルダのコンジットを通して送るステップ
が含まれており、複数の基板ホルダのうちの少なくとも1つの基板ホルダの温度制御流体の流量と他の基板ホルダの流量が異なっている。
個々の基板ホルダの熱応答を測定すること、および、
温度制御流体がそれぞれ所定の流量で個々の基板ホルダを通過する際に、所与の熱負荷の後に、個々の基板ホルダが実質的に同じ時間内に所定の温度に復帰するように、個々の基板ホルダの温度制御流体の流量を決定すること
が含まれている。
Claims (6)
- 所望のパターンの画像を液体を介して基板に投影するためのリソグラフィ装置であって、
それぞれ少なくとも1つの基板を保持するようになされ、かつ、温度制御流体を送るためのコンジットを内部に有する複数の基板ホルダと、
実質的に所定の温度の温度制御流体を前記コンジットに供給するようになされた流体供給システムと、
前記複数の基板ホルダの個々の熱応答を複数の流量に対して測定し、該複数の流量に対して測定した個々の熱応答に基づいて個々の基板ホルダが前記所定の温度に到達するために要する時間が実質的に同じになる流量を決定し、前記液体供給システムから前記個々の基板ホルダの前記コンジットに供給する温度制御流体の流量を制御するようになされた流量コントローラと、を備えた装置。 - 前記個々の基板ホルダの温度制御流体の流量は、いずれも基準流量から20%以内の変化である、請求項1に記載の装置。
- 前記所定の温度が約22℃又は23℃である、請求項1又は請求項2のいずれか一項に記載の装置。
- 前記流体供給システムが、前記所定の温度の約0.02℃以内の温度の温度制御流体を供給するようになされた、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記流体供給システムが、前記所定の温度の約0.05℃以内の温度の温度制御流体を供給するようになされた、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の装置。
- 複数の基板ホルダを有するリソグラフィ装置を使用した、所望のパターンの画像が液体を介して基板に投影されるデバイス製造方法であって、
個々の基板ホルダに保持された基板を露光している間、実質的に所定の温度の温度制御流体を液体供給システムから前記個々の基板ホルダの内部のコンジットに供給することを含み、
前記複数の基板ホルダの個々の熱応答を複数の流量に対して測定し、該複数の流量に対して測定した該個々の熱応答に基づいて個々の基板ホルダが前記所定の温度に到達するために要する時間が実質的に同じになる流量を決定し、前記液体供給システムから前記個々の基板ホルダの前記コンジットに供給する温度制御流体の流量を制御する方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/314,157 US7746447B2 (en) | 2005-12-22 | 2005-12-22 | Lithographic apparatus, device manufacturing method and method of calibrating a lithographic apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007180535A JP2007180535A (ja) | 2007-07-12 |
JP4602317B2 true JP4602317B2 (ja) | 2010-12-22 |
Family
ID=38193239
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006338021A Expired - Fee Related JP4602317B2 (ja) | 2005-12-22 | 2006-12-15 | リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびリソグラフィ装置の較正方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7746447B2 (ja) |
JP (1) | JP4602317B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7656506B2 (en) * | 2004-12-23 | 2010-02-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler |
EP1965414A4 (en) * | 2005-12-06 | 2010-08-25 | Nikon Corp | EXPOSURE METHOD, EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING COMPONENTS |
NL2003341A (en) * | 2008-08-22 | 2010-03-10 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
JP2012048165A (ja) * | 2010-08-30 | 2012-03-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光装置のステージ温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP5598524B2 (ja) * | 2012-10-26 | 2014-10-01 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
CN111830794B (zh) * | 2020-07-15 | 2023-11-28 | 浙江启尔机电技术有限公司 | 光刻机的浸液热效应评价装置、标定装置及其评价方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003079418A1 (fr) * | 2002-03-15 | 2003-09-25 | Nikon Corporation | Aligneur et procede de fabrication de dispositif |
JP2005142283A (ja) * | 2003-11-05 | 2005-06-02 | Nikon Corp | 温調装置及び温調方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2005252247A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-09-15 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4509852A (en) | 1980-10-06 | 1985-04-09 | Werner Tabarelli | Apparatus for the photolithographic manufacture of integrated circuit elements |
EP0357423B1 (en) * | 1988-09-02 | 1995-03-15 | Canon Kabushiki Kaisha | An exposure apparatus |
DE68922061T2 (de) * | 1988-10-03 | 1995-08-31 | Canon Kk | Vorrichtung zum Regeln der Temperatur. |
AU2747999A (en) | 1998-03-26 | 1999-10-18 | Nikon Corporation | Projection exposure method and system |
JPH11307430A (ja) * | 1998-04-23 | 1999-11-05 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法ならびに駆動装置 |
US20050088634A1 (en) | 2002-03-15 | 2005-04-28 | Nikon Corporation | Exposure system and device production process |
KR101945638B1 (ko) | 2004-02-04 | 2019-02-07 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 |
US7440076B2 (en) * | 2005-09-29 | 2008-10-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
-
2005
- 2005-12-22 US US11/314,157 patent/US7746447B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-12-15 JP JP2006338021A patent/JP4602317B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003079418A1 (fr) * | 2002-03-15 | 2003-09-25 | Nikon Corporation | Aligneur et procede de fabrication de dispositif |
JP2005142283A (ja) * | 2003-11-05 | 2005-06-02 | Nikon Corp | 温調装置及び温調方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2005252247A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-09-15 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7746447B2 (en) | 2010-06-29 |
US20070146664A1 (en) | 2007-06-28 |
JP2007180535A (ja) | 2007-07-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10248035B2 (en) | Lithographic apparatus | |
US7525640B2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
EP1653283A2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP2010219545A (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP2008294443A (ja) | エンコーダ型位置センサシステムを有するリソグラフィ装置 | |
JP4602317B2 (ja) | リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびリソグラフィ装置の較正方法 | |
US8411247B2 (en) | Lithographic apparatus and positioning apparatus | |
KR20070110793A (ko) | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
CN111615668A (zh) | 光刻设备、操作方法和器件制造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091029 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091112 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100212 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100413 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100628 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100902 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100929 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131008 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |