JP2011237374A - 分光装置、検出装置及び分光装置の製造方法 - Google Patents
分光装置、検出装置及び分光装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011237374A JP2011237374A JP2010111124A JP2010111124A JP2011237374A JP 2011237374 A JP2011237374 A JP 2011237374A JP 2010111124 A JP2010111124 A JP 2010111124A JP 2010111124 A JP2010111124 A JP 2010111124A JP 2011237374 A JP2011237374 A JP 2011237374A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- angle
- reference line
- diffraction grating
- incident
- respect
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 23
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 20
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 2
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 38
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 238000012306 spectroscopic technique Methods 0.000 description 2
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 2
- 238000004416 surface enhanced Raman spectroscopy Methods 0.000 description 2
- NCGICGYLBXGBGN-UHFFFAOYSA-N 3-morpholin-4-yl-1-oxa-3-azonia-2-azanidacyclopent-3-en-5-imine;hydrochloride Chemical compound Cl.[N-]1OC(=N)C=[N+]1N1CCOCC1 NCGICGYLBXGBGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
- G01J3/18—Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
- G01J3/18—Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating
- G01J3/1804—Plane gratings
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/44—Raman spectrometry; Scattering spectrometry ; Fluorescence spectrometry
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
- G02B27/4261—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive element with major polarization dependent properties
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1866—Transmission gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
【解決手段】分光装置は、入射光を透過する透過型回折格子を含む。透過型回折格子は、第1の誘電体により形成される傾斜面140(または傾斜面150)を有する。傾斜面140は、基準線130に対して傾斜して配列される。透過型回折格子への入射光の入射角度を基準線130に対して角度αとし、回折光の回折角度を基準線130に対して角度βとする。この場合、入射角度αは、傾斜面140対するブラッグ角度θよりも小さい角度であり、回折角度βは、ブラッグ角度θよりも大きい角度である。
【選択図】 図3
Description
上述のように、ブレーズ化回折格子では、波長分解能と回折効率の両立が困難であるという課題がある。この点について、図1、図2を用いて説明する。
図2は、上式(1)において波長λa=633nm、格子周期Pa=333nmとした場合の、回折角度βaに対する波長分解能Δβ/Δλの特性例である。この例では、波長と格子周期の比はλa/Pa=1.9である。このとき、図2に示すように、回折角度βaを70°とすると、波長分解能Δβ/Δλはおよそ0.009まで向上する。
本実施形態では、ブラッグ反射を生じる周期構造を傾斜させて、回折角度を大きくするとともに格子周期をより大きく取れるようにすることで、波長分解能の向上と回折効率の広帯域化を行う。図3(A)〜図6(B)を用いて、この本実施形態の透過型回折格子に(以下回折格子と省略する)ついて説明する。なお、以下では、各構成要素を図面上で認識し得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜に異ならせてある。
次に、本実施形態による波長分解能と回折効率を向上させる手法について説明する。図3(B)に示すように、本実施形態では傾斜面140(または傾斜面150)の周期構造によるブラッグ反射を利用している。図3(B)では、便宜的に傾斜角度φ=0°の場合について考える。ブラッグ反射を生じる入射光の入射角度をブラッグ角度θとすると、ブラッグ条件は下式(3)で表される。ブラッグ角度θは、傾斜面140に対する角度である。また、nは空気(広義には媒質)の屈折率である。
比較例で説明したように、波長分解能Δβ/Δλを大きくするためにはブラッグ角度θ(回折角度)を大きくする必要がある。上式(3)より、ブラッグ角度θを大きくすると、Pを小さくしなければならないことが分かる。しかしながら、比較例で説明したように、Pを小さくすると回折効率の高い波長帯域が狭くなってしまう。そこで、本実施形態では、図3(A)に示すように突起群110を傾斜させることで、回折角度βを大きくしている。このとき、入射角度αは近似的にα=θ−φであり、回折角度βは近似的にβ=θ+φである。このように、突起群110を傾斜させることで回折角度βよりもブラッグ角度θを小さくできるため、回折角度βにより波長分解能Δβ/Δλを大きくするとともに、φ=0°の場合に比べて周期Pをより大きな値にできる。
図4に、回折角度βに対する波長分解能Δβ/Δλの特性例を示す。図4は、波長λ=633nm、格子周期P=366nm、傾斜角度φ=10°の場合の例であり、1次透過回折光のブラッグ角度はθ=59.9°である。格子周期P=366nmは、上述の比較例での格子周期Pa=333nmに比べて10%大きい値である。また、上式(2)より、この回折格子の波長分解能は、周期がP/cosφ=366/cos(10°)=372nmである傾斜がない回折格子の波長分解能と同じである。
図7(A)〜図7(D)を用いて、傾斜した突起群を有する透過型回折格子の製造方法について説明する。
φ=(sin−1(sin(θ2)/nr)−sin−1(sin(θ1)))/2
(5)
例えば、干渉露光用のレーザー光源は、連続発振のHe−Cdレーザー(波長λs=325nm)であり、レジスト210はポジ型レジストであり、レジスト膜厚は1μmである。また、例えば、レーザー光の入射角度はθ1=9.1°、θ1=45.7°であり、レジストの屈折率はnr=1.60である。このとき、上式(4)より、基板200の平面に平行な方向での干渉縞の間隔はD=372nmである。また、上式(5)より、干渉縞の傾斜φは約10°(φ=10.4°)である。傾斜に垂直な方向での干渉縞の周期は、D・cosφ=366nmである。このようにして、基板200の法線に対する干渉角度を左右(θ1とθ2)で非対称にして、傾斜した干渉縞の潜像をレジスト210中に形成する。
上記実施形態では、突起群の傾斜面によりブラッグ反射を生じる回折格子について説明したが、本実施形態では、傾斜した屈折率変調構造によりブラッグ反射を生じさせてもよい。
図9(A)、図9(B)に、本実施形態の回折格子が適用される検出装置の第1の構成例を示す。この検出装置は、ラマンセンサー300(センサーチップ、光デバイス)、第1の凹面鏡310、バンドパスフィルター320、偏光板330、回折格子340、第2の凹面鏡350、アレイ光検出器360(検出器)、光源370、エッジフィルター380を含む。この検出装置は、1つの回折格子340と2つの凹面鏡310、350が所定の位置関係に配置されたシングル分光装置である。なお、以下では、ラマン分光測定を行うための検出装置について説明するが、本実施形態の回折格子は、他の分光手法を用いた検出装置にも適用できる。
上式(6)より、波長分解能Δβ/Δλが十分に大きい場合には、凹面鏡の集光距離fが短くても、ラマン散乱光とレイリー散乱光の間を広く分光できることがわかる。そのため、本実施形態の高分解能な回折格子を用いることで、凹面鏡350の集光距離fを短くし、各構成要素をコンパクトに配置して分光器を小型化できる。
140,150 傾斜面、160 基材の裏面、170 第1の誘電体層、
180 第2の誘電体層、190 反射防止膜、200 石英ガラス基板、
210 レジスト、220 レジストパターン、230 基材、240 突起群、
300 ラマンセンサー、310 凹面鏡、320 バンドパスフィルター、
330 偏光板、340 回折格子、350 凹面鏡、360 アレイ光検出器、
370 光源、380 エッジフィルター、390 試料、400 レンズ、
P 周期、φ 傾斜角度、α 入射角度、β 回折角度、θ ブラッグ角度、
λ 波長、Δβ/Δλ 波長分解能、LS1 第1のレーザー光、
LS2 第2のレーザー光、θ1 第1のレーザー光の入射角度、
θ2 第2のレーザー光の入射角度、λs 露光波長、f 集光距離
Claims (8)
- 入射光を透過する透過型回折格子を含む分光装置であって、
前記透過型回折格子は、
第1の誘電体により形成される傾斜面を有し、
前記傾斜面は、
基準線に対して傾斜して配列され、
前記透過型回折格子への入射光の入射角度を前記基準線に対して角度αとし、回折光の回折角度を前記基準線に対して角度βとする場合に、
前記入射角度αは、
前記傾斜面に対するブラッグ角度θよりも小さい角度であり、
前記回折角度βは、
前記ブラッグ角度θよりも大きい角度であることを特徴とする分光装置。 - 請求項1において、
前記基準線に対する前記傾斜面の傾斜角度をφとする場合に、
前記傾斜面は、
前記基準線に垂直な方向に周期P/cosφで配列され、
前記入射光は、
前記基準線に垂直な平面に平行で、前記傾斜面の配列方向に垂直な直線偏光であることを特徴とする分光装置。 - 請求項1または2において、
前記基準線に対する前記傾斜面の傾斜角度をφとする場合に、
前記透過型回折格子は、
前記基準線に垂直な平面を有する基材に、前記第1の誘電体により形成される突起群が、前記基材の平面に平行な方向に沿って周期P/cosφで配列されることで形成され、
前記突起群には、前記基準線に対して前記角度φで傾斜する前記傾斜面が形成されることを特徴とする分光装置。 - 請求項3において、
前記傾斜角度φは、
前記基材の平面に投影した平面視において、前記突起群の隣り合う突起が重ならないように設定されることを特徴とする分光装置。 - 請求項1または2において、
前記基準線に対する前記傾斜面の傾斜角度をφとする場合に、
前記透過型回折格子は、
前記基準線に垂直な平面を有する基材に、前記第1の誘電体と、前記第1の誘電体とは誘電率が異なる第2の誘電体とが、前記基材の平面に平行な方向に沿って周期P/cosφで交互に配列されることで形成され、
前記傾斜面は、
前記第1の誘電体と前記第2の誘電体との境界面であって、前記基準線に対して前記角度φで傾斜する境界面により形成されることを特徴とする分光装置。 - 請求項1乃至5のいずれかにおいて、
前記透過型回折格子は、
前記入射光が入射される前記基材の第1面側に前記傾斜面が形成され、前記回折光が出射する前記基材の第2面側に反射防止膜が形成されることを特徴とする分光装置。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載の分光装置と、
標的物からの散乱光または反射光を、前記ブラッグ角度θよりも小さい前記入射角度αで前記分光装置に入射させる光学系と、
前記分光装置からの回折光を検出する検出器と、
を含むことを特徴とする検出装置。 - 基材に塗布されたレジストに対して第1のレーザー光と第2のレーザー光を入射して、前記レジストを干渉露光し、
前記干渉露光されたレジストを現像し、
前記基材の平面に向かう垂線に対して傾斜角度φで傾斜するレジストパターンを形成する請求項1乃至6のいずれかに記載の分光装置の製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010111124A JP5724213B2 (ja) | 2010-05-13 | 2010-05-13 | 検出装置 |
TW100116387A TWI509231B (zh) | 2010-05-13 | 2011-05-10 | 分光裝置、物質檢測裝置及分光裝置之製造方法 |
EP11165662A EP2386841A1 (en) | 2010-05-13 | 2011-05-11 | Spectrometry apparatus comprising transmissive diffraction grating |
US13/106,373 US8570509B2 (en) | 2010-05-13 | 2011-05-12 | Spectrometry apparatus, detection apparatus, and method for manufacturing spectrometry apparatus |
KR1020110044518A KR20110125603A (ko) | 2010-05-13 | 2011-05-12 | 분광 장치, 검출 장치 및 분광 장치의 제조 방법 |
CN201110124499.3A CN102269833B (zh) | 2010-05-13 | 2011-05-13 | 光谱装置、检测装置以及光谱装置的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010111124A JP5724213B2 (ja) | 2010-05-13 | 2010-05-13 | 検出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011237374A true JP2011237374A (ja) | 2011-11-24 |
JP5724213B2 JP5724213B2 (ja) | 2015-05-27 |
Family
ID=44318214
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010111124A Active JP5724213B2 (ja) | 2010-05-13 | 2010-05-13 | 検出装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8570509B2 (ja) |
EP (1) | EP2386841A1 (ja) |
JP (1) | JP5724213B2 (ja) |
KR (1) | KR20110125603A (ja) |
CN (1) | CN102269833B (ja) |
TW (1) | TWI509231B (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013170852A (ja) * | 2012-02-17 | 2013-09-02 | Mitsutoyo Corp | 光電式エンコーダ |
US9041924B2 (en) | 2011-06-23 | 2015-05-26 | Seiko Epson Corporation | Transmissive diffraction grating and detection apparatus |
JP2015536471A (ja) * | 2012-12-04 | 2015-12-21 | エフ.ホフマン−ラ ロッシュ アーゲー | 結合親和性の検出に用いる装置 |
JP2018185403A (ja) * | 2017-04-25 | 2018-11-22 | 日亜化学工業株式会社 | 透過型回折格子とその透過型回折格子を含むレーザ装置及び透過型回折格子の製造方法 |
JP2019062094A (ja) * | 2017-09-27 | 2019-04-18 | 富士通株式会社 | 赤外線検出器、撮像素子、及び撮像システム |
JP2019212654A (ja) * | 2018-05-31 | 2019-12-12 | 日亜化学工業株式会社 | 光源装置 |
JP2022504502A (ja) * | 2018-10-12 | 2022-01-13 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 角度付き構造を形成するための技術 |
JP2022505379A (ja) * | 2018-10-23 | 2022-01-14 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 深さ変調された傾斜格子を有する光学部品及び形成方法 |
JP2022513850A (ja) * | 2018-12-17 | 2022-02-09 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 格子を形成する方法 |
JP2022514525A (ja) * | 2018-12-17 | 2022-02-14 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 複数の格子を形成する方法 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102902002B (zh) * | 2012-09-25 | 2014-06-25 | 浙江大学 | 一种反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法 |
CN103576220B (zh) * | 2013-10-11 | 2016-01-06 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | Te偏振的石英1×2分束斜光栅 |
US10356313B2 (en) * | 2015-02-12 | 2019-07-16 | Rambus Inc. | Systems and methods for lensless image acquisition |
TW201730292A (zh) | 2015-11-20 | 2017-09-01 | Toagosei Co Ltd | 導電性高分子用隱形蝕刻墨水及導電性高分子之圖案化方法 |
CN109116454B (zh) * | 2017-06-26 | 2020-08-11 | 清华大学 | 光栅的制备方法 |
US10845596B2 (en) | 2018-01-23 | 2020-11-24 | Facebook Technologies, Llc | Slanted surface relief grating for rainbow reduction in waveguide display |
US10914954B2 (en) | 2018-08-03 | 2021-02-09 | Facebook Technologies, Llc | Rainbow reduction for waveguide displays |
US10761330B2 (en) * | 2018-01-23 | 2020-09-01 | Facebook Technologies, Llc | Rainbow reduction in waveguide displays |
CN115390173A (zh) * | 2018-06-11 | 2022-11-25 | Agc株式会社 | 衍射光学元件、投影装置及计测装置 |
EP3814840A4 (en) | 2018-06-28 | 2022-03-23 | Applied Materials, Inc. | MANUFACTURE OF DIFFRACTION GRATES |
KR20240042100A (ko) * | 2018-07-19 | 2024-04-01 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 가변 높이의 경사진 격자 방법 |
US11137536B2 (en) * | 2018-07-26 | 2021-10-05 | Facebook Technologies, Llc | Bragg-like gratings on high refractive index material |
US11150394B2 (en) * | 2019-01-31 | 2021-10-19 | Facebook Technologies, Llc | Duty cycle range increase for waveguide combiners |
CN110673245B (zh) * | 2019-09-11 | 2022-03-22 | 宁波南大光电材料有限公司 | 一种斜齿图形光栅板的制作方法及光栅板 |
CN110854217A (zh) * | 2019-11-28 | 2020-02-28 | 电子科技大学中山学院 | 一种增强入射光有效光程的太阳能电池 |
US20220082739A1 (en) * | 2020-09-17 | 2022-03-17 | Facebook Technologies, Llc | Techniques for manufacturing variable etch depth gratings using gray-tone lithography |
US11709422B2 (en) | 2020-09-17 | 2023-07-25 | Meta Platforms Technologies, Llc | Gray-tone lithography for precise control of grating etch depth |
CN112394436B (zh) * | 2020-11-25 | 2021-07-06 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 1064纳米波段的非对称结构全介质反射式合束光栅 |
JP2023551813A (ja) | 2020-11-30 | 2023-12-13 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 傾斜した角度を有する構造を形成するためのリソグラフィ方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0660323A (ja) * | 1992-07-31 | 1994-03-04 | Mitsumi Electric Co Ltd | テーパ状エッチング方法 |
JPH09146131A (ja) * | 1995-11-20 | 1997-06-06 | Hiromasa Ito | サブミリ波発生装置 |
JP2004145255A (ja) * | 2002-04-19 | 2004-05-20 | Ricoh Co Ltd | 偏光光学素子、光学素子ユニット、光ヘッド装置及び光ディスクドライブ装置 |
JP2008152135A (ja) * | 2006-12-19 | 2008-07-03 | Ricoh Co Ltd | 液晶ホログラム素子 |
JP2009063754A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Institute Of Physical & Chemical Research | 溝型導光格子構造およびその製造方法 |
WO2010024397A1 (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-04 | 独立行政法人理化学研究所 | ラマン散乱測定装置 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4506949A (en) * | 1983-05-27 | 1985-03-26 | Rca Corporation | Diffractive color separation filter |
US5009484A (en) * | 1989-05-03 | 1991-04-23 | Advanced Environmental Research Group | Diffraction gratings having high efficiencies |
JPH03246510A (ja) * | 1990-02-23 | 1991-11-01 | Sharp Corp | 回折格子光結合器の作成方法 |
US6487019B2 (en) * | 2000-03-27 | 2002-11-26 | Chromaplex, Inc. | Optical diffraction grating structure with reduced polarization sensitivity |
JP2003255113A (ja) * | 2002-02-28 | 2003-09-10 | Canon Inc | 光分離素子およびそれを用いた光学機器 |
US7164532B2 (en) * | 2002-04-19 | 2007-01-16 | Ricoh Company, Ltd. | Diffraction grating, light source unit applying the same therein, and optical head device employing the same |
US6917471B2 (en) * | 2003-01-24 | 2005-07-12 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Diffraction grating element |
CN101241202A (zh) * | 2003-01-24 | 2008-08-13 | 住友电气工业株式会社 | 衍射光栅元件 |
CN100526918C (zh) * | 2003-02-18 | 2009-08-12 | 住友电气工业株式会社 | 衍射光栅元件 |
CN100386653C (zh) * | 2003-03-13 | 2008-05-07 | 旭硝子株式会社 | 衍射元件以及光学装置 |
JP4409860B2 (ja) | 2003-05-28 | 2010-02-03 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光検出器を用いた分光器 |
JP4369256B2 (ja) | 2004-01-22 | 2009-11-18 | 日本板硝子株式会社 | 分光光学素子 |
US7590150B1 (en) * | 2004-09-30 | 2009-09-15 | Ceterus Networks, Inc. | Method and apparatus for transport of multiple TDM and data clients over multiple variable data rate streams |
JP4565119B2 (ja) * | 2004-10-18 | 2010-10-20 | 学校法人早稲田大学 | ラマン分光装置 |
TWI251681B (en) * | 2005-02-03 | 2006-03-21 | Instr Technology Res Ct | Tunable dispersive optical system |
JP2007101926A (ja) | 2005-10-05 | 2007-04-19 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 透過型回折格子、ならびにそれを用いた分光素子および分光器 |
US7935459B2 (en) * | 2006-06-22 | 2011-05-03 | Georgia Tech Research Corporation | Photo-masks and methods of fabricating surface-relief grating diffractive devices |
JP5280654B2 (ja) | 2006-09-21 | 2013-09-04 | 日本板硝子株式会社 | 透過型回折格子、並びに、それを用いた分光素子及び分光器 |
CA2600900A1 (en) | 2006-09-21 | 2008-03-21 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Transmissive diffraction grating, and spectral separation element and spectroscope using the same |
US8221963B2 (en) * | 2007-12-27 | 2012-07-17 | Seiko Epson Corporation | Method for producing fine structure |
EP2300859B1 (en) * | 2008-05-05 | 2016-01-13 | Nanocomp Oy Ltd. | Light manipulation arrangement |
-
2010
- 2010-05-13 JP JP2010111124A patent/JP5724213B2/ja active Active
-
2011
- 2011-05-10 TW TW100116387A patent/TWI509231B/zh active
- 2011-05-11 EP EP11165662A patent/EP2386841A1/en not_active Withdrawn
- 2011-05-12 US US13/106,373 patent/US8570509B2/en active Active
- 2011-05-12 KR KR1020110044518A patent/KR20110125603A/ko not_active Application Discontinuation
- 2011-05-13 CN CN201110124499.3A patent/CN102269833B/zh active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0660323A (ja) * | 1992-07-31 | 1994-03-04 | Mitsumi Electric Co Ltd | テーパ状エッチング方法 |
JPH09146131A (ja) * | 1995-11-20 | 1997-06-06 | Hiromasa Ito | サブミリ波発生装置 |
JP2004145255A (ja) * | 2002-04-19 | 2004-05-20 | Ricoh Co Ltd | 偏光光学素子、光学素子ユニット、光ヘッド装置及び光ディスクドライブ装置 |
JP2008152135A (ja) * | 2006-12-19 | 2008-07-03 | Ricoh Co Ltd | 液晶ホログラム素子 |
JP2009063754A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Institute Of Physical & Chemical Research | 溝型導光格子構造およびその製造方法 |
WO2010024397A1 (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-04 | 独立行政法人理化学研究所 | ラマン散乱測定装置 |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9041924B2 (en) | 2011-06-23 | 2015-05-26 | Seiko Epson Corporation | Transmissive diffraction grating and detection apparatus |
JP2013170852A (ja) * | 2012-02-17 | 2013-09-02 | Mitsutoyo Corp | 光電式エンコーダ |
US9329059B2 (en) | 2012-02-17 | 2016-05-03 | Mitutoyo Corporation | Photoelectric encoder |
JP2015536471A (ja) * | 2012-12-04 | 2015-12-21 | エフ.ホフマン−ラ ロッシュ アーゲー | 結合親和性の検出に用いる装置 |
US10156524B2 (en) | 2012-12-04 | 2018-12-18 | Hoffmann-La-Roche Inc. | Device for use in the detection of binding affinities |
JP2018185403A (ja) * | 2017-04-25 | 2018-11-22 | 日亜化学工業株式会社 | 透過型回折格子とその透過型回折格子を含むレーザ装置及び透過型回折格子の製造方法 |
JP6990550B2 (ja) | 2017-09-27 | 2022-01-12 | 富士通株式会社 | 赤外線検出器、撮像素子、及び撮像システム |
JP2019062094A (ja) * | 2017-09-27 | 2019-04-18 | 富士通株式会社 | 赤外線検出器、撮像素子、及び撮像システム |
JP2019212654A (ja) * | 2018-05-31 | 2019-12-12 | 日亜化学工業株式会社 | 光源装置 |
JP7060799B2 (ja) | 2018-05-31 | 2022-04-27 | 日亜化学工業株式会社 | 光源装置 |
JP2022504502A (ja) * | 2018-10-12 | 2022-01-13 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 角度付き構造を形成するための技術 |
JP7170860B2 (ja) | 2018-10-12 | 2022-11-14 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 角度付き構造を形成するための技術 |
JP2022505379A (ja) * | 2018-10-23 | 2022-01-14 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 深さ変調された傾斜格子を有する光学部品及び形成方法 |
JP7314262B2 (ja) | 2018-10-23 | 2023-07-25 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 深さ変調された傾斜格子を有する光学部品及び形成方法 |
JP2022513850A (ja) * | 2018-12-17 | 2022-02-09 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 格子を形成する方法 |
JP2022514525A (ja) * | 2018-12-17 | 2022-02-14 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 複数の格子を形成する方法 |
US11766744B2 (en) | 2018-12-17 | 2023-09-26 | Applied Materials, Inc. | Method of forming a plurality of gratings |
JP7404371B2 (ja) | 2018-12-17 | 2023-12-25 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 複数の格子を形成する方法 |
JP7483711B2 (ja) | 2018-12-17 | 2024-05-15 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 格子を形成する方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102269833A (zh) | 2011-12-07 |
TWI509231B (zh) | 2015-11-21 |
US20110279818A1 (en) | 2011-11-17 |
JP5724213B2 (ja) | 2015-05-27 |
KR20110125603A (ko) | 2011-11-21 |
CN102269833B (zh) | 2016-07-06 |
EP2386841A1 (en) | 2011-11-16 |
TW201213780A (en) | 2012-04-01 |
US8570509B2 (en) | 2013-10-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5724213B2 (ja) | 検出装置 | |
US9041924B2 (en) | Transmissive diffraction grating and detection apparatus | |
US7986407B2 (en) | Method and apparatus using volume holographic wavelength blockers | |
US7408712B2 (en) | Polarization-selectively blazed, diffractive optical element | |
US20110000881A1 (en) | Method of manufacturing an optical integrated nanospectrometer | |
JP2003255113A (ja) | 光分離素子およびそれを用いた光学機器 | |
US8169703B1 (en) | Monolithic arrays of diffraction gratings | |
WO2004027493A1 (ja) | 回折格子を用いた分光装置 | |
JP4369256B2 (ja) | 分光光学素子 | |
WO2011120234A1 (zh) | 能接收零阶光谱分量及一阶光谱分量的微型光谱仪 | |
US20150316476A1 (en) | Spectrometer for analysing the spectrum of a light beam | |
JP2009121986A (ja) | 分光装置 | |
JP2001242314A (ja) | 光学反射格子、その反射格子を用いた分光計、及び高い回折効率を有する光学反射格子を見出す方法 | |
JP6097412B2 (ja) | 光学装置 | |
JP5834567B2 (ja) | 検出装置及び分光装置の製造方法 | |
JP5200848B2 (ja) | 分光装置 | |
JP2005127943A (ja) | 光計測装置及び分光装置 | |
JP2011106842A (ja) | 回折格子分光器 | |
Lu et al. | Polarization-insensitive two-dimensional reflective grating with high-diffraction efficiency for spaceborne CO2 imaging spectrometer | |
KR101884118B1 (ko) | 투과 회절 격자 기반 분광기 | |
JP2008249456A (ja) | 光エンコーダ | |
JP6358710B2 (ja) | 回折光学素子 | |
RU2477451C1 (ru) | Многолучевой интерферометр | |
JP2000321135A (ja) | 分光装置 | |
JP6455933B2 (ja) | 回折光学素子およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130314 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131112 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131210 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140729 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140929 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150303 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150316 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5724213 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |