JP2011104592A - 酸化タングステン光触媒体 - Google Patents

酸化タングステン光触媒体 Download PDF

Info

Publication number
JP2011104592A
JP2011104592A JP2011051111A JP2011051111A JP2011104592A JP 2011104592 A JP2011104592 A JP 2011104592A JP 2011051111 A JP2011051111 A JP 2011051111A JP 2011051111 A JP2011051111 A JP 2011051111A JP 2011104592 A JP2011104592 A JP 2011104592A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tungsten oxide
particles
μmol
photocatalyst
oxide particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011051111A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5258917B2 (ja
Inventor
Fumiaki Otani
文章 大谷
Tatsu Abe
竜 阿部
Yoshiaki Sakatani
能彰 酒谷
Makoto Murata
誠 村田
Kosuke Nishimine
宏亮 西峰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hokkaido University NUC
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Hokkaido University NUC
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hokkaido University NUC, Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Hokkaido University NUC
Priority to JP2011051111A priority Critical patent/JP5258917B2/ja
Publication of JP2011104592A publication Critical patent/JP2011104592A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5258917B2 publication Critical patent/JP5258917B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
    • B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
    • B01J35/39—Photocatalytic properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/16—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J23/24—Chromium, molybdenum or tungsten
    • B01J23/30—Tungsten
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
    • B01J23/40—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals of the platinum group metals
    • B01J23/42—Platinum
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
    • B01J23/54—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
    • B01J23/56—Platinum group metals
    • B01J23/64—Platinum group metals with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J23/652—Chromium, molybdenum or tungsten
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
    • B01J23/54—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
    • B01J23/56—Platinum group metals
    • B01J23/64—Platinum group metals with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J23/652—Chromium, molybdenum or tungsten
    • B01J23/6527—Tungsten
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
    • B01J35/20—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their non-solid state
    • B01J35/23—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their non-solid state in a colloidal state
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/34—Irradiation by, or application of, electric, magnetic or wave energy, e.g. ultrasonic waves ; Ionic sputtering; Flame or plasma spraying; Particle radiation
    • B01J37/341—Irradiation by, or application of, electric, magnetic or wave energy, e.g. ultrasonic waves ; Ionic sputtering; Flame or plasma spraying; Particle radiation making use of electric or magnetic fields, wave energy or particle radiation
    • B01J37/344—Irradiation by, or application of, electric, magnetic or wave energy, e.g. ultrasonic waves ; Ionic sputtering; Flame or plasma spraying; Particle radiation making use of electric or magnetic fields, wave energy or particle radiation of electromagnetic wave energy
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/34—Irradiation by, or application of, electric, magnetic or wave energy, e.g. ultrasonic waves ; Ionic sputtering; Flame or plasma spraying; Particle radiation
    • B01J37/341—Irradiation by, or application of, electric, magnetic or wave energy, e.g. ultrasonic waves ; Ionic sputtering; Flame or plasma spraying; Particle radiation making use of electric or magnetic fields, wave energy or particle radiation
    • B01J37/344—Irradiation by, or application of, electric, magnetic or wave energy, e.g. ultrasonic waves ; Ionic sputtering; Flame or plasma spraying; Particle radiation making use of electric or magnetic fields, wave energy or particle radiation of electromagnetic wave energy
    • B01J37/345—Irradiation by, or application of, electric, magnetic or wave energy, e.g. ultrasonic waves ; Ionic sputtering; Flame or plasma spraying; Particle radiation making use of electric or magnetic fields, wave energy or particle radiation of electromagnetic wave energy of ultraviolet wave energy
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
    • B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
    • B01J35/391—Physical properties of the active metal ingredient
    • B01J35/393—Metal or metal oxide crystallite size
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
    • B01J35/40—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by dimensions, e.g. grain size
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
    • B01J35/60—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their surface properties or porosity
    • B01J35/61—Surface area
    • B01J35/612—Surface area less than 10 m2/g
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
    • Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
    • Y10T428/2991—Coated

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
  • Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)

Abstract

【課題】紫外光が照射されない環境下であっても、可視光線を照射することによって高い光触媒作用を示す酸化タングステン光触媒体を提供する。
【解決手段】本発明の酸化タングステン光触媒体は、酸化タングステン粒子の表面に一次粒子径が３ｎｍ以上〜２０ｎｍ以下のＰｔ粒子が、酸化タングステン粒子１００重量部あたり０．０３〜５重量部担持されてなるものであり、好ましくは酸化タングステン粒子の凝集粒子径の累積粒度分布の微粒側から累積５０％の粒径をＤ５０としたとき、Ｄ５０が０．０１μｍ〜５μｍであり、一次粒子径が５ｎｍ〜１５０ｎｍである。
【選択図】図２

Description

本発明は、酸化タングステン光触媒体に関し、可視光線が照射され、紫外線が照射されない環境下でも、高い光触媒活性を示し、酢酸やアセトアルデヒド等の有機物を完全分解することのできる光触媒体に関するものである。
半導体にバンドギャップ以上のエネルギーをもつ光を照射すると、価電子帯の電子が伝導帯に励起し、価電子帯に正孔、伝導帯に電子が生成する。これらはそれぞれ強い酸化力と還元力を有し、半導体に接触した分子種に酸化還元作用を及ぼす。このような作用を光触媒作用と呼び、このような半導体を光触媒体と呼ぶ。
光触媒体による有機物の分解反応では、価電子帯に生成した正孔が直接有機物を酸化分解したり、正孔が水を酸化し、そこから生成する活性酸素種が有機物を酸化分解するとされているが、それ以外にも伝導帯に生成した電子が酸素を還元し、そこから生成する活性酸素種が有機物を酸化分解するとされている。
このような光触媒体として、酸化タングステン粒子を単独で使用したものが知られている。酸化タングステン粒子は、屋内空間での光の大部分を占める可視光線を吸収することができ、可視光応答型光触媒体として注目されている。しかし、酸化タングステン粒子を単独で使用した光触媒体に可視光線を照射すると、光励起により価電子帯と伝導帯にそれぞれ正孔と電子が生成するが、伝導帯が酸素の酸化還元準位よりも低い位置にある為、伝導帯に励起された電子では酸素の還元はできず、活性酸素種の生成量が不十分なものとなる。その為、酸化タングステンは可視光線が照射され、紫外線が照射されない環境下では、高い光触媒活性は示さなかった。
これまでに、酸化タングステン膜の上にＰｔ等の貴金属を製膜することにより、アセトアルデヒドの分解中間体を効率よく分解する光触媒体が開示されているが、十分な光触媒活性が得られず、更に調製に高価な装置が必要である等の不具合があった（特許文献１：特開２００１−０３８２１７号公報（特許第３８８７５１０号公報））。
特開２００１−０３８２１７号公報
本発明の課題は、紫外光が照射されない環境下であっても、可視光線を照射することによって高い光触媒作用を示す酸化タングステン光触媒体を提供することにある。
本発明者等は、光触媒用途に好適な酸化タングステン光触媒体について鋭意検討した結果、本発明に至った。
すなわち本発明は、酸化タングステン粒子の表面に一次粒子径３ｎｍ〜２０ｎｍのＰｔ粒子が、酸化タングステン粒子１００重量部あたり０．０３〜５重量担持されてなる酸化タングステン光触媒体を提供するものである。
本発明の酸化タングステン光触媒体は、可視光照射下で高い光触媒活性を示して有機化合物を酸化分解することができる。
本発明の酸化タングステン光触媒体は、酸化タングステン粒子の表面にＰｔ粒子が担持されてなる。
Ｐｔ粒子は、粒子状の白金メタルであって、その一次粒子径は、３ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上で、２０ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以下である。この一次粒子は凝集粒子を形成してもよく、この場合、凝集粒子の粒子径は１０ｎｍ以上、３０ｎｍ以下が好ましい。Ｐｔ粒子の一次粒子径が３ｎｍ未満の場合、酸化タングステンの伝導帯から酸素への電子の効率的な移動が起こり難くなる為に、光触媒活性は低くなる。またＰｔ粒子の一次粒子径が２０ｎｍを超える場合、酸化タングステン粒子の表面にＰｔを担持することが困難となり、光触媒活性が低下する。
Ｐｔ粒子の担持量は、酸化タングステン粒子１００重量部あたり０．０３重量部以上、好ましくは０．０５重量部以上、より好ましくは０．１重量部以上であり、５重量部以下、好ましくは３重量部以下、より好ましくは１重量部以下である。担持量が０．０３重量部未満では、担持されるＰｔ粒子の量が少なくなり、還元される酸素の量が不十分な為、高い光触媒活性が得られない。また５重量部を超える場合、酸化タングステン粒子の表面を覆うＰｔ粒子が多くなり、酸化タングステン粒子による光の吸収量が少なくなる為、光触媒活性は低くなる。
Ｐｔ粒子は、酸化タングステン粒子の表面の少なくとも一部において、互いに接した状態で、それぞれ独立して担持されていて、数珠状に連なっていることが好ましい。このように、数珠状に連なることにより、高い触媒活性を示すようになり、しかも光触媒反応の分解中間体の分解を促進する。
本発明の酸化タングステン光触媒体を構成する酸化タングステン粒子は、酸化タングステンからなる粒子であって、その凝集粒子径の累積粒度分布の微粒側から累積５０％の粒子径をＤ５０としたとき、Ｄ５０が、０．０１μｍ以上、好ましくは０．０５μｍ以上、５μｍ以下、好ましくは１μｍ以下である。Ｄ５０が０．０１μｍ未満の場合、Ｐｔ粒子を担持後、洗浄工程や乾燥工程で硬い凝集粒子ができる為、製造上不具合を生じることがある。またＤ５０が５μｍを超える場合、Ｐｔ粒子を酸化タングステン粒子上に本発明で規定する一次粒子径で担持させることが困難となり、得られる酸化タングステン光触媒体の光触媒活性は低くなる。
酸化タングステン粒子は、その粒度分布として、累積粒度分布の微粒側から累積１０％、累積９０％の粒子径をそれぞれＤ１０、Ｄ９０としたとき、Ｄ９０／Ｄ１０の値は、１以上、１０以下、好ましくは６以下である。Ｄ９０／Ｄ１０が１０を超える場合、粒子径の大きな酸化タングステン粒子が混在し、Ｐｔ粒子を酸化タングステン粒子上に本発明で規定する粒子径で担持させるのが困難となり、得られる酸化タングステン光触媒体の光触媒活性は低くなる。
酸化タングステン粒子の一次粒子径は、５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上で、１５０ｎｍ以下、好ましくは１２０ｎｍ以下である。一次粒子径が５ｎｍ未満の場合、酸化タングステン粒子の結晶性が低下し、結晶格子内に欠陥等が生成しやすい為、光触媒活性は低下する。また１５０ｎｍを超える場合、酸化タングステン粒子の表面積が小さくなり、反応物質の酸化タングステン光触媒体の表面への吸着量が十分で無いため、光触媒活性が低くなる。
酸化タングステン粒子を構成する酸化タングステンとしては、タングステンが４価と６価の間の価数をもつ複数のものが知られているが、本発明では、かかる酸化タングステン粒子の中でも単独で光触媒活性を示す酸化タングステン粒子を用いることができ、特に粒子状のＷＯ3を用いるのが好ましい。
酸化タングステン粒子の調製方法としては、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウムなどのタングステン酸塩の水溶液を加温し、塩酸や硝酸を混合してタングステン酸を得た後、洗浄、乾燥、焼成を行って得る方法があげられる。またタングステン酸アンモニウムを熱分解して酸化タングステン粒子を得ることもできる。
本発明の酸化タングステン光触媒体を製造する方法としては、
（ａ）酸化タングステン粒子を、酸化タングステン粒子１００重量部あたりＰｔとして０．０３〜５重量部となるＰｔ化合物を溶解した水溶液中に分散し、
（ｂ）酸化タングステン粒子を光励起しうる可視光線を照射した後、
（ｃ）犠牲剤を添加し、
（ｄ）その後、更に可視光線の照射を行う
方法が挙げられる。かかる方法により、Ｐｔ化合物から生成したＰｔ粒子が本発明で規定する一次粒子径で酸化タングステン粒子の表面に担持されて、目的の酸化タングステン光触媒体を得ることができる。
酸化タングステン粒子を分散したＰｔ化合物の水溶液への可視光線の照射は、この分散液を攪拌しながら行ってもよいし、この分散液を透明なガラスやプラスチック製の管に流通させながら行ってもよい。
可視光線を照射する光源としては、波長４１０ｎｍ以上の可視光線を照射しうるものが用いられ、好ましくは波長４１０ｎｍ未満の紫外光を実質的に照射することなく、上記可視光を照射し得るものである。かかる光源としては酸化タングステン粒子を光励起できる可視光線を照射できれば特に制限はないが、波長４１０ｎｍ未満の光をカットする光学フィルターを装着したキセノンランプ、発光ダイオード、蛍光灯、ハロゲンランプ、水銀灯などを用いることができる。またこの光学フィルターを通して、太陽光線を照射することも勿論可能である。波長４１０ｎｍ未満の紫外光を実質的に照射しないことにより、Ｐｔ粒子が、酸化タングステン粒子の表面の少なくとも一部において数珠状に連なった光触媒体を得ることができる。
可視光線を照射する時間は、通常３０分以上、好ましくは１時間以上、通常２４時間以下、好ましくは６時間以下である。可視光線の照射時間が３０分未満の場合、Ｐｔ粒子の担持量が少なくなり、光触媒活性は低下する。また２４時間を越える場合、それまでにＰｔ化合物の殆どはＰｔ粒子となって担持されてしまい、可視光線の照射にかかるコストに見合う光触媒活性が得られない。
上記製造方法では、可視光を照射した後に、犠牲剤を添加し、その後更に可視光の照射を行う。酸化タングステン粒子を予め犠牲剤を含むＰｔ化合物の水溶液中に分散させ、可視光線を照射すると、酸化タングステン粒子の表面へのＰｔの析出は極めて速く起こり、Ｐｔ粒子の粒子径を制御できない為、得られる酸化タングステン光触媒体の光触媒活性は低下する。
更に、酸化タングステン粒子をＰｔ化合物を含む水溶液に浸し、水分を除去した後、焼成することで、Ｐｔ粒子を酸化タングステン粒子の表面に担持する方法も知られている。しかし、この方法でもＰｔ粒子の粒子径を制御することはできない為、得られる光触媒体の光触媒活性は低下する。
犠牲剤としては、酸化タングステン粒子を光照射した際に、酸化タングステンの価電子帯に生成する正孔の光触媒作用により、容易に酸化分解するものが用いられ、例えばエタノール、メタノール、プロパノール等のアルコール、アセトン等のケトン、蓚酸等のカルボン酸等が用いられる。これらの犠牲剤は、少なくとも３０分以上可視光線を照射した後に添加される。犠牲剤が固体の場合、この犠牲剤を適用な溶媒に添加して用いてもよいし、固体のまま用いてもよい。
Ｐｔ化合物としては、塩化白金（ＰｔＣｌ2、ＰｔＣｌ4）、臭化白金（ＰｔＢｒ2、ＰｔＢｒ4）、沃化白金（ＰｔＩ2、ＰｔＩ4）、塩化白金カリウム（Ｋ2ＰｔＣｌ4）、ヘキサクロロ白金酸（Ｈ2ＰｔＣｌ6）、亜硫酸白金（Ｈ3Ｐｔ(ＳＯ3)2(ＯＨ)）、酸化白金（ＰｔＯ2）、塩化テトラアンミン白金（Ｐｔ(ＮＨ3)4Ｃｌ2）、テトラアンミン白金りん酸水
素（Ｐｔ(ＮＨ3)4ＨＰＯ4）、水酸化テトラアンミン白金（Ｐｔ(ＮＨ3)4(ＯＨ)2）、硝酸テトラアンミン白金（Ｐｔ(ＮＯ3)2(ＮＨ3)4）、テトラアンミン白金テトラクロロ白金（
(Ｐｔ(ＮＨ3)4)(ＰｔＣｌ4)）などが挙げられる。
犠牲剤を添加した後に、更に可視光線を照射することにより、酸化タングステン粒子が可視光線により励起され、その表面にＰｔ化合物がＰｔ粒子として本発明で規定する粒子径で担持される。
このようにしてＰｔ粒子を酸化タングステン粒子の表面に担持した後、この酸化タングステン粒子を水で洗浄することが好ましい。洗浄をすることにより、酸化タングステン粒子の表面に付着した、光触媒活性を阻害する成分を洗い流すことができ、光触媒活性を向上させることができる。更に洗浄後、室温〜１５０℃までの温度の範囲で乾燥することが好ましい。
本発明の酸化タングステン光触媒体は、必要に応じて吸着性や光触媒活性を更に向上させる目的で、種々の添加剤と混合して用いることができる。添加剤としては、例えば非晶質シリカ、シリカゾル、水ガラス、オルガノポリシロキサンのような珪素化合物、非晶質アルミナ、アルミナゾル、水酸化アルミニウムのようなアルミニウム化合物、ゼオライト、カオリナイトのようなアルミノ珪酸塩、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウムおよび水酸化バリウムのようなアルカリ土類金属(水)酸化物、リン酸カルシウム、モレキュラーシーブ、活性炭、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｔｃ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅのような金属元素の水酸化物や、これらの金属元素の酸化物、有機ポリシロキサン化合物の重縮合物、リン酸塩、フッ素系ポリマー、シリコン系ポリマー、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂などが挙げられる。これらはそれぞれ単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の酸化タングステン光触媒体は、水やアルコール等の有機溶媒中に分散させてコーティング液として使用することができる。必要に応じて、酸化タングステン光触媒体の分散性を向上させる目的で、分散剤を添加してもよい。更に、塗膜にしたときの機材との密着性を向上させる目的で、公知の無機系バインダー、有機系バインダーを添加することもできる。
このコーティング液は、例えば、このコーティング液を壁、天井、窓ガラス、タイル等に塗布し、可視光線を多く含む蛍光灯、ハロゲンランプ、キセノンランプ、発光ダイオード、太陽光線等を照射すればよい。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本発明における、各種の測定はつぎのようにして行った。
（１）ＢＥＴ比表面積
酸化タングステン粒子のＢＥＴ比表面積を「ＮＯＶＡ１２００ｅ」（ユアサアイオニクス製）で窒素吸着法によって測定した。
（２）酸化タングステン粒子の一次粒子径の測定
酸化タングステン粒子の一次粒子径はＢＥＴ比表面積から求めた。粉末のＢＥＴ比表面積の値をＳ（ｍ2／ｇ）、粒子の密度をρ（ｇ／ｃｍ3）とすると、一次粒子径ｄ（μｍ）は、ｄ＝６／（Ｓ×ρ）の式で計算される。但し、一次粒子径ｄは、粒子が球形であるとした場合の直径である。酸化タングステン粒子（ＷＯ3）の密度は７．１６ｇ／ｃｍ3とした。
（３）酸化タングステン粒子の凝集粒子径の粒度分布測定
酸化タングステン粒子の凝集粒子の粒度分布は、レーザー回折式粒度分布測定装置（ＳＡＬＤ−７０００、島津製作所製）を用いて測定した。酸化タングステン粒子を純水に分散させて測定し、累積粒度分布の微粒側から累積１０％、累積５０％、累積９０％の粒子径を、それぞれＤ１０、Ｄ５０、Ｄ９０とし、Ｄ５０の値を凝集粒子径とし、粒度分布の尺度として、Ｄ９０／Ｄ１０の値を求めた。
（４）Ｐｔ粒子の粒子径の測定
Ｐｔ粒子の粒子径の測定は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＪＳＭ−７４００Ｆ、日本電子製）を用いて行い、更にエネルギー分散型X線分析装置（ＥＤＸ）を装着した電界放出形電子顕微鏡（ＪＥＭ−２１００Ｆ、日本電子製）にて走査透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）観察して行い、測定された粒子径を一次粒子径とした。
（５）酢酸の分解反応（可視光照射下）
ガラス製容器に５容量％の酢酸水溶液２５０ｍＬを入れ、粒子状の光触媒体５０ｍｇを入れた。１時間暗黒下で攪拌した後、攪拌しながら可視光照射を行い、光触媒作用により酢酸が分解し、その完全分解生成物である二酸化炭素の濃度をガスクロマトグラフィーで定量した。光源には紫外線カットフィルター（Ｌ−４２、旭テクノグラス製）を装着したキセノンランプ（３００Ｗ、Ｃｅｒｍａｘ製）を用いた。
（６）アセトアルデヒドの分解反応（可視光照射下）
ガラス製容器（容量３３０ｍＬ）の底面に、粒子状の光触媒体５０ｍｇを１５ｍｍφのペレット状にしたものを設置し、ガラス容器内を合成空気で満たし、更にアセトアルデヒドを１４．７μｍoｌ注入した。１時間暗黒下で放置した後可視光照射を行い、光触媒作用によりアセトアルデヒドが分解し、その完全分解生成物である二酸化炭素の濃度をガスクロマトグラフィーで定量した。光源には紫外線カットフィルター（Ｌ−４２、旭テクノグラス製）を装着したキセノンランプ（３００Ｗ、Ｃｅｒｍａｘ製）を用いた。
（７）２−プロパノールの分解反応（可視光照射下）
ガラス製容器（容量３３０ｍＬ）の底面に、粒子状の光触媒体５０ｍｇを１５ｍｍ×１５ｍｍに広げ、ガラス容器内を合成空気で満たし、更に２−プロパノールを１９μｍｏｌ注入した。２−プロパノールを注入後、直ぐに可視光照射を行い、光触媒作用により２−プロパノールが分解し、その分解中間体であるアセトンと、完全分解生成物である二酸化炭素の濃度をガスクロマトグラフィーで定量した。光源には紫外線カットフィルター（Ｌ−４２、旭テクノグラス製）を装着したキセノンランプ（３００Ｗ、Ｃｅｒｍａｘ製）を用いた。
（８）２−プロパノールの分解反応（暗黒下）
室内光の下、ガラス製容器（容量３３０ｍＬ）の底面に、粒子状の光触媒体５０ｍｇを１５ｍｍ×１５ｍｍに広げ、ガラス容器内を合成空気で満たし、更に２−プロパノールを１９μｍｏｌ注入した。その後、直ちに、このガラス容器を室温、暗黒化に設置し、２−プロパノールの分解中間体であるアセトンの濃度を、ガスクロマトグラフィーで定量した。
（９）ギ酸の分解反応（暗黒下）
室内光の下、ガラス製容器（容量３３０ｍＬ）の底面に、粒子状の光触媒体５０ｍｇを１５ｍｍ×１５ｍｍに広げ、ガラス容器内を合成空気で満たし、更にギ酸を５３μｍｏｌ注入した。その後、直ちに、このガラス容器を室温、暗黒化に設置し、ギ酸の完全分解生成物である二酸化炭素の濃度をガスクロマトグラフィーで定量した。
実施例１
市販の粒子状の酸化タングステン（ＷＯ3、純度９９．９９％、高純度化学製）の粒度分布を粒度分布測定器（島津製）で測定したところ、Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０はそれぞれ０．０４６μｍ、０．２１５μｍ、５．７２６μｍであった。ここからＤ９０／Ｄ１０は１２４であった。またＢＥＴ表面積は６．０ｍ2／ｇで、ここから一次粒子径は１４０ｎｍであった。
この酸化タングステン粒子４ｇを水５０ｍＬに分散し、５分間超音波照射を行った後に、１０００ｒｐｍの回転速度で１０分間遠心分離機（Ｈ-２０１Ｆ、コクサン製）にて粒子径の大きな粒子を沈降させて分離した。水に分散している粒子の粒子分布を測定したところ、Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０はそれぞれ０．０７４μｍ、０．１３１μｍ、０．３６５μｍであった。ここからＤ９０／Ｄ１０は４．９３であった。またＢＥＴ表面積は８．５ｍ2／ｇで、ここから一次粒子径は９９ｎｍであった。得られた酸化タングステン粒子０．５ｇを水５０ｍＬに分散し、そこにＰｔが酸化タングステン粒子１００重量部に対して０．５重量部となるように濃度０．０１９ｍｏｌ／Ｌのヘキサクロロ白金酸水溶液（Ｈ2ＰｔＣｌ6）を入れて、攪拌しながら可視光線を２時間照射した。光源には紫外線カットフィルター（Ｌ−４２、旭テクノグラス製）を装着したキセノンランプ（３００Ｗ、Ｃｅｒｍａｘ製）を用いた。その後上の酸化タングステン粒子の分散液にメタノール５ｍＬを加えて、引き続き攪拌しながら上記と同様にして可視光線の照射を２時間行った。その後濾過、水洗浄、１２０℃で乾燥することにより、粒子状のＰｔ担持酸化タングステン光触媒体を得た。得られた光触媒体の表面をＳＥＭおよびＳＴＥＭで観察した。図１〜図２にＳＥＭ写真を、図３にＳＴＥＭ写真をそれぞれ示す。ＳＥＭおよびＳＴＥＭ観察により、酸化タングステン粒子の表面に粒子径１０〜２０ｎｍの粒子が担持され（図１および図２のＳＥＭ写真）、さらにその一部では、複数の粒子が互いに接した状態で、それぞれ独立して表面に担持されていた（図３のＳＴＥＭ写真）。更にこれらの粒子をＳＴＥＭ−ＥＤＸ観察したところ、これらの粒子は、一次粒子径が５ｎｍのＰｔ粒子からなるものであることがわかった。
この光触媒体を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は１９０μｍｏｌ／ｈであった。
上記で得た光触媒体を用いて、可視光照射下でのアセトアルデヒドの分解反応を行ったところ、光照射開始０〜３０分の間の二酸化炭素の生成量は１２．４μｍｏｌで、３０〜６０分の間の二酸化炭素の生成量は１３．２μｍｏｌで、６０〜９０分の間の二酸化炭素の生成量は０．３μｍｏｌであった。光照射開始後５５分でアセトアルデヒドの濃度は０μｍｏｌになった。アセトアルデヒドの減少量と生成した二酸化炭素の量から、アセトアルデヒドは完全に分解したことがわかった。
上記で得た光触媒体を用いて、２−プロパノールの分解反応を行った。暗黒下では、反応容器に２−プロパノールを注入後、７０分で２−プロパノールは０μｍｏｌとなり、分解中間体であるアセトンが１２μｍｏｌ生成したが、完全分解生成物である二酸化炭素は生成しなかった。また光照射下では、反応容器に２−プロパノールを注入後、直ぐに可視光照射を行うと、２０分後に２−プロパノールは０μｍｏｌとなって、アセトンが９．４μｍｏｌ、二酸化炭素が２．７μｍｏｌ、それぞれ生成し、更に可視光照射を続けると、可視光照射８０分後にアセトンが０μｍｏｌとなり、二酸化炭素の生成量は４６μｍｏｌとなった。
上記で得た光触媒体を用いて、暗黒下でのギ酸の分解反応を行ったところ、ギ酸注入２８分後にはギ酸は０μｍｏｌとなり、完全分解生成物である二酸化炭素の生成量が５１ｐｐｍとなった。
実施例２
実施例１で遠心分離機により沈降した酸化タングステン粒子を用いた他は、実施例１と同じ方法で、粒子状のＰｔ担持酸化タングステン光触媒体を得た。この酸化タングステン粒子の粒子分布を測定したところ、Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０はそれぞれ７．３２０μｍ、１２．１５９μｍ、１７．００７μｍであった。ここからＤ９０／Ｄ１０は２．３２であった。またＢＥＴ表面積は４．８ｍ2／ｇで、ここから一次粒子径は１７５ｎｍであった。
得られた光触媒体の表面をＳＥＭで観察したところ、実施例１と同様に、酸化タングステン粒子の表面に粒子径１０〜２０ｎｍの粒子が担持されていることがわかった。更にこの粒子をＳＴＥＭ−ＥＤＸ観察したところ、一次粒子径が５ｎｍのＰｔ粒子からなる凝集粒子であることがわかった。
この光触媒体を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は１２０μｍｏｌ／ｈであった。
実施例３
Ｐｔが酸化タングステン粒子１００重量部に対して０．０５重量部となるようにヘキサクロロ白金酸水溶液を用いた他は、実施例１と同じ方法でＰｔ担持酸化タングステン粒子を調製した。得られた光触媒体の表面をＳＥＭで観察したところ、実施例１と同様の粒子径１０〜２０ｎｍのＰｔ粒子が、酸化タングステン粒子の表面に担持されていることがわかった。
この光触媒体を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は７０μｍｏｌ／ｈであった。
上記で得た光触媒体を用いて、可視光照射下でのアセトアルデヒドの分解反応を行ったところ、光照射開始０〜３０分の間の二酸化炭素の生成量は１０．６μｍｏｌで、３０〜６０分の間の二酸化炭素の生成量は５．０μｍｏｌで、６０〜９０分の間の二酸化炭素の生成量は４．２μｍｏｌであった。光照射開始後２００分でアセトアルデヒドの濃度が０．３μｍｏｌ以下になった。
実施例４
Ｐｔが酸化タングステン粒子１００重量部に対して０．１重量部となるようにヘキサクロロ白金酸水溶液を用いた他は、実施例１と同じ方法でＰｔ担持酸化タングステン粒子を調製した。得られた光触媒体の表面をＳＥＭで観察したところ、実施例１と同様の粒子径１０〜２０ｎｍのＰｔ粒子が、酸化タングステン粒子の表面に担持されていることがわかった。
この光触媒体を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は１１０μｍｏｌ／ｈであった。
上記で得た光触媒体を用いて、可視光照射下でのアセトアルデヒドの分解反応を行ったところ、光照射開始０〜３０分の間の二酸化炭素の生成量は１５．７μｍｏｌで、３０〜６０分の間の二酸化炭素の生成量は１１．３μｍｏｌで、６０〜９０分の間の二酸化炭素の生成量は１．８μｍｏｌであった。光照射開始後５５分でアセトアルデヒドの濃度は０μｍｏｌになった。アセトアルデヒドの減少量と生成した二酸化炭素の量から、アセトアルデヒドは完全に分解したことがわかった。
実施例５
Ｐｔが酸化タングステン粒子１００重量部に対して０．２重量部となるようにヘキサクロロ白金酸水溶液を用いた他は、実施例１と同じ方法でＰｔ担持酸化タングステン粒子を調製した。得られた光触媒体の表面をＳＥＭで観察したところ、実施例１と同様の粒子径１０〜２０ｎｍのＰｔ粒子が、酸化タングステン粒子の表面に担持されていることがわかった。
この光触媒体を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は１６０μｍｏｌ／ｈであった。
上記で得た光触媒体を用いて、可視光照射下でのアセトアルデヒドの分解反応を行ったところ、光照射開始０〜３０分の間の二酸化炭素の生成量は１０．４μｍｏｌで、３０〜６０分の間の二酸化炭素の生成量は８．７μｍｏｌで、６０〜９０分の間の二酸化炭素の生成量は７．８μｍｏｌであった。光照射開始後７５分でアセトアルデヒドの濃度は０μｍｏｌになった。アセトアルデヒドの減少量と生成した二酸化炭素の量から、アセトアルデヒドは完全に分解したことがわかった。
実施例６
Ｐｔが酸化タングステン粒子１００重量部に対して１．０重量部となるようにヘキサクロロ白金酸水溶液を用いた他は、実施例１と同じ方法でＰｔ担持酸化タングステン粒子を調製した。得られた光触媒体の表面をＳＥＭで観察したところ、実施例１と同様の粒子径１０〜２０ｎｍのＰｔ粒子が、酸化タングステン粒子の表面に担持されていることがわかった。
この光触媒体を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は２３０μｍｏｌ／ｈであった。
上記で得た光触媒体を用いて、可視光照射下でのアセトアルデヒドの分解反応を行ったところ、光照射開始０〜３０分の間の二酸化炭素の生成量は５．２μｍｏｌで、３０〜６０分の間の二酸化炭素の生成量は４．９μｍｏｌで、６０〜９０分の間の二酸化炭素の生成量は４．４μｍｏｌであった。光照射開始後１３０分でアセトアルデヒドの濃度は０μｍｏｌになった。アセトアルデヒドの減少量と生成した二酸化炭素の量から、アセトアルデヒドは完全に分解したことがわかった。
実施例７
Ｐｔが酸化タングステン粒子１００重量部に対して２．０重量部となるようにヘキサクロロ白金酸水溶液を用いた他は、実施例１と同じ方法でＰｔ担持酸化タングステン粒子を調製した。得られた光触媒体の表面をＳＥＭで観察したところ、実施例１と同様の粒子径１０〜３０ｎｍのＰｔ粒子が、酸化タングステン粒子の表面に担持されていた。
この光触媒体を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は２１５μｍｏｌ／ｈであった。
上記で得た光触媒体を用いて、可視光照射下でのアセトアルデヒドの分解反応を行ったところ、光照射開始０〜３０分の間の二酸化炭素の生成量は５．９μｍｏｌで、３０〜６０分の間の二酸化炭素の生成量は８．５μｍｏｌで、６０〜９０分の間の二酸化炭素の生成量は９．９μｍｏｌであった。光照射開始後８５分でアセトアルデヒドの濃度は０μｍｏｌになった。アセトアルデヒドの減少量と生成した二酸化炭素の量から、アセトアルデヒドは完全に分解したことがわかった。
実施例８
Ｐｔが酸化タングステン粒子１００重量部に対して３．０重量部となるようにヘキサクロロ白金酸水溶液を用いた他は、実施例１と同じ方法でＰｔ担持酸化タングステン粒子を調製した。得られた光触媒体の表面をＳＥＭで観察したところ、実施例１と同様の粒子径１０〜３０ｎｍのＰｔ粒子が、酸化タングステン粒子の表面に担持されていたが、更に大きな凝集粒子を形成しているＰｔ粒子も存在した。
この光触媒体を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は１４２μｍｏｌ／ｈであった。
上記で得た光触媒体を用いて、可視光照射下でのアセトアルデヒドの分解反応を行ったところ、光照射開始０〜３０分の間の二酸化炭素の生成量は３．５μｍｏｌで、３０〜６０分の間の二酸化炭素の生成量は３．６μｍｏｌで、６０〜９０分の間の二酸化炭素の生成量は２．９μｍｏｌであった。光照射開始後１９５分でアセトアルデヒドの濃度は０μｍｏｌになった。アセトアルデヒドの減少量と生成した二酸化炭素の量から、アセトアルデヒドは完全に分解したことがわかった。
比較例１
Ｐｔを担持していない他は、実施例１と同じ方法で粒子状の酸化タングステン光触媒体を得た。この光触媒体を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は８μｍｏｌ／ｈであった。
上記で得た光触媒体を用いて、可視光照射下でのアセトアルデヒドの分解反応を行ったところ、光照射開始０〜３０分の間の二酸化炭素の生成量は７．２μｍｏｌで、３０〜６０分の間の二酸化炭素の生成量は１．１μｍｏｌで、６０〜９０分の間の二酸化炭素の生成量は０．１μｍｏｌであった。二酸化炭素の生成速度は、光照射後直ぐは速かったが、その後生成する二酸化炭素の量が、生成しうる理論量の半分の量に近づくにつれて急激に低下した。光照射４００分後のアセトアルデヒドの濃度は２．９μｍｏｌであった。
上記で得た光触媒体を用いて、２−プロパノールの分解反応を行った。暗黒下では、反応容器に２−プロパノールを注入後、７０分で２−プロパノールは１６μｍｏｌとなり、分解中間体であるアセトンと完全分解生成物である二酸化炭素は生成しなかった。また光照射では、反応容器に２−プロパノールを注入後、直ぐに可視光照射を行うと、２００分後に２−プロパノールは０μｍｏｌとなって、アセトンが８．９μｍｏｌと、二酸化炭素が１．０μｍｏｌ生成した。更に、可視光照射を行うと、可視光照射１４４０分後にアセトンが０μｍｏｌとなり、二酸化炭素の生成量は１９μｍｏｌとなった。
比較例２
実施例１の市販の酸化タングステン粉末を、遠心分離操作を施さずにヘキサクロロ白金酸水溶液に加えてよく混合した後、８０℃で乾燥して、更に５００℃で３０分空気中で焼成した。Ｐｔの担持量は酸化タングステン粒子１００重量部に対して０．５重量部であった。得られた光触媒体の表面をＳＥＭで観察したところ、酸化タングステン粒子の表面には実施例１でみられたような粒子は観測されなかった。ＳＥＭ写真を図４に示した。そこで更に酸化タングステン粒子の表面をＳＴＥＭ−ＥＤＸ観察したところ、Ｐｔは一次粒子径が２ｎｍ以下のＰｔ粒子からなる粒子径１０ｎｍ未満の凝集粒子として担持されていることがわかった。なお、複数の粒子が互いに接した状態で、それぞれ独立して表面に担持されているＰｔ粒子は見出せなかった。
この光触媒体を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は５０μｍｏｌ／ｈであった。
上記で得た光触媒体を用いて、２−プロパノールの分解反応を行った。暗黒下では、反応容器に２−プロパノールを注入後、７０分で２−プロパノールは１０μｍｏｌとなり、分解中間体であるアセトンと完全分解生成物である二酸化炭素は生成しなかった。また光照射下では、反応容器に２−プロパノールを注入後、直ぐに可視光照射を行うと、１７０分後に２−プロパノールは０μｍｏｌとなり、アセトンが９．４μｍｏｌと、完全分解生成物である二酸化炭素が１．０μｍｏｌ生成した。更に可視光照射を行うと、可視光照射６００分後にアセトンが０μｍｏｌとなり、二酸化炭素の生成量は３８μｍｏｌとなった。
さらに、上記で得た光触媒体を用いて、暗黒下でのギ酸の分解反応に用いたところ、６０分後にはギ酸が４．２μｍｏｌとなり、完全分解生成物である二酸化炭素の生成量が５．１μｍｏｌとなった。
比較例３
Ｐｔが酸化タングステン粒子１００重量部に対して０．０１重量部となるようにヘキサクロロ白金酸水溶液を用いた他は、実施例１と同じ方法でＰｔ担持酸化タングステン粒子を調製した。得られた光触媒体の表面をＳＥＭで観察したところ、実施例１でみられたような、粒子径１０〜２０ｎｍのＰｔ粒子が、酸化タングステン粒子の表面に担持されていることがわかった。
この光触媒体を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は１６μｍｏｌ／ｈであった。
上記で得た光触媒体を用いて、可視光照射下でのアセトアルデヒドの分解反応を行ったところ、光照射開始０〜３０分の間の二酸化炭素の生成量は１１．１μｍｏｌで、３０〜６０分の間の二酸化炭素の生成量は１．６μｍｏｌで、６０〜９０分の間の二酸化炭素の生成量は０．８μｍｏｌであった。比較例４と同様に、二酸化炭素の生成速度は光照射後直ぐは速かったが、その後生成する二酸化炭素の量が、生成しうる理論量の半分の量に近づくにつれて急激に低下した。光照射２７０分後のアセトアルデヒドの濃度は０．２μｍｏｌであった。
実施例９（紫外光を利用した光電着）
実施例１で用いたと同じ市販の粉末状酸化タングステン（純度９９．９９％、高純度化学製）０．５ｇを、濃度５容量％のメタノール水溶液５０ｍＬに分散し、そこにＰｔが酸化タングステン粒子１００重量部に対して０．５重量部となるように濃度０．０１９ｍｏｌ／Ｌのヘキサクロロ白金酸水溶液（Ｈ2ＰｔＣｌ6）を入れて、攪拌しながら紫外線と可視光線を含む光を３０分間照射した。光源には高圧水銀灯（４００Ｗ）を用いた。その後濾過、水洗浄、１２０℃で乾燥することにより、粒子状のＰｔ担持酸化タングステン光触媒体を得た。得られた光触媒体の表面をＳＥＭで観察したところ、実施例１と同様に、酸化タングステン粒子の表面に粒子径１０〜２０ｎｍの粒子が担持されていることがわかった。また、この光触媒体のＳＴＥＭ観察したところ、実施例１でみられたような、複数の粒子が互いに接した状態で、それぞれ独立して表面に担持されたＰｔ粒子は観測されなかった。
この光触媒体を用いて、２−プロパノールの分解反応を行った。暗黒下での反応では、反応容器に２−プロパノールを注入後、７０分で２−プロパノールは９．０μｍｏｌとなり、分解中間体であるアセトンは６．０μｍｏｌ生成したが、完全分解生成物である二酸化炭素は生成しなかった。また光照射下での反応では、反応容器に２−プロパノールを注入後、直ぐに可視光照射を行うと、８０分後に２−プロパノールは０μｍｏｌとなり、アセトンが８．９μｍｏｌと、である二酸化炭素が０．５μｍｏｌ生成した。更に可視光照射を行うと、可視光照射１７２分後にアセトンが０μｍｏｌとなり、二酸化炭素の生成量は４２μｍｏｌとなった。
更に、この光触媒体を用いて、暗黒下でのギ酸の分解反応を行ったところ、ギ酸注入６０分後にはギ酸は３．７μｍｏｌとなり、完全分解生成物である二酸化炭素の生成量が４．２μｍｏｌとなった。
実施例１〜実施例８において、酢酸の分解反応は水溶液中で行ったが、この反応に最適なＰｔの担持量は１重量％であった。これに対して、アセトアルデヒドの分解反応は気相中で行ったが、この反応に最適なＰｔの担持量は０．１重量％であった。この違いは、気相中での分解反応は、水溶液中に比べて酸素が大量に存在する為、少ないＰｔ粒子の担持量で十分な量の酸素を還元することができ、活性酸素種を大量に生成することができた為であると考えられる。
実施例１で得た酸化タングステン光触媒体の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真である。 図１のＳＥＭ写真の一部の拡大写真である。 実施例１で得た酸化タングステン光触媒体の他の部分の走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）写真である。 比較例２で得た酸化タングステン光触媒体のＳＥＭ写真である。

Claims (2)

  1. （ａ）酸化タングステン粒子を、酸化タングステン粒子１００重量部あたりＰｔとして０．０３〜５重量部となるＰｔ化合物を溶解した水溶液中に分散し、
    （ｂ）酸化タングステン粒子を光励起しうる波長範囲の可視光線を照射した後、
    （ｃ）犠牲剤を添加し、
    （ｄ）その後更に可視光線の照射を行うことを特徴とする光触媒体の製造方法。
  2. 更に可視光線の照射を行った後、（ｅ）水で洗浄する
    請求項１に記載の製造方法。
JP2011051111A 2007-03-30 2011-03-09 酸化タングステン光触媒体 Expired - Fee Related JP5258917B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011051111A JP5258917B2 (ja) 2007-03-30 2011-03-09 酸化タングステン光触媒体

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007091200 2007-03-30
JP2007091200 2007-03-30
JP2007320556 2007-12-12
JP2007320556 2007-12-12
JP2011051111A JP5258917B2 (ja) 2007-03-30 2011-03-09 酸化タングステン光触媒体

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008077964A Division JP4772818B2 (ja) 2007-03-30 2008-03-25 酸化タングステン光触媒体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011104592A true JP2011104592A (ja) 2011-06-02
JP5258917B2 JP5258917B2 (ja) 2013-08-07

Family

ID=39708710

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008077964A Expired - Fee Related JP4772818B2 (ja) 2007-03-30 2008-03-25 酸化タングステン光触媒体
JP2011051111A Expired - Fee Related JP5258917B2 (ja) 2007-03-30 2011-03-09 酸化タングステン光触媒体

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008077964A Expired - Fee Related JP4772818B2 (ja) 2007-03-30 2008-03-25 酸化タングステン光触媒体

Country Status (8)

Country Link
US (1) US8017238B2 (ja)
EP (1) EP1977824A3 (ja)
JP (2) JP4772818B2 (ja)
KR (1) KR20080089235A (ja)
CN (1) CN101274276B (ja)
AU (1) AU2008201439A1 (ja)
CA (1) CA2627708A1 (ja)
TW (1) TW200914128A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018092707A (ja) * 2016-11-30 2018-06-14 三洋電機株式会社 正極板の製造方法及び非水電解質二次電池の製造方法、並びに非水電解質二次電池
JP6681639B1 (ja) * 2019-03-20 2020-04-15 株式会社セラフト 酸化タングステン粒子を核とする光触媒体の製造方法
WO2020188860A1 (ja) * 2019-03-20 2020-09-24 株式会社セラフト 酸化タングステン粒子を核とする光触媒体及びこれを用いた光触媒部材

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4355945B2 (ja) * 2004-11-08 2009-11-04 住友金属鉱山株式会社 近赤外線吸収繊維およびこれを用いた繊維製品
WO2009096177A1 (ja) * 2008-01-28 2009-08-06 Kabushiki Kaisha Toshiba 可視光応答型光触媒粉末とそれを用いた可視光応答型の光触媒材料、光触媒塗料、光触媒製品
JP5641926B2 (ja) * 2008-03-04 2014-12-17 株式会社東芝 水系分散液とそれを用いた塗料
JP4987781B2 (ja) * 2008-03-31 2012-07-25 株式会社東芝 光触媒体
KR101238010B1 (ko) 2008-09-10 2013-03-04 엘지디스플레이 주식회사 백라이트 유닛과 이를 이용한 액정표시장치
JP5565791B2 (ja) * 2009-09-18 2014-08-06 独立行政法人産業技術総合研究所 可視光応答性光触媒の改質方法及び改質された可視光応答性光触媒並びに該光触媒を用いた有機物の分解方法と該改質を実施する装置
JP2011092797A (ja) * 2009-10-01 2011-05-12 Sumitomo Chemical Co Ltd 親水化剤、その製造方法および親水性機能製品
JP5512223B2 (ja) * 2009-10-19 2014-06-04 住友化学株式会社 貴金属担持光触媒体粒子分散液、および光触媒体機能製品
US9061272B2 (en) 2010-02-16 2015-06-23 Showa Denko K.K. Tungsten oxide photocatalyst modified with copper ion, and process for production thereof
CN102268198B (zh) * 2011-05-26 2013-02-27 上海梅思泰克生态科技有限公司 纳米贵金属改性的氧化钨光触媒涂料及其制备方法
JP5209130B2 (ja) 2011-06-07 2013-06-12 昭和電工株式会社 酸化タングステン系光触媒、及びその製造方法
JP5894451B2 (ja) * 2012-02-03 2016-03-30 株式会社東芝 消臭機能付きシート
US10391482B2 (en) 2013-07-05 2019-08-27 Nitto Denko Corporation Transparent photocatalyst coating and methods of manufacturing the same
EP3016689B1 (en) 2013-07-05 2021-03-10 Nitto Denko Corporation Filter element for decomposing contaminants, system for decomposing contaminants and method using the system
US9587877B2 (en) 2013-07-09 2017-03-07 Nitto Denko Corporation Organic electroluminescent device having a photocatalyst layer
CN105873677A (zh) 2014-01-28 2016-08-17 夏普株式会社 光催化剂材料及其制造方法
JP6175577B2 (ja) 2014-05-28 2017-08-02 日東電工株式会社 ガスセンサ素子
JP6276123B2 (ja) * 2014-07-04 2018-02-07 シャープ株式会社 光触媒材料
KR101905225B1 (ko) * 2014-08-06 2018-10-08 (주)엘지하우시스 광촉매 기능성 필름 및 이의 제조방법
CN106794450B (zh) 2014-08-29 2020-12-25 日东电工株式会社 光催化涂层及其制备方法
WO2016040667A1 (en) 2014-09-10 2016-03-17 Nitto Denko Corporation Improved air purification system and method for removing formaldehyde
US10556230B2 (en) 2015-05-29 2020-02-11 Nitto Denko Corporation Photocatalyst coating
KR102271842B1 (ko) * 2017-07-14 2021-07-01 주식회사 엘지화학 산화텅스텐의 제조방법
JP7115900B2 (ja) * 2018-04-26 2022-08-09 シャープ株式会社 光触媒層、光触媒体、及び光触媒体の製造方法
WO2020022594A1 (ko) * 2018-07-26 2020-01-30 (주)엘지하우시스 가시광 활성 촉매 분말
KR102395008B1 (ko) * 2018-07-26 2022-05-09 (주)엘엑스하우시스 가시광 활성 촉매 분말
KR102446719B1 (ko) * 2018-11-28 2022-09-26 (주)엘엑스하우시스 황 화합물 정화 촉매
CN112007698A (zh) * 2019-05-28 2020-12-01 夏普株式会社 组成物、涂覆方法和多层结构体
WO2021015563A1 (ko) * 2019-07-24 2021-01-28 주식회사 엘지하우시스 촉매 제조장치
CN111495383B (zh) * 2020-04-22 2023-03-10 陕西延长石油（集团）有限责任公司 一种己二醇与氨气制备己二胺的方法及催化剂
WO2022140681A1 (en) 2020-12-23 2022-06-30 Nitto Denko Corporation Ultraviolet activated photocatalytic materials
CN112871165A (zh) * 2021-02-04 2021-06-01 山东大学 贵金属负载改性的二维wo3纳米片光催化剂的制备方法
CN113070063B (zh) * 2021-03-30 2023-06-20 南通大学 负载金属的三氧化钨基纳米异质结材料的原位合成方法
CN114709428B (zh) * 2022-02-16 2024-04-19 江苏科技大学 一种缺陷钨氧化物/钌纳米颗粒复合型催化剂及其制备方法和应用
CN114849694B (zh) * 2022-06-07 2023-07-21 西北工业大学 一种基于金属负载氧化钨氢化硝基芳烃的催化剂及其制备方法和应用

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001070800A (ja) * 1999-09-07 2001-03-21 Sharp Corp 光触媒膜組成物及びこれを用いた光触媒体
JP2005199187A (ja) * 2004-01-16 2005-07-28 Tokyo Univ Of Science 新規ｚ−スキーム型可視光活性な水の完全分解用光触媒系及び前記触媒を用いた水の完全分解方法
JP2006198464A (ja) * 2005-01-18 2006-08-03 Nippon Shokubai Co Ltd 可視光応答型光触媒およびその製造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU676299B2 (en) * 1993-06-28 1997-03-06 Akira Fujishima Photocatalyst composite and process for producing the same
JP3261959B2 (ja) 1994-12-01 2002-03-04 東陶機器株式会社 光触媒材
JP3887510B2 (ja) 1999-07-28 2007-02-28 シャープ株式会社 光触媒膜及びその製造方法
JP2003007181A (ja) 2001-06-22 2003-01-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd スイッチ装置
JP2005281031A (ja) 2004-03-29 2005-10-13 Sagaken Chiiki Sangyo Shien Center 金属担持二酸化チタンゾルおよびその製造方法
EP1857179A1 (en) * 2005-01-18 2007-11-21 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co. Ltd. Visible light-responsive photocatalyst composition and process for producing the same
JP2006297351A (ja) 2005-04-25 2006-11-02 Showa Denko Kk 光触媒膜及びその製造方法
JP2006305527A (ja) 2005-05-02 2006-11-09 Altis Kk 光触媒粒子、および該光触媒粒子を含有した塗料、並びに光触媒粒子の製造方法
JP2011036770A (ja) * 2009-08-07 2011-02-24 Hokkaido Univ 貴金属担持光触媒体粒子の製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001070800A (ja) * 1999-09-07 2001-03-21 Sharp Corp 光触媒膜組成物及びこれを用いた光触媒体
JP2005199187A (ja) * 2004-01-16 2005-07-28 Tokyo Univ Of Science 新規ｚ−スキーム型可視光活性な水の完全分解用光触媒系及び前記触媒を用いた水の完全分解方法
JP2006198464A (ja) * 2005-01-18 2006-08-03 Nippon Shokubai Co Ltd 可視光応答型光触媒およびその製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018092707A (ja) * 2016-11-30 2018-06-14 三洋電機株式会社 正極板の製造方法及び非水電解質二次電池の製造方法、並びに非水電解質二次電池
JP6681639B1 (ja) * 2019-03-20 2020-04-15 株式会社セラフト 酸化タングステン粒子を核とする光触媒体の製造方法
WO2020188860A1 (ja) * 2019-03-20 2020-09-24 株式会社セラフト 酸化タングステン粒子を核とする光触媒体及びこれを用いた光触媒部材

Also Published As

Publication number Publication date
US20080241542A1 (en) 2008-10-02
US8017238B2 (en) 2011-09-13
JP5258917B2 (ja) 2013-08-07
AU2008201439A1 (en) 2008-10-16
CN101274276B (zh) 2012-12-26
JP2009160566A (ja) 2009-07-23
JP4772818B2 (ja) 2011-09-14
TW200914128A (en) 2009-04-01
EP1977824A3 (en) 2009-02-18
EP1977824A2 (en) 2008-10-08
KR20080089235A (ko) 2008-10-06
CA2627708A1 (en) 2008-09-30
CN101274276A (zh) 2008-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5258917B2 (ja) 酸化タングステン光触媒体
KR101500593B1 (ko) 구리 화합물 담지 산화 티타늄 광촉매 및 그 제조 방법
JP5582527B2 (ja) グラファイト状窒化炭素の製造方法
JP5161555B2 (ja) 酸化タングステン光触媒体の製造方法
US7846864B2 (en) Photocatalyst materials having semiconductor characteristics and methods for manufacturing and using the same
KR101318743B1 (ko) 산화 텅스텐계 광촉매 및 그 제조 방법
WO2018020344A1 (en) Hydrogen production from aqueous alcohol mixtures over noble metal titanium dioxide supported photo-catalysts
TWI476043B (zh) 光觸媒材料及其製造方法
US20120165184A1 (en) Doped catalytic carbonaceous composite materials and uses thereof
Tomova et al. Promoting the oxidative removal rate of oxalic acid on gold-doped CeO2/TiO2 photocatalysts under UV and visible light irradiation
JP2011036770A (ja) 貴金属担持光触媒体粒子の製造方法
JP5067942B2 (ja) 触媒及びその製造方法
JP2010018503A (ja) 高い光触媒活性を示す酸化タングステン
Luu et al. One-step hydrothermal preparation of Ta-doped ZnO nanorods for improving decolorization efficiency under visible light
JP2009131761A (ja) 光触媒体
WO2018119543A1 (es) Método de preparación de un catalizador de nanopartículas de cu2o/tio2; y catalizador de nanopartículas de cu2o/tio2
JP2012106153A (ja) 光触媒体及びその製造方法
AU2003242189B2 (en) Highly active photocatalyst and process for producing the same
JP2015100755A (ja) 光触媒材料及びその作製方法
JP3981757B2 (ja) 光触媒体およびそれを用いてなる光触媒体コーティング剤
JP5015069B2 (ja) 酸化タングステン光触媒体の製造方法
JP5161556B2 (ja) 酸化タングステン光触媒体の製造方法
JP2010188240A (ja) 光触媒体
JP2010069456A (ja) 有機物の酸化方法および触媒の再活性化方法
JP5295668B2 (ja) 光触媒体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110311

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120502

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130416

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130423

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160502

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees