JP2008300477A

JP2008300477A - 信号伝達方法、露光装置の診断方法、装置及び露光装置

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Publication number: JP2008300477A
Application number: JP2007143015A
Authority: JP
Inventors: Akimitsu Ebihara; 明光蛯原
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2007-05-30
Filing date: 2007-05-30
Publication date: 2008-12-11

Abstract

【課題】露光装置における配線の数を減らす。
【解決手段】ウエハＷを露光して所定のパターンを形成する露光装置１００は、複数のセンサからの信号を振動波に変換して装置本体ＢＤに伝播させる信号伝達装置６１と、信号伝達装置６１から離れた位置で、ボディＢＤを介して伝達された前記振動波を検出する加速度センサ６０とを備えている。これにより、配線をすることなく、センサからの信号を加速度センサに伝達することができるため、配線の数を大幅に減らすことができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、信号伝達方法、露光装置の診断方法、装置及び露光装置に係り、更に詳しくは、センサからの信号を伝達する信号伝達方法、該信号伝達方法を利用して露光装置の一部を構成する構造物の異常を診断する診断方法、前記信号伝達方法又は診断方法の実施に好適な装置、前記信号伝達方法の実施に好適な露光装置に関する。

半導体素子（集積回路等）、液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆるステッパ）、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが、主として用いられている。

ところで、半導体素子等は、次第に高集積化し、これに伴ってデバイスルール（実用最小線幅）が微細化している。このデバイスルールの微細化に伴い、半導体素子などの製造装置である露光装置にも、解像力の向上と共に、いわゆる重ね合わせ精度の向上が要請されるようになってきた。

重ね合わせ精度の向上の１つの要因として、例えばスキャナの場合、レチクルを保持するレチクルステージとウエハ等の基板を保持する基板ステージとの同期精度の向上が挙げられる。この同期精度の向上のためには、レチクルステージ、基板ステージそれぞれの位置制御精度の向上とともに、例えば投影光学系などに対する除振性能の向上も重要である。このため、投影光学系に対する外部からの振動を絶縁する除振装置（アクティブ防振装置など）が採用されている（例えば、特許文献１参照）。

しかしながら、スキャナなどの露光装置には、各種のアクチュエータやセンサ類が多数組み込まれており、これらに対する電力の供給及び／又はこれらと制御装置との間の電気的な接続のために多数の配線が用いられている。また、レチクルステージ及び基板ステージには、真空吸引力を利用してレチクル等を保持するバキュームチャック（ホルダ）が設けられ、ホルダを各ステージに対して真空吸着によって固定することも行われている。このため、真空配管系が各ステージに接続されている。さらに、発熱部である投影光学系やリニアモータ等のアクチュエータの冷却が冷媒を用いて行われている。このため、冷媒の供給のための冷却配管系が、各発熱部に接続されている。

このように、露光装置では、多くの配線や、配管が各部に接続されており、これらの配線・配管類が原因で、重ね合わせ精度を思うように向上させることができないというのが現状である。すなわち、各ステージなどの可動部では、配管・配線類に作用する張力がその可動部の位置制御性を低下させる要因となる。また、露光が行われる露光装置本体は、温度、圧力等が高精度に管理されたチャンバ内に収容されているが、装置の大型化を防止するために、チャンバの内容積は極力小さくなるように設定されている。このため、露光装置本体とチャンバとの隙間は非常に狭く、この狭い隙間に上述の配線・配管類が配置される結果、チャンバそのものの振動、あるいはチャンバを介して伝達される防振されていない部材の振動が、除振台に支持されている本体フレームに伝わり、本体フレームに保持されている投影光学系の振動要因となることがあった。

本発明は、第１の観点からすると、センサからの信号を伝達する信号伝達方法であって、所定周波数の搬送波信号を発生し、前記センサからの信号を用いて前記搬送波に変調を加えた変調信号を生成する工程と；前記変調信号を構造物に取付けられた電気−機械変換部に与えて振動波を発生させる工程と；を含む信号伝達方法である。

これによれば、センサからの信号を構造物を介して伝達することができるため、配線の数を減らすことが可能となる。

本発明は、第２の観点からすると、物体を露光して所定のパターンを形成する露光装置の診断方法であって、所定周波数の高周波信号を、露光装置本体の少なくとも一部を構成する構造物に取付けられた電気−機械変換部に与えて振動波を発生させる工程と；前記構造物を介して伝達された前記振動波を、前記電気−機械変換部から離れた位置でピックアップを用いて検出する工程と；を含む露光装置の診断方法である。

ここで、構造物とは、電気−機械変換部が取付けられた物の他、その物に接続された物をも含む。

これによれば、通常運転中に露光装置本体などで発生する振動の周波数とは確実に区別可能な高周波の振動波を用いているため、露光装置の運転中に何らの支障なく、露光装置の診断を行うことが可能となる。

本発明は、第３の観点からすると、物体を露光して所定のパターンを形成する露光装置であって、少なくとも一部に構造物を含む装置本体と；前記構造物に取付けられ、所定周波数の高周波信号の入力により振動波を発生する電気−機械変換部と；前記構造物を介して伝達された前記振動波を、前記電気−機械変換部から離れた位置で検出するピックアップと；を備える露光装置である。

これによれば、通常運転中に装置本体などで発生する振動の周波数とは確実に区別可能な高周波の振動波を用いているため、露光装置の運転中に何らの支障なく、構造物を介して伝達された、電気−機械変換部で発生した振動波を検出することが可能となる。

本発明は、第４の観点からすると、少なくとも一部に構造物を含む装置本体と；少なくとも１つのセンサと；前記センサからの信号を振動波に変換して前記構造物に伝播する変換部と；前記変換部から離れた位置で、前記構造物を介して伝達された前記振動波を検出するピックアップと；を備える装置である。

これによれば、配線をすることなく、センサからの信号をピックアップに伝達することができるため、配線の数を減らすことが可能となる。

本発明は、第５の観点からすると、物体を露光して所定のパターンを形成する露光装置であって、少なくとも一部に構造物を含む装置本体と；少なくとも１つのセンサと；前記センサからの信号を振動波に変換して前記構造物に伝播させる変換部と；前記変換部から離れた位置で、前記構造物を介して伝達された前記振動波を検出するピックアップと；を備える露光装置である。

以下、本発明の一実施形態を図１〜図１０に基づいて説明する。

図１には、一実施形態に係る露光装置１００の概略構成が示されている。この露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわちいわゆるスキャナである。後述するように本実施形態では、投影光学系ＰＬが設けられており、以下においては、この投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと平行な方向をＺ軸方向、これに直交する面内でレチクルとウエハとが相対走査される方向をＹ軸方向、Ｚ軸及びＹ軸に直交する方向をＸ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。

露光装置１００は、照明光（露光光）ＩＬによりレチクルＲを照明する照明系、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、投影ユニットＰＵ、ウエハステージ装置、レチクルステージＲＳＴ及び投影ユニットＰＵなどが搭載されたボディＢＤ、及びこれらの制御系等を備えている。

前記照明系は、光源（不図示）と、第１照明ユニットＩＬＵ１及び第２照明ユニットＩＬＵ２を有する照明光学系ＩＯＰとを含む。

光源として、一例として、ＡｒＦエキシマレーザ（発振波長１９３ｎｍ）、又はＫｒＦエキシマレーザ（発振波長２４８ｎｍ）などのレーザ光源が使用されている。

第１照明ユニットＩＬＵ１は、例えば光軸調整用の光学系（ビームマッチングユニット）をその一部に含む送光光学系（不図示）を介して、床下のユーティリティスペース内に配置される不図示の光源と光学的に接続される。

第２照明ユニットＩＬＵ２は、例えばビームスプリッタ、光量センサ、レチクルブラインド系、及びリレー光学系（ミラー及び結像レンズ系を含む）など（いずれも不図示）を有している。第２照明ユニットＩＬＵ２のハウジングの入射端が、第１照明ユニットＩＬＵ１のハウジングの射出端の上面に物理的に固定されている。また、この第２照明ユニットＩＬＵ２のハウジングは、後述する第２コラム上に固定された不図示の支持部材によっても支持されている。

従って、露光装置１００では、光源からの照明光（露光光）ＩＬが送光光学系によって照明光学系ＩＯＰに導かれ、照明光ＩＬが照明光学系ＩＯＰによってレチクルＲ上に均一な照度分布で照射されると共に、レチクルＲ上にはレチクルブラインド系の開口の像が結像される。この場合、レチクルＲ上での照明光ＩＬの照射領域（照明領域）は、レチクルブラインド系によって規定され、本実施形態では非走査方向であるＸ軸方向に細長い形状となる。

レチクルステージＲＳＴは、後述する第２コラムの天板を構成するレチクルベース３６上に、その底面に設けられた不図示のエアベアリングなどによって、例えば数μｍ程度のクリアランスを介して非接触で支持されている。レチクルベース３６としては、本実施形態では、ステンレスに比べて比剛性（剛性／密度）が高い素材、例えば鋳鉄又はセラミックスを素材とするものが用いられている。

レチクルステージＲＳＴは、ここでは、リニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系１２（図１では不図示、図２参照）により、ＸＹ平面内で２次元的に（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向に）微動可能であるとともに、レチクルベース３６上を所定の走査方向（ここでは、図１における紙面左右方向であるＹ軸方向）に指定された走査速度で駆動可能となっている。レチクルステージＲＳＴ上に、回路パターン等が形成されたレチクルＲが、不図示の吸着機構、例えばバキュームチャックによって真空吸着されている。なお、レチクルステージＲＳＴは、周知の粗微動構造としても良く、その構造は本実施形態（図１）に限定されるものではない。

レチクルステージＲＳＴの位置ＸＹ平面（移動面）内の情報は、レチクルステージＲＳＴの端部に固定された移動鏡２１（実際には、Ｘ軸方向に直交する反射面を有するＸ移動鏡と、Ｙ軸方向に直交する反射面を有するＹ移動鏡とが設けられている）を介して、レチクル干渉計システム２２によって、例えば０．５ｎｍ程度の分解能で計測される。レチクル干渉計システム２２は、実際には、図２に示されるように、レチクルＸ干渉計２２Ｘ及びレチクルＹ干渉計２２Ｙを含む。レチクルＸ干渉計２２Ｘは、投影ユニットＰＵの側面に固定されたＸ固定鏡の反射面を基準とするＸ移動鏡の反射面の位置情報をレチクルステージＲＳＴのＸ位置として計測する。同様に、レチクルＹ干渉計２２Ｙは、投影ユニットＰＵの側面に固定されたＹ固定鏡の反射面を基準とするＹ移動鏡の反射面の位置情報をレチクルステージＲＳＴのＹ位置として計測する。このように、移動鏡、固定鏡、及び干渉計は、実際にはそれぞれＸ軸用とＹ軸用とがあるが、図１では、これらが代表して、移動鏡２１、固定鏡２４、レチクル干渉計システム２２として図示されている。

ここで、例えばレチクルＹ干渉計２２Ｙは、測長軸を２軸有する２軸干渉計であり、レチクルＹ干渉計２２Ｙの出力信号に基づいて、レチクルステージＲＳＴのθｚ回転も計測可能である。レチクルＸ干渉計２２Ｘ及びレチクルＹ干渉計２２Ｙの出力信号は、主制御装置２０（図２参照）に供給される。そして、主制御装置２０は、レチクルＸ干渉計２２Ｘ及びレチクルＹ干渉計２２Ｙの出力信号に基づいて、レチクルステージ駆動系１２を制御することで、レチクルステージＲＳＴのＸＹ面内の位置（及び速度）を制御する。

ボディＢＤは、クリーンルームの床面Ｆ上に設置されたフレームキャスタ上に設けられた第１コラムＢＤ１と、第１コラムＢＤ１の上に固定された第２コラムＢＤ２とを備えている。

前記フレームキャスタは、床面Ｆ上に水平に置かれたベースプレートＢＳと、該ベースプレートＢＳ上に固定された複数本、例えば３本（又は４本）の脚部３９（但し、図１における紙面奥側の脚部は図示省略）とを備えている。

第１コラムＢＤ１は、複数本の脚部３９それぞれの上端に個別に固定された複数、例えば３つ（又は４つ）の第１の除振装置３４によって、ほぼ水平に支持された鏡筒定盤（メインフレーム）３８を備えている。本実施形態では、鏡筒定盤３８として、鋳鉄製のものが用いられている。

鏡筒定盤３８上には、３つの加速度センサ６０（但し、図１における紙面奥側の加速度センサは図示省略）が、３つの第１の除振装置３４それぞれの近傍に固定されている。各加速度センサ６０は、それぞれＺ軸方向とＸＹ面内の所定の一軸方向とに関して第１コラムＢＤ１の振動を検出することができる。３つの加速度センサ６０の出力信号は、主制御装置２０内部の加速度情報処理装置７０（図７参照）にそれぞれ供給される。図２には、複数の加速度情報処理装置７０が、加速度情報処理装置群（７０）として図示されている。主制御装置２０は、鏡筒定盤３８上の３つの加速度センサ６０の出力に基づいて第１コラムＢＤ１（ボディＢＤ）の６自由度方向の振動情報を検出することができる。

第１の除振装置３４としては、エアマウントとボイスコイルモータなどのアクチュエータとを備えるアクティブ除振装置が用いられている。この場合、各第１の除振装置３４は、Ｚ軸方向及びＸＹ面内の所定の一軸方向に関して、第１コラムＢＤ１を駆動するようになっており、３つの第１の除振装置３４によって、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、θｘ方向、θｙ方向及びθｚ方向の６自由度方向について、第１コラムＢＤの位置・姿勢を制御することが可能である。３つの第１の除振装置３４をそれぞれ構成する複数のアクチュエータが、前述のボディＢＤの６自由度の振動情報に基づいて、主制御装置２０によって制御される。図２には、この複数のアクチュエータを含む多数のアクチュエータが、アクチュエータ群２００として示されている。このように、本実施形態では、３つの加速度センサ６０と、３つの第１の除振装置３４とによって、ボディＢＤの６自由度方向の位置・姿勢を制御するアクティブ防振装置が構成されている。このアクティブ防振装置によって、レチクルベース３６、脚４１、及び鏡筒定盤３８を含む構造物、すなわちボディＢＤは、３つの第１の除振装置３４を介して外部からの振動が絶縁されている。

なお、３つの第１の除振装置３４のうち、少なくとも１つとして、Ｚ軸方向にのみ第１コラムＢＤ１を駆動する除振装置を用いても良い。この場合には、３つの加速度センサ６０と、３つの第１の除振装置３４とによって、水平面内以外の３自由度方向を含む少なくとも３自由度方向に関して第１コラムＢＤの位置・姿勢を制御するアクティブ防振装置が構成される。

鏡筒定盤３８には、そのほぼ中央部に不図示の円形開口が形成され、この円形開口内に投影ユニットＰＵが上方から挿入され、その外周部に設けられたフランジＦＬＧを介して保持されている。投影ユニットＰＵは、円筒状でその外周部の下端部近傍にフランジＦＬＧが設けられた鏡筒４０と、該鏡筒４０に保持された複数の光学素子を含む投影光学系ＰＬ（これについては、後述する）とを含む。鏡筒４０及びフランジＦＬＧは、セラミックスに比べて比剛性の高い素材、例えば鋳鉄又はインバーなどから成るものが用いられている。

鏡筒定盤３８の上面には、投影ユニットＰＵを取り囲む位置に、複数本、例えば３本の脚４１（但し、図１における紙面奥側の脚は図示省略）の一端（下端）が固定されている。これらの脚４１それぞれの他端（上端）面は、ほぼ同一の水平面上にあり、これらの脚４１それぞれの上端面に前述のレチクルベース３６の下面が固定されている。すなわち、レチクルベース３６とこれを支持する複数本の脚４１とによって第２コラムＢＤ２が構成されている。レチクルベース３６には、その中央部に照明光ＩＬの通路となる開口３６ａが形成されている。脚４１として、例えば鋳鉄製のものが用いられている。

前記ウエハステージ装置は、ベースプレートＢＳ上に配置された複数（例えば３つ又は４つ）の第２の除振装置４２によってほぼ水平に支持されたステージベース１４、該ステージベース１４の上面の上方に配置されたウエハステージＷＳＴ、該ウエハステージＷＳＴを駆動するウエハステージ駆動系４４（図１では不図示、図２参照）等を備えている。

ステージベース１４は、定盤とも呼ばれる、セラミックス又は鋳鉄製の板状部材からなり、その上面は平坦度が非常に高く仕上げられ、ウエハステージＷＳＴの移動の際のガイド面とされている。

ステージベース１４上には、３つの加速度センサ６０（但し、図１では、そのうちの１つのみ図示）が、３つの第２の除振装置４２それぞれの近傍に固定されている。各加速度センサ６０は、それぞれＺ軸方向とＸＹ面内の所定の一軸方向とに関してステージベース１４の振動を検出することができる。３つの加速度センサ６０の出力信号は、後述する加速度情報処理装置７０をそれぞれ介して主制御装置２０に供給される（図２参照）。主制御装置２０は、ステージベース１４上の３つの加速度センサ６０の出力に基づいて加速度情報処理装置７０で検出される、ステージベース１４上の振動情報（後述するゆれ情報）に基づいて、ステージベース１４の６自由度方向の振動情報を検出することができる。

各第２の除振装置４２は、第１の除振装置３４と同様に構成され、３つの第２の除振装置４２をそれぞれ構成する複数のアクチュエータが、主制御装置２０によって制御される。従って、３つの加速度センサ６０と、３つの第２の除振装置４２とによって、ステージベース１４の６自由度方向の位置・姿勢を制御するアクティブ防振装置が構成されている。この場合においても、３つの第２の除振装置４２のうち、少なくとも１つとして、Ｚ軸方向にのみを駆動する除振装置を用いることで、３つの加速度センサ６０と、３つの第１の除振装置４２とによって、水平面内以外の３自由度方向を含む少なくとも３自由度方向に関してステージベース１４の位置・姿勢を制御するアクティブ防振装置を構成しても良い。

前記ウエハステージＷＳＴは、リニアモータ、ボイスコイルモータ等を含むウエハステージ駆動系４４によって、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、θｘ方向、θｙ方向及びθｚ方向の６自由度方向に駆動される。

なお、ウエハステージＷＳＴとして、上記６自由度ステージに代えて、例えばリニアモータ等によりＸＹ平面内で駆動されるウエハステージ本体と、該ウエハステージ本体上でボイスコイルモータなどにより少なくともＺ軸方向、θｘ方向、及びθｙ方向の３自由度方向に微小駆動されるウエハテーブルとを備えたものを採用しても良い。

ウエハステージＷＳＴ上には、不図示のウエハホルダを介してウエハＷが載置され、例えば真空吸着（又は静電吸着）などによって固定されている。

ウエハステージＷＳＴの位置情報は、ウエハステージＷＳＴ上に固定された移動鏡１７（実際には、Ｘ軸方向に直交する反射面を有するＸ移動鏡と、Ｙ軸方向に直交する反射面を有するＹ移動鏡とが設けられている）を介して、ウエハ干渉計システム４６によって、例えば０．５ｎｍ程度の分解能で計測される。ウエハ干渉計システム４６は、実際には、図２に示されるように、ウエハＸ干渉計４６Ｘ及びウエハＹ干渉計４６Ｙを含む。

ウエハＸ干渉計４６Ｘは、投影光学系ＰＬの光軸を通るＸ軸に平行な測長軸を有し、鏡筒４０の側面に固定されたＸ固定鏡の反射面を基準とするＸ移動鏡の反射面の位置情報をウエハステージＷＳＴのＸ位置として計測する。ウエハＹ干渉計４６Ｙは、投影光学系ＰＬの光軸を通るＹ軸に平行な測長軸を有し、鏡筒４０の側面に固定されたＹ固定鏡の反射面を基準とするＹ移動鏡の反射面の位置情報をウエハステージＷＳＴのＹ位置として計測する。このように、移動鏡、固定鏡、及び干渉計は、実際にはそれぞれＸ軸用とＹ軸用とがあるが、図１では、これらが代表して、移動鏡１７、固定鏡１８、ウエハ干渉計システム４６として図示されている。

ここで、ウエハＸ干渉計４６Ｘ及びウエハＹ干渉計４６Ｙは、共に測長軸を多数有する多軸干渉計であり、これらの干渉計４６Ｘ，４６Ｙの計測値に基づいて、ウエハステージＷＳＴの回転（θｚ方向、θｙ方向及びθｘ方向の回転）も計測可能である。ウエハＸ干渉計４６Ｘ及びウエハＹ干渉計４６Ｙの出力信号は、いずれも主制御装置２０に供給される。主制御装置２０は、ウエハＸ干渉計４６Ｘ及びウエハＹ干渉計４６Ｙの出力信号に基づいて、ウエハステージ駆動系４４を制御する。

本実施形態の露光装置１００では、不図示ではあるが、例えば特開平６−２８３４０３号公報（対応する米国特許第５，４４８，３３２号明細書）等に開示されるものと同様の照射系と受光系とから成る斜入射方式の多点焦点位置検出系が設けられている。この多点焦点位置検出系により、ウエハＷ表面のＺ軸方向の位置情報（面位置情報）が複数の検出点で検出され、この検出信号に基づいて、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴを制御して、いわゆるフォーカスレベリング制御を行うようになっている。

投影光学系ＰＬとしては、例えばＺ軸方向の共通の光軸ＡＸを有する複数のレンズ（レンズエレメント）から成る屈折光学系が用いられている。この投影光学系ＰＬは、例えば両側テレセントリックで所定の投影倍率（例えば１／４倍又は１／５倍）を有する。このため、照明系からの照明光ＩＬによって照明領域が照明されると、投影光学系ＰＬの第１面（物体面）とパターン面がほぼ一致して配置されるレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬを介してその照明領域内のレチクルの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が、その第２面（像面）側に配置される、表面にレジスト（感光剤）が塗布されたウエハＷ上の前記照明領域に共役な領域（露光領域）に形成される。

そして、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとの同期駆動によって、照明領域（照明光ＩＬ）に対してレチクルＲを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動するとともに、露光領域（照明光ＩＬ）に対してウエハＷを走査方向に相対移動することで、ウエハＷ上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系、レチクルＲ及び投影光学系ＰＬによってウエハＷ上にパターンが生成され、照明光ＩＬによるウエハＷ上の感応層（レジスト層）の露光によってウエハＷ上にそのパターンが形成される。

図２には、露光装置１００の制御系の構成が示されている。制御系は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）、ＲＯＭ（リード・オンリ・メモリ）、ＲＡＭ（ランダム・アクセス・メモリ）等から成るいわゆるマイクロコンピュータ（又はワークステーション）を含み、装置全体を統括して制御する主制御装置２０を中心として構成されている（図２参照）。

上述のようにして構成された露光装置１００では、照明系からのレチクルＲへの照明光ＩＬの照射を開始し、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとをＹ軸方向に同期して移動（同期走査）する走査露光動作によって、ウエハＷ上の１つのショット領域にレチクルＲのパターン像を転写する。この走査露光動作では、主制御装置２０が、レチクルステージ駆動系とウエハステージ駆動系とを用いて、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴの駆動を制御する。その後、主制御装置２０は、照明光ＩＬの照射を停止して、ウエハステージＷＳＴを介してウエハＷをＸＹ面内でステップ移動する動作と、上記の走査露光動作とを繰り返す。このようにして、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷ上の複数のショット領域にレチクルＲのパターン像が転写される。

ところで、露光装置１００には、リミットセンサ、温度センサ、流量計、圧力センサ、リニアスケール、及び光電センサなどの複数のセンサがそれぞれ所定位置に配置されている。例えば、ステージＲＳＴ、ＷＳＴその他の可動部には、可動域を制限するリミットスイッチ（リミットセンサ）が少なくとも２箇所に設けられている。また、投影ユニットＰＵ及びリニアモータその他の各アクチュエータなどの各発熱部には、冷却用の配管が設けられ、この配管には、流量計及び温度センサなどが設けられている。また、エアベアリングには、加圧空気が供給されるが、この供給系の一部には、圧力センサが設けられている。また、各バキュームチャックには、真空配管が接続されるが、この真空配管にも圧力センサが設けられる。その他、投影光学系ＰＬの一部のレンズはアクチュエータによって可動なレンズであるが、このレンズの位置を計測するのに比較的応答が遅いリニアスケールが用いられている。また、前述の多点焦点位置検出系、及びその他の計測装置の受光系には受光素子（光電センサ）が設けられている。

そして、各センサからの情報を振動によって伝達する信号伝達装置６１が複数設けられている。図１では、レチクルベース３６、鏡筒４０及びステージベース１４に、信号伝達装置６１がそれぞれ設けられている。なお、これら以外の位置に信号伝達装置６１が設けられても良い。

信号伝達装置６１としては、センサの特性に応じて、２種類の信号伝達装置（６１Ａ、６１Ｂ）が用いられる（図３、図４参照）。

信号伝達装置６１Ａは、例えばリミットセンサのように、センサ出力の変化が単純な場合に用いられ、一例として図３に示されるように、搬送波生成回路６１ａ、変調回路６１ｂ、駆動回路６１ｃ、診断信号生成回路６１ｄ、及びピエゾ素子６１ｅなどを有している。なお、ここでは、ｎ個のセンサ（センサＡ₁、センサＡ₂、……、センサＡ_n）が接続されているものとする。

搬送波生成回路６１ａは、周波数が５ＫＨｚ以上３０ＫＨｚ未満の搬送波を生成する。ここでは、センサ出力が重畳される１種類の搬送波が生成される。この搬送波の周波数（振動数）の周波数帯は、ボディＢＤの固有振動数、ステージベース１４の固有振動数などと、大きく異なる。

変調回路６１ｂは、搬送波生成回路６１ａからの搬送波を各センサの出力信号に応じて変調し変調信号を生成する。ここでは、搬送波を時間的にｎ個の領域に分割し、ｉ番目の領域をセンサＡ_i（ｉ＝１〜ｎ）の出力信号に応じて順次変調する。従って、各センサの出力信号はいわゆるシリアルデータとなり、変調回路６１ｂからは１つの変調信号が出力される。なお、変調方式は、限定されるものではなく、例えば、ＡＭ変調、ＦＭ変調、あるいは位相変調などのいずれの方式であっても良い。

診断信号生成回路６１ｄは、５ＫＨｚ以上３０ＫＨｚ未満で搬送波と異なる周波数の診断信号を生成する。

駆動回路６１ｃは、変調回路６１ｂからの変調信号に応じてピエゾ素子６１ｅを駆動する駆動信号を生成する。また、駆動回路６１ｃは、診断信号生成回路６１ｄからの診断信号に応じてピエゾ素子６１ｅを駆動する駆動信号を生成する。これらの駆動信号は、所定のタイミングで個別に出力される。

ピエゾ素子６１ｅは、駆動回路６１ｃからの駆動信号に応じて振動する。これにより、振動波が発生し、信号伝達装置６１Ａが取付けられている構造物（第１コラムＢＤ１、鏡筒４０、及びステージベース１４など）の内部を伝播される。

信号伝達装置６１Ｂは、例えばリニアスケールなどのように、センサの出力信号が短い周期で変化する場合に用いられ、一例として図４に示されるように、搬送波生成回路６１ａ’、変調回路６１ｂ’、駆動回路６１ｃ’、診断信号生成回路６１ｄ、及びピエゾ素子６１ｅなどを有している。なお、ここでは、ｍ個のセンサ（センサＢ₁、センサＢ₂、……、センサＢ_m）が接続されているものとする。

搬送波生成回路６１ａ’は、周波数が５ＫＨｚ以上３０ＫＨｚ未満の搬送波を生成する。ここでは、各センサに対応して互いに周波数が異なるｍ個（ｆ₁、ｆ₂、……、ｆ_m）の搬送波が生成される。

変調回路６１ｂ’は、搬送波生成回路６１ａ’からの各搬送波を対応するセンサの出力に応じてそれぞれ変調し変調信号を生成する。従って、各センサの出力信号はいわゆるパラレルデータとなり、変調回路６１ｂ’からはｍ個の変調信号が出力される（図５参照）。図５には、３つの周波数に対応する変調信号ｙ₁、ｙ₂、ｙ₃が示されている。この３つの変調信号では、元となる搬送波の周波数は、ｙ₃が最も低く、ｙ₂が中間で、ｙ₁が最も高い。

駆動回路６１ｃ’は、変調回路６１ｂ’からの各変調信号に応じてピエゾ素子６１ｅを駆動する駆動信号を生成する。ここでは、ｍ個の変調信号が重畳されて、駆動信号が生成される（図６参照）。この図６は、図５の３つの変調信号ｙ₁、ｙ₂、ｙ₃が重畳された駆動信号を示す。また、駆動回路６１ｃ’は、診断信号生成回路６１ｄからの診断信号に応じてピエゾ素子６１ｅを駆動する駆動信号を生成する。これらの駆動信号は、所定のタイミングで個別に出力される。

なお、搬送波及び診断信号の周波数は、予め設定されており、信号伝達装置毎に異なっている。また、搬送波と診断信号は、互いに異なる周波数帯が割り当てられている。従って、振動波の周波数によってセンサを特定することが可能である。また、振動波の周波数によってセンサ情報であるか診断情報であるかを判別することが可能である。

また、リミットセンサ、温度センサ、流量計、圧力センサ、リニアスケール、及び光電センサの応答周波数は、５ＫＨｚよりも低い。

また、露光装置１００には、前述の如く、複数の加速度センサ６０が所定位置に配置されている。本実施形態では、各加速度センサ６０をピックアップとして用い、信号伝達装置６１による振動波を検出する。例えば、レチクルベース３６に設けられている信号伝達装置６１による振動波は、レチクルベース３６、脚４１、及び鏡筒定盤３８を介して、鏡筒定盤３８に取付けられている３つの加速度センサ６０で検出される（図１の太線矢印参照）。また、投影ユニットＰＵの鏡筒４０に設けられている信号伝達装置６１による振動波は、鏡筒４０及び鏡筒定盤３８を介して、鏡筒定盤３８に取付けられている３つの加速度センサ６０で検出される（図１の太線矢印参照）。また、ステージベース１４の側面に設けられている信号伝達装置６１による振動波は、ステージベース１４の上面に取付けられている加速度センサ６０で検出される。各加速度センサ６０の出力信号は、主制御装置２０に供給される。

主制御装置２０は、各加速度センサ６０の出力信号を個別に解析する複数の加速度情報処理装置７０を有している。各加速度情報処理装置７０は、図７に示されるように、ローパスフィルタ７０ａ、２つのバンドパスフィルタ７０ｂ，７０ｃ、ゆれ検出装置７０ｄ、センサデータ検出装置７０ｅ、及び診断データ検出装置７０ｆを備えている。

ローパスフィルタ７０ａは、加速度センサ６０の出力信号に含まれる、信号伝達装置６１による振動波の周波数よりも小さな周波数（例えば、１００Ｈｚ）をカットオフ周波数とするローパスフィルタである。

バンドパスフィルタ７０ｂは、加速度センサ６０の出力信号に含まれる、信号伝達装置６１における搬送波の周波数帯よりも低い周波数の信号及び高い周波数の信号をカットするフィルタである。

バンドパスフィルタ７０ｃは、加速度センサ６０の出力信号に含まれる、信号伝達装置６１における診断信号の周波数帯よりも低い周波数の信号及び高い周波数の信号をカットするフィルタである。

ゆれ検出装置７０ｄは、ローパスフィルタ７０ａを介した信号に基づいて、信号伝達装置６１が設けられ、加速度センサ６０が取付けられた構造物、例えば第１コラムＢＤ１、ステージベース１４などのゆれ情報を抽出する。主制御装置２０は、さらにこのゆれ情報に基づいて、対応する駆動系（アクチュエータ）を制御する。

センサデータ検出装置７０ｅは、図８に示されるように、復調回路７０ｅ１及びデータ抽出回路７０ｅ２を有している。復調回路７０ｅ１は、バンドパスフィルタ７０ｂを介した信号を復調する（図９参照）。この図９は、前述の図６の駆動信号に対応する、バンドパスフィルタ７０ｂを介した信号を復調した結果を示す。

復調回路７０ｅ１は、振動波が信号伝達装置６１Ａで発生されているときは、所定の周期でサンプリングを行い、サンプリングデータ毎に復調処理を行う。また、復調回路７０ｅ１は、振動波が信号伝達装置６１Ｂで発生されているときは、例えばフーリエ変換を行い、周波数毎の信号強度を求める（図９参照）。

データ抽出回路７０ｅ２は、復調された信号からセンサデータを抽出する。ここでは、データ抽出回路７０ｅ２は、振動波が信号伝達装置６１Ａで発生されているときは、ｉ番目の復調信号からセンサＡ_iのセンサデータを順次抽出する。また、データ抽出回路７０ｅ２は、振動波が信号伝達装置６１Ｂで発生されているときは、周波数ｆ_jの信号強度からセンサＢ_j（ｊ＝１〜ｍ）のセンサデータをそれぞれ抽出する。主制御装置２０は、さらに各センサデータに応じて所定の処理を行う。

診断データ検出装置７０ｆは、図１０に示されるように、比較回路７０ｆ１及びメモリ７０ｆ２を有している。比較回路７０ｆ１は、バンドパスフィルタ７０ｃを介した信号とメモリ７０ｆ２に格納されているモデル信号とを比較し、比較結果（例えば、差分情報）を出力する。主制御装置２０は、さらにこの比較結果に基づいて、異常の有無を判別し、異常のときにはその内容（例えば、減衰特性、振動又はノイズなどによる異常音、音響ノイズ、ボルトのゆるみなど）を特定するとともに、互いに異なる位置に配置されている複数の信号伝達装置６１による上記比較結果を用いて異常個所を特定する。そして、主制御装置２０は、異常内容及び異常個所に応じて所定の処理を行う。例えば、主制御装置２０は、異常内容及び異常個所を表示装置３００に表示する、あるいはネットワーク４００を介して外部に通知する（図２参照）。なお、露光処理中に、バンドパスフィルタ７０ｃを介した信号を露光処理前のバンドパスフィルタ７０ｃを介した信号と比較しても良い。これにより、露光処理に伴う異常（例えば、異常接触など）を検知することができる。

以上説明したように、本実施形態の露光装置１００によると、周波数が５ＫＨｚ以上３０ＫＨｚ未満の搬送波を生成する搬送波生成回路（６１ａ又は６１ａ’）、センサ（Ａi（ｉ＝１〜ｎ）又はＢj（ｊ＝１〜ｍ））からの信号に応じて搬送波を変調する変調回路（６１ｂ又は６１ｂ’）、変調信号に応じて駆動信号を生成する駆動回路（６１ｃ又は６１ｃ’）、及び駆動信号に応じて振動するピエゾ素子（電気−機械変換素子）６１ｅを含む信号伝達装置６１（６１Ａ又は６１Ｂ）と、該信号伝達装置から離れた位置で、信号伝達装置の少なくともピエゾ素子が固定された構造物（ボディＢＤ、鏡筒４０、あるいはステージベース１４など）を介して伝達された振動波を検出する加速度センサ６０と、を備えている。これにより、配線をすることなく、センサからの信号を加速度センサに伝達することができ、チャンバ内での配線の数を大幅に減らすことができる。その結果、投影ユニットＰＵの振動を低減させることが可能となる。

また、信号伝達装置６１は、診断信号生成回路を有し、周波数が５ＫＨｚ以上３０ＫＨｚ未満の診断信号に対応した振動波を所定のタイミングで発生している。通常運転中に発生する、ボディＢＤなどの振動の周波数は、数１００Ｈｚ程度であるから、この振動と診断信号に対応した振動波とは、周波数による切り分けを確実に行うことができる。従って、主制御装置２０は、露光装置１００の運転中に何らの支障なく、加速度センサ６０を介した上記の診断信号に対応した振動波に基づいて、上記構造物の異常の有無及び異常個所を診断することが可能となる。

なお、上記実施形態では、加速度センサを用いて振動波を検出する場合について説明したが、これに限らず、その他のピックアップ、例えばマイクロフォンを用いて、振動波（例えば音波）を検出することとしても良い。また、上記実施形態では、電気−機械変換素子の一種であるピエゾ素子６１ｅを用いて、変調信号等の電気信号を機械振動に変換する場合について説明したが電気−機械変換素子に限らず、例えばボイスコイルモータなどを、ピエゾ素子６１ｅに代わりに、電気−機械変換部として用いることも可能である。

また、上記実施形態では、信号伝達装置６１が、変調信号の振動波及び診断信号の振動波の両方を発生する場合について説明したが、設置される位置、あるいは設置される構造物によっては、変調信号の振動波及び診断信号の振動波のいずれかのみを発生する信号伝達装置であっても良い。

また、上記実施形態では、診断信号が診断信号生成回路６１ｄで生成される場合について説明したが、これに限らず、搬送波生成回路６１ａで生成されても良い。

なお、上記実施形態では、ボディＢＤと、ステージベース１４とに、信号伝達装置６１及び加速度センサ６０が取付けられた場合について説明したが、これに限らず、除振装置（防振装置）を介して外部からの振動が絶縁されている他の構造物に、信号伝達装置６１及び加速度センサ６０をさらに設けても良い。また、上記実施形態では、アクティブな除振装置を用いて、信号伝達装置６１及び加速度センサ６０が取付けられた構造物の除振がなされる場合について説明したが、パッシブな除振装置を用いて構造物に対する外部からの振動を絶縁することとしても勿論良い。

また、これまでの説明では、特に、言及しなかったが、上記実施形態において、各加速度センサ６０から主制御装置２０に対する信号の伝達は、有線回線及び無線回線のいずれを介して行っても良い。

また、上記実施形態において、照明光ＩＬとして、例えばＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。

また、投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでも良い。投影光学系は屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、その投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。

なお、上記実施形態では、本発明に係るレーザ装置がステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置に適用された場合について説明したが、これに限らず、静止露光型、例えばステップ・アンド・リピート方式あるいはステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置は勿論、プロキシミティー方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも適用できる。この他、例えば国際公開第９９／４９５０４号パンフレットなどに開示される、投影光学系とウエハとの間に液体（例えば純水など）が満たされる液浸型露光装置などにも本発明を適用することができる。さらに、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞をウエハ上に形成することによって、ウエハ上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置、例えば特表２００４−５１９８５０号公報（対応米国特許第６，６１１，３１６号）に開示されているように、２つのレチクルパターンを投影光学系を介してウエハ上で合成し、１回の走査露光によってウエハ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。

なお、上記実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスク（レチクル）を用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスクとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）などを含む）を用いても良い。

なお、これまでは、基板上にパターンを形成する露光装置について説明したが、露光装置に限らず、例えば、特開２００４−１３０３１２号公報などに開示される，インクジェットヘッド群と同様のインクジェット式の機能性液体付与装置を備えた素子製造装置を用いてもパターンの形成は可能である。上記公開公報に開示されるインクジェットヘッド群は、所定の機能性液体（金属含有液体、感光材料など）をノズル（吐出口）から吐出して基板（例えばＰＥＴ、ガラス、シリコン、紙など）に付与するインクジェットヘッドを複数有している。このインクジェットヘッド群のような機能性液体付与装置を用意して、パターンの生成に用いることとすれば良い。この機能性液体付与装置を備えた素子製造装置では、基板を固定して、機能性液体付与装置を走査方向にスキャンしても良いし、基板と機能性液体付与装置とを相互に逆向きに走査しても良い。

従って、上述のような素子製造装置において機能性液体付与装置（パターン形成装置）の少なくとも一部が、素子製造装置の装置本体の一部を構成する構造物に搭載される場合、上記実施形態と同様に、少なくとも１つのセンサからの信号を振動波に変換して前記構造物に伝播する信号伝達装置（変換部）と、該変換部から離れた位置で、前記構造物を介して伝達された前記振動波を検出するピックアップとを備えることとすることができる。かかる場合においても、配線をすることなく、センサからの信号をピックアップに伝達することができるため、配線の数を減らすことが可能となる。

なお、上記信号伝達装置は、少なくとも１つのセンサを有し、本体が構造物を含む露光装置以外の装置、例えば、計測装置などに使用することも可能である。この場合に、信号伝達装置から離れた位置に振動波を検出するピックアップを設けることにより、配線の数を減らすことが可能となる。

以上説明したように、本発明の信号伝達方法は、センサからの信号を伝達するのに適している。また、本発明の露光装置の診断方法は、露光装置の診断を行うのに適している。また、本発明の装置は、センサからの信号を配線を用いることなく、ピックアップに伝達するのに適している。本発明の露光装置は、物体上にパターンを形成するのに適している。

一実施形態に係る露光装置の構成を概略的に示す図である。図１の露光装置の制御系を示すブロック図である。信号伝達装置の構成の一例を示すブロック図である。信号伝達装置の構成の他の一例を示すブロック図である。搬送波の変調を説明するための図であって、変調信号の一例を示す図である。重畳された変調信号の一例を示す図である。加速度情報処理装置の構成の一例を示すブロック図である。図７におけるセンサデータ検出装置の構成の一例を示すブロック図である。センサデータ検出装置で復調された信号の一例を示す図である。図７における診断データ検出装置の構成の一例を示すブロック図である。

符号の説明

１４…ステージベース、３４…第１の除振装置、３８…鏡筒定盤、３９…脚部、４２…第２の除振装置、６０…加速度センサ、６１，６１Ａ，６１Ｂ…信号伝達装置、６１ｅ…ピエゾ素子、１００…露光装置、Ｗ…ウエハ、ＢＤ…ボディ、ＢＳ…ベースプレート、ＲＳＴ…レチクルステージ、ＷＳＴ…ウエハステージ、２０…主制御装置、Ａ₁〜Ａ_n…センサ、Ｂ₁〜Ｂ_m…センサ、ＰＬ…投影光学系。

Claims

センサからの信号を伝達する信号伝達方法であって、
所定周波数の搬送波信号を発生し、前記センサからの信号を用いて前記搬送波に変調を加えた変調信号を生成する工程と；
前記変調信号を構造物に取付けられた電気−機械変換部に与えて振動波を発生させる工程と；を含む信号伝達方法。
前記構造物を介して伝達された前記振動波を、前記センサから離れて前記構造物に取付けられたピックアップで検出し、その検出信号を復調して前記センサの信号を抽出する工程をさらに含む請求項１に記載の信号伝達方法。
前記ピックアップは、加速度センサである請求項２に記載の信号伝達方法。
前記構造物は、ステンレスに比べて比剛性が高い素材からなる請求項１〜３のいずれか一項に記載の信号伝達方法。
前記構造物は、除振装置を介して外部からの振動が絶縁されている請求項１〜４のいずれか一項に記載の信号伝達方法。
前記除振装置は、前記構造物の水平面内以外の３自由度方向を含む少なくとも３自由度方向の位置・姿勢を制御するアクティブ防振装置である請求項５に記載の信号伝達方法。
前記所定周波数は、５ＫＨｚ以上３０ＫＨｚ未満である請求項１〜６のいずれか一項に記載の信号伝達方法。
前記センサは、前記所定周波数より低い応答周波数のセンサである請求項１〜７いずれか一項に記載の信号伝達方法。
前記センサは、リミットセンサ、温度センサ、流量計、圧力センサ、リニアスケール、光電センサのいずれかである請求項８に記載の信号伝達方法。
物体を露光して所定のパターンを形成する露光装置の診断方法であって、
所定周波数の高周波信号を、露光装置本体の少なくとも一部を構成する構造物に取付けられた電気−機械変換部に与えて振動波を発生させる工程と；
前記構造物を介して伝達された前記振動波を、前記電気−機械変換部から離れた位置でピックアップを用いて検出する工程と；を含む露光装置の診断方法。
前記ピックアップの検出信号と、予め用意したモデル信号とに基づいて、前記構造物の異常の有無を診断する工程をさらに含む請求項１０に記載の露光装置の診断方法。
前記構造物の異なる位置に複数のピックアップを取付ける工程をさらに含み、
前記診断する工程では、前記複数のピックアップの検出信号と、前記モデル信号とに基づいて、前記構造物の異常の有無及び異常個所を特定する請求項１１に記載の露光装置の診断方法。
物体を露光して所定のパターンを形成する露光装置であって、
少なくとも一部に構造物を含む装置本体と；
前記構造物に取付けられ、所定周波数の高周波信号の入力により振動波を発生する電気−機械変換部と；
前記構造物を介して伝達された前記振動波を、前記電気−機械変換部から離れた位置で検出するピックアップと；を備える露光装置。
前記ピックアップの検出信号と、予め用意したモデル信号とに基づいて、前記構造物の異常の有無を診断する診断装置をさらに備える請求項１３に記載の露光装置。
前記構造物の異なる位置に複数の前記ピックアップが取付けられ、
前記診断装置は、前記複数のピックアップの検出信号と、前記モデル信号とに基づいて、前記構造物の異常の有無に加え、異常個所をも特定する請求項１４に記載の露光装置。
少なくとも一部に構造物を含む装置本体と；
少なくとも１つのセンサと；
前記センサからの信号を振動波に変換して前記構造物に伝播する変換部と；
前記変換部から離れた位置で、前記構造物を介して伝達された前記振動波を検出するピックアップと；を備える装置。
前記構造物に少なくとも一部が搭載され、所定のパターンを物体上に形成するパターン形成装置を更に備える請求項１６に記載の装置。
物体を露光して所定のパターンを形成する露光装置であって、
少なくとも一部に構造物を含む装置本体と；
少なくとも１つのセンサと；
前記センサからの信号を振動波に変換して前記構造物に伝播させる変換部と；
前記変換部から離れた位置で、前記構造物を介して伝達された前記振動波を検出するピックアップと；を備える露光装置。
前記構造物は、ステンレスに比べて比剛性が高い素材からなる請求項１８に記載の露光装置。
前記構造物に対する外部からの振動を絶縁する除振装置をさらに備える請求項１８又は１９に記載の露光装置。
前記除振装置は、前記構造物の水平面内以外の３自由度方向を含む少なくとも３自由度方向の位置・姿勢を制御するアクティブ除振装置である請求項２０に記載の露光装置。
前記構造物上に搭載された駆動部をさらに備える請求項１８〜２１のいずれか一項に記載の露光装置。
前記物体上にパターン像を生成する光学系をさらに備え、
前記構造物は、前記光学系を支持する本体フレームを含む請求項１８〜２２のいずれか一項に記載の露光装置。
前記センサは、５ＫＨｚより低い応答周波数のセンサである請求項１８〜２３のいずれか一項に記載の露光装置。
前記少なくとも１つのセンサは、リミットセンサ、温度センサ、流量計、圧力センサ、リニアスケール、光電センサの少なくとも１つを含む請求項１８〜２４のいずれか一項に記載の露光装置。
前記少なくとも１つのセンサは、複数のセンサを含み、
前記変換部は、前記複数のセンサからの信号を順次振動波に変換して前記構造物に伝播させる請求項１８〜２５のいずれか一項に記載の露光装置。
前記少なくとも１つのセンサは、複数のセンサを含み、
前記変換部は、前記複数のセンサからの信号を異なる周波数成分を含む振動波に変換する請求項１８〜２５のいずれか一項に記載の露光装置。
前記変換部は、前記センサに接続され、該センサからの信号を用いて所定周波数の搬送波信号を変調した信号を生成する信号発生器と、前記信号発生器から入力された信号に応じた振動波を発生する電気−機械変換部とを含む請求項２６又は２７に記載の露光装置。
前記ピックアップの検出信号を復調して前記各センサの信号を抽出する制御装置をさらに備える請求項２８に記載の露光装置。
前記信号発生器は、所定のタイミングで特定周波数のトレーニング信号を含む信号を発生し、
前記制御装置では、前記ピックアップの検出信号に基づいて、前記構造物の異常の有無を診断する請求項２９に記載の露光装置。
前記ピックアップから無線回線を介して前記制御装置に信号が送信される請求項３０に記載の露光装置。
前記ピックアップは、加速度センサである請求項１８〜３１のいずれか一項に記載の露光装置。