JP5295308B2 - ステージ装置およびそのようなステージ装置を備えるリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
1.ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が1回の照射でターゲット部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTもしくは「マスクサポート」および基板テーブルWTもしくは「基板サポート」は、実質的に静止状態とされる(すなわち1回の静的な露光)。そして基板テーブルWTもしくは「基板サポート」がX方向及び/またはY方向に移動されて、異なるターゲット部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズによって、1回の静的露光で結像されるターゲット部分Cの寸法が制限されることになる。
2.スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTもしくは「マスクサポート」および基板テーブルWTもしくは「基板サポート」は、同期して走査される(すなわち1回の動的な露光)。パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTもしくは「マスクサポート」に対する基板テーブルWTもしくは「基板サポート」の速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)特性及び像反転特性により定められる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが1回の動的露光でのターゲット部分Cの(非走査方向の)幅を制限し、走査移動距離がターゲット部分の(走査方向の)長さを決定する。
3.その他のモードにおいては、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTもしくは「マスクサポート」はプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、基板テーブルWTもしくは「基板サポート」が移動またはスキャンされる。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、スキャン中、基板テーブルWTもしくは「基板サポート」が移動する毎に、あるいは連続する放射パルス間に、必要に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、上述したタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用しているマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (8)
- 対象を位置決めするためのステージ装置であって、本ステージ装置は、
前記対象を保持するよう構成されたテーブルと、
前記テーブルを支持するよう構成されたサポート構造と、を備え、
前記テーブルは前記サポート構造に対して変位可能であり、前記サポート構造は第1データクロックおよび第2データクロックのうちの一方を備え、前記テーブルは前記第1データクロックおよび前記第2データクロックのうちの他方を備え、
本ステージ装置はさらに、
前記第1データクロックと前記第2データクロックとを同期させるよう構成された回路を備え、前記回路は送信器および受信器を含み、前記送信器は前記第1データクロックから前記第2データクロックへクロック信号データを無線送信するよう構成され、
前記回路はさらに、
無線送信され前記受信器によって受信されたクロック信号データから、前記第2データクロックを前記第1データクロックと同期させるよう構成された同期回路を含み、
前記送信器および受信器は、
第1伝送経路を提供するよう構成された第1送信器および第1受信器と、
第2伝送経路を提供するよう構成された第2送信器および第2受信器と、を含み、
前記第1伝送経路および前記第2伝送経路はそれぞれ第1方向に沿って逆向きに伸びる、ステージ装置。 - 前記同期回路は、
前記第1受信器および前記第2受信器によって受信されたクロック信号データを混合するよう構成されたミキサと、
混合されたクロック信号データの第2高調波部分を選択するよう構成されたハイパスフィルタと、を含む、請求項1に記載のステージ装置。 - 前記同期回路は、
前記第1受信器および前記第2受信器によって受信されたクロック信号データを混合するよう構成されたミキサと、
混合されたクロック信号データの実質的に一定な信号部分を選択するよう構成されたローパスフィルタと、を含む、請求項1または2に記載のステージ装置。 - 前記第1方向は前記テーブルの移動方向である、請求項1から3のいずれかに記載のステージ装置。
- 前記対象は放射感応性材料でコーティングされた基板である、請求項1に記載のステージ装置。
- 前記対象は放射ビームにパターンを付与するよう構成されたパターニングデバイスである、請求項1に記載のステージ装置。
- パターニングデバイスから基板上へパターンを転写するよう構成されたリソグラフィ装置であって、請求項1から6のいずれかに記載のステージ装置を備えるリソグラフィ装置。
- 前記ステージ装置はパターニングデバイスステージまたは基板ステージである、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
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