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  1. 第1のトランジスタ乃至第9のトランジスタと、容量素子と、第1の配線と、第2の配線と、第3の配線と、を有し、
    前記第1のトランジスタ乃至前記第9のトランジスタにおいて、チャネルが形成される半導体層は酸化物半導体を含み、
    前記酸化物半導体は、Inと、Gaと、Znとを含み、
    前記第1の配線には、第1の電位が供給され、
    前記第2の配線には、第2の電位が供給され、
    前記第3の配線には、第3の電位が供給され、
    前記第1の電位、及び前記第2の電位は、前記第3の電位よりも高い電位であり、
    前記第1のトランジスタのゲートは、入力端子に電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのソースまたはドレインの一方は、前記第3の配線に電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第2のトランジスタのソースまたはドレインの一方に電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのゲートは、前記第7のトランジスタのソースまたはドレインの一方に電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのゲートは、前記第8のトランジスタのソースまたはドレインの一方に電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第3のトランジスタのソースまたはドレインの一方に電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第4のトランジスタのソースまたはドレインの一方に電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第6のトランジスタのゲートに電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのゲートは、前記第1の配線に電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第2の配線に電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのゲートは、前記第5のトランジスタのソースまたはドレインの一方に電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのゲートは、前記第6のトランジスタのソースまたはドレインの一方に電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのゲートは、前記容量素子の第1電極に電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのゲートは、前記第8のトランジスタのゲートに電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのゲートは、前記第9のトランジスタのゲートに電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第3の配線に電気的に接続され、
    前記第5のトランジスタのゲートは、前記第1の配線に電気的に接続され、
    前記第5のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第2の配線に電気的に接続され、
    前記第6のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第3の配線に電気的に接続され、
    前記第7のトランジスタのゲートは、前記第1の配線に電気的に接続され、
    前記第7のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第2の配線に電気的に接続され、
    前記第8のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第3の配線に電気的に接続され、
    前記第9のトランジスタのソースまたはドレインの一方は、出力端子に電気的に接続され、
    前記第9のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第3の配線に電気的に接続され、
    前記容量素子は、第2電極が前記第3の配線に電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
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