JP2010093858A - 高出力無線周波増幅器及び無線周波増幅回路 - Google Patents
高出力無線周波増幅器及び無線周波増幅回路 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010093858A JP2010093858A JP2010002983A JP2010002983A JP2010093858A JP 2010093858 A JP2010093858 A JP 2010093858A JP 2010002983 A JP2010002983 A JP 2010002983A JP 2010002983 A JP2010002983 A JP 2010002983A JP 2010093858 A JP2010093858 A JP 2010093858A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radio frequency
- source
- gate
- power transistor
- kilowatt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 76
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 32
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 21
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 19
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 5
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 5
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 9
- 238000013461 design Methods 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 6
- TVZRAEYQIKYCPH-UHFFFAOYSA-N 3-(trimethylsilyl)propane-1-sulfonic acid Chemical compound C[Si](C)(C)CCCS(O)(=O)=O TVZRAEYQIKYCPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 4
- 230000001351 cycling effect Effects 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 2
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F3/00—Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
- H03F3/20—Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F3/00—Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
- H03F3/50—Amplifiers in which input is applied to, or output is derived from, an impedance common to input and output circuits of the amplifying element, e.g. cathode follower
- H03F3/505—Amplifiers in which input is applied to, or output is derived from, an impedance common to input and output circuits of the amplifying element, e.g. cathode follower with field-effect devices
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F1/00—Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
- H03F1/56—Modifications of input or output impedances, not otherwise provided for
- H03F1/565—Modifications of input or output impedances, not otherwise provided for using inductive elements
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F3/00—Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
- H03F3/189—High-frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers
- H03F3/19—High-frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers with semiconductor devices only
- H03F3/193—High-frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers with semiconductor devices only with field-effect devices
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F3/00—Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
- H03F3/20—Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers
- H03F3/21—Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers with semiconductor devices only
- H03F3/211—Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers with semiconductor devices only using a combination of several amplifiers
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F2200/00—Indexing scheme relating to amplifiers
- H03F2200/492—A coil being added in the source circuit of a transistor amplifier stage as degenerating element
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F2203/00—Indexing scheme relating to amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements covered by H03F3/00
- H03F2203/50—Indexing scheme relating to amplifiers in which input being applied to, or output being derived from, an impedance common to input and output circuits of the amplifying element, e.g. cathode follower
- H03F2203/5042—Indexing scheme relating to amplifiers in which input being applied to, or output being derived from, an impedance common to input and output circuits of the amplifying element, e.g. cathode follower the source circuit of the follower has one or more coils between source and supply
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Amplifiers (AREA)
Abstract
【解決手段】高電力接地ドレイン共通ソースの無線周波増幅回路は高電圧MOSFETを利用する。入力の無線周波信号は接地に対して、2次巻線がゲートとソースとの間に信号を供給する絶縁変圧器を介して印加される。出力は、接地されたドレインに対してソースから得られる。各MOSFETダイの絶縁無線周波入力ドライブを伴う13.56MHz 3KW電力増幅器の配置は1組のキロワット電力トランジスタすなわちKPTを使用するが、そこでは多数の大面積MOSFETダイが存在し、ダイのドレイン領域はダイ下面の主要部分の上に形成される。ドレイン領域は導電性銅フランジと直接電気的及び熱的に接触している。ソース及びゲート領域は平坦な下面から離れたダイの上に形成される。
【選択図】図1
Description
Claims (33)
- 所定の周波数帯の無線周波電力を増幅するプッシュプル形の高出力無線周波増幅器であって、
第1及び第2のキロワット電力トランジスタ素子であって、前記素子の各々は、
熱及び電気伝導性フランジと、
複数の半導体のダイから構成される複数チップ・アレーであって、前記ダイの各々が平坦な下面を有し、ドレインが前記平坦な下面の大部分の上に形成され、ソース及びゲートが前記平坦な下面から離れた前記ダイの部分に形成される、複数チップ・アレーと、
前記フランジが前記ダイの共通ドレイン端子及び前記ダイのヒートシンクの役目をするように、前記ダイの前記ドレインを前記フランジと熱的及び電気的に直接接触する状態に配置する設置手段と、を含むキロワット電力トランジスタ素子と、
前記無線周波入力端子に結合される第1のスプリッタ手段であって、無線周波入力ドライブ信号を順方向相部分と逆方向相部分に分割する第1のスプリッタ手段と、
前記第1のキロワット電力トランジスタ素子の前記ゲートに供給するために、前記順方向相部分を複数の絶縁信号に分割する第2のスプリッタ手段と、
前記第2のキロワット電力トランジスタ素子の前記ゲートに供給するために、前記逆方向相部分を複数の絶縁信号に分割する第3のスプリッタ手段と、
前記第1のキロワット電力トランジスタ素子の前記半導体ダイの各々のために、前記第2のスプリッタ手段の関連する出力に無線周波結合され、前記第1のキロワット電力トランジスタ素子の前記フランジに対して浮いている、ゲート−ソース入力回路と、
前記第2のキロワット電力トランジスタ素子の前記半導体ダイの各々のために、前記第3のスプリッタ手段の関連する出力に無線周波結合され、前記第2のキロワット電力トランジスタ素子の前記フランジに対して浮いている、ゲート−ソース入力回路と、
増幅無線周波信号を無線周波出力端子に供給するために、増幅無線周波出力を結合するための前記第1及び第2のキロワット電力トランジスタ素子の前記ソースに結合された入力を有する結合器手段と、
直流電圧電源と、
前記第1のキロワット電力トランジスタ素子の前記ソースを前記直流電圧電源に接続するフィルタ手段であって、前記直流電圧電源からの前記増幅無線周波信号を阻止するため、かつ前記直流電圧電源または他の回路から受信される無線周波エネルギーをバイパスするためのフィルタ手段と、を備える高出力無線周波増幅器。 - 前記フィルタ手段が、前記電源と前記キロワット電力トランジスタ素子の前記ソースとの間に直列に接続された無線周波チョーク・コイルを備える請求項1に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記フィルタ手段が、前記無線周波チョーク・コイルと前記ソースとの間のインダクタと、無線周波接地と前記インダクタ及び前記無線周波チョーク・コイルの接合部との間の無線周波シャント・コンデンサと、を含む請求項2に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記フィルタ手段が、インダクタ、無線周波チョーク・コイル、及び抵抗から構成された直列回路を含む請求項1に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記抵抗が、0.01オームの値を有する請求項4に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記インダクタが0.3〜0.5μHのインダクタンスを有し、前記シャント・コンデンサが約0.1〜1.0μFの値を有する請求項3に記載の高出力無線周波増幅器。
- 高電力接地ドレイン共通ソースの無線周波増幅回路であって、
上面を有する熱伝導性フランジと、平坦な下面を有する半導体トランジスタのダイと、を含む高電力、高電圧の大型チップ・トランジスタであって、ドレインが前記下面の主要部分の上に形成され、ソース及びゲートが前記下面から離れた前記ダイの上に形成され、前記ドレインが前記フランジと熱的及び電気的に直接接触する、高電力、高電圧の大型チップ・トランジスタと、
前記ソースに結合される出力回路と、
入力端子と前記ゲートとの間で接続される直流絶縁入力段であって、前記ドレインに対して浮いており、前記入力端子に接続された1次巻線と、前記ゲート及び前記ソース間で結合された絶縁2次巻線と、を含む絶縁変圧器を有する、直流絶縁入力段と、を備える無線周波増幅回路。 - 前記出力回路が、所定の無線周波数帯の無線周波信号を通過させる直流阻止出力段を含む請求項7に記載の無線周波増幅回路。
- 前記ソースを直流電圧電源に結合する無線周波阻止直流給電段を、更に備える請求項8に記載の無線周波増幅回路。
- 前記無線周波阻止直流給電段が、前記ソースに現れる無線周波信号をバイパスさせる無線周波シャント手段を含む請求項9に記載の無線周波増幅回路。
- 前記直流絶縁入力段が、前記2次巻線及び前記ゲートの接続部と、前記ゲートとの間を接続する低値の抵抗を含む請求項7に記載の無線周波増幅回路。
- 前記半導体ダイが前記ソースと前記ゲートとの間の入力インピーダンスを有し、前記抵抗が前記入力インピーダンスより小さい抵抗値を有する請求項11に記載の無線周波増幅回路。
- 前記2次巻線及び前記ゲートの接続部と、前記ドレインとの間で接続されるドレイン−ゲート帰還回路を備える請求項7に記載の無線周波増幅回路。
- 前記ドレイン−ゲート帰還回路が直列に接続された抵抗及びコンデンサを含む請求項13に記載の無線周波増幅回路。
- 前記ソースと前記ゲートとの間に接続され、抵抗値を有するゲート−ソース帰還抵抗を更に備え、
前記半導体トランジスタのダイが、前記ソースと前記ゲートとの間の入力インピーダンスを有し、前記抵抗値は、前記入力インピーダンスよりも大きい、請求項7に記載の無線周波増幅回路。 - 前記直流絶縁入力段が、前記ゲートと前記ソースとの間に直列に接続された、コンデンサと抵抗からなるゲート−ソース終端回路を含む請求項7に記載の無線周波増幅回路。
- 所定の周波数帯の無線周波電力を増幅するプッシュプル形の高出力無線周波増幅器であって、
第1及び第2のキロワット電力トランジスタ素子であって、前記素子の各々は、
熱及び電気伝導性フランジと、
4つの半導体ダイから形成される複数チップ・アレーであって、前記半導体ダイの各々が平坦な下面を有し、ドレインが前記平担な下面の大部分の上に形成され、ソース及びゲートが、前記平坦な下面から離れた前記ダイの部分にそれぞれ形成される、複数チップ・アレーと、
前記フランジが前記ダイの共通ドレイン端子及び前記ダイのヒートシンクの役目を果たすように、前記ダイの前記ドレインを前記フランジと熱的及び電気的に直接接触するように配置する設置手段と、を含む第1及び第2のキロワット電力トランジスタ素子と、
ここで、前記キロワット電力トランジスタ素子の各々の前記4つのダイが外部で並列化され、ゲート−ソースしきい値が0.2ボルト以内に整合され、前記ドレイン−ソースのオン抵抗が8%以内に整合され、順方向相互コンダクタンスが1ジーメンス以内であるように整合され、更に、
前記無線周波入力端子に結合する第1のスプリッタ手段であって、無線周波入力ドライブ信号を順方向相部分と逆方向相部分とに分割する第1のスプリッタ手段と、
前記第1のキロワット電力トランジスタ素子の前記ゲートに供給するために、前記順方向相部分を複数の絶縁信号に分割する第2のスプリッタ手段と、
前記第2のキロワット電力トランジスタ素子の前記ゲートに供給するために、前記逆方向相部分を複数の絶縁信号に分割する第3のスプリッタ手段と、
前記第1のキロワット電力トランジスタ素子の前記半導体ダイの各々のために、前記第2のスプリッタ手段の関連する出力に無線周波結合され、かつ前記第1のキロワット電力トランジスタ素子の前記フランジに対して浮いているゲート−ソース入力回路と、
前記第2のキロワット電力トランジスタ素子の前記半導体ダイの各々のために、前記第3のスプリッタ手段の関連する出力に無線周波結合され、かつ前記第2のキロワット電力トランジスタ素子の前記フランジに対して浮いているゲート−ソース入力回路と、
増幅無線周波信号を無線周波出力端子に供給するために、増幅無線周波出力を結合するための前記第1及び第2のキロワット電力トランジスタ素子の前記ソースに結合された入力を有する結合器手段と、
直流電圧電源と、
前記電源からの前記増幅無線周波信号を阻止するため、及び無線周波エネルギーをバイパスさせるために、前記第1及び第2のキロワット電力トランジスタ素子の前記ソースを直流電圧の前記電源に接続するフィルタ手段と、を備える高出力無線周波増幅器。 - 前記キロワット電力トランジスタ素子の各々の前記4つのダイが、1つの半導体ウェハ上の隣接する位置から選択される請求項17に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記ダイの1つから他のダイへの温度及び電流をトラッキングのために、前記キロワット電力トランジスタ素子の前記4つのダイが、1つの半導体ウェハで隣接するウェハの位置から選択される、請求項17に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記第1のキロワット電力トランジスタ素子の平均無線周波利得が、前記第2のキロワット電力トランジスタ素子の平均無線周波利得の0.5dB以内である請求項19に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記第1のキロワット電力トランジスタ素子の平均無線周波利得が、前記第2のキロワット電力トランジスタ素子の平均無線周波利得の1%以内である請求項19に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記第1のスプリッタ手段が、前記第2のスプリッタ手段及び前記第1のキロワット電力トランジスタ素子に直接結合され、かつ前記第3のスプリッタ手段及び第2のキロワット電力トランジスタ素子に誘導結合され、そして前記第1のキロワット電力トランジスタ素子が、前記第2のキロワット電力トランジスタ素子より高い平均ゲートしきい値を有する請求項17に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記第1のキロワット電力トランジスタ素子の前記平均ゲートしきい値が、前記第2のキロワット電力トランジスタ素子の平均ゲートしきい値より0.2〜0.4ボルト高い請求項22に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記キロワット電力トランジスタ素子の各々の前記ダイは、1〜2オームの直列ゲート入力抵抗を各々が有する請求項17に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記キロワット電力トランジスタ素子の各々の前記ダイが、各々ゲート−ソース間入力無線周波終端を有し、前記入力無線周波終端が、抵抗及びコンデンサの直列の組合せを含む請求項17に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記キロワット電力トランジスタ素子の各々の前記ダイが、各々ソース−ゲート間の直流終端抵抗を有し、前記直流終端抵抗が、30〜40キロオームの値を有する請求項17に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記キロワット電力トランジスタ素子の各々の前記ダイが、各々ドレイン−ゲート間の無線周波帰還回路を有し、前記無線周波帰還回路は、400〜560オームの抵抗値を有する抵抗−コンデンサの直列の組合せを含む請求項17に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記ダイの各々の前記ソースが、前記結合器手段と並列に直接結合される請求項17に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記結合器手段が、18オームのインタフェース・インピーダンスを有する出力平衡不平衡変成器を含む請求項28に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記キロワット電力トランジスタ素子の各々のために、前記キロワット電力トランジスタ素子の前記ダイの結合ソース−ドレイン間の出力静電容量を動的に補償する共振器回路を更に備え、前記共振器回路が、共振循環無線周波電流を流れ込ませるソースと接地との間の直列インダクタ−コンデンサの組合せを含む請求項17に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記キロワット電力トランジスタ素子の各々のために、直流給電手段が、前記電源と前記キロワット電力トランジスタ素子の前記ソースとの間の直列インダクタを含む各インダクタ−コンデンサの組合せを備え、かつ無線周波コンデンサと低周波数バイパス・コンデンサとの並列組合せを備える請求項17に記載の高出力無線周波増幅器。
- 前記出力平衡不平衡変成器のインピーダンスが、1つの単一3:5巻線比変成器または1組の2:3巻線比変成器によって、1.25:1未満のVSWR内で、18オームから50オームに整合される請求項29に記載の高出力無線周波増幅器。
- 高調波歪みを低減し散逸高調波終端を提供するために、前記結合器手段と前記無線周波出力端子との間に配置される低域通過/高域通過ダイプレクサ手段を更に備える請求項17に記載の高出力無線周波増幅器。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/121,136 US6046641A (en) | 1998-07-22 | 1998-07-22 | Parallel HV MOSFET high power stable amplifier |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20804299A Division JP4567119B2 (ja) | 1998-07-22 | 1999-07-22 | 高出力無線周波増幅器及び無線周波増幅回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010093858A true JP2010093858A (ja) | 2010-04-22 |
JP2010093858A5 JP2010093858A5 (ja) | 2010-09-30 |
Family
ID=22394794
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20804299A Expired - Lifetime JP4567119B2 (ja) | 1998-07-22 | 1999-07-22 | 高出力無線周波増幅器及び無線周波増幅回路 |
JP2010002983A Pending JP2010093858A (ja) | 1998-07-22 | 2010-01-08 | 高出力無線周波増幅器及び無線周波増幅回路 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20804299A Expired - Lifetime JP4567119B2 (ja) | 1998-07-22 | 1999-07-22 | 高出力無線周波増幅器及び無線周波増幅回路 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6046641A (ja) |
EP (1) | EP0975089A3 (ja) |
JP (2) | JP4567119B2 (ja) |
KR (1) | KR20000011902A (ja) |
TW (1) | TW441165B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2338555A2 (en) | 2009-12-25 | 2011-06-29 | Asahi Intecc Co., Ltd. | Guidewire |
Families Citing this family (104)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6160452A (en) * | 1998-07-23 | 2000-12-12 | Adc Telecommunications, Inc. | Circuits and methods for a monitoring circuit in a network amplifier |
US6232840B1 (en) * | 1999-06-10 | 2001-05-15 | Raytheon Company | Transistor amplifier having reduced parasitic oscillations |
JP2002043875A (ja) * | 2000-07-24 | 2002-02-08 | Nec Corp | 可変利得増幅器及びそれを備えた電子機器 |
US6587019B2 (en) | 2001-04-11 | 2003-07-01 | Eni Technology, Inc. | Dual directional harmonics dissipation system |
US6750711B2 (en) * | 2001-04-13 | 2004-06-15 | Eni Technology, Inc. | RF power amplifier stability |
US6678513B2 (en) * | 2001-05-31 | 2004-01-13 | Skyworks Solutions, Inc. | Non-linear transistor circuits with thermal stability |
US6920312B1 (en) | 2001-05-31 | 2005-07-19 | Lam Research Corporation | RF generating system with fast loop control |
US6392486B1 (en) * | 2001-08-14 | 2002-05-21 | Xilinx, Inc. | Low-noise common-gate amplifier for wireless communications |
AU2003201121A1 (en) * | 2002-01-24 | 2003-09-02 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Rf amplifier |
AU2003205944A1 (en) * | 2002-02-01 | 2003-09-02 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Output circuit for a semiconductor amplifier element |
JP4190931B2 (ja) * | 2003-03-28 | 2008-12-03 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
CN1765048B (zh) * | 2003-03-28 | 2010-05-05 | Nxp股份有限公司 | 晶体管放大器电路 |
US7243706B2 (en) * | 2004-05-28 | 2007-07-17 | Ixys Corporation | Heatsink for power devices |
US7327803B2 (en) * | 2004-10-22 | 2008-02-05 | Parkervision, Inc. | Systems and methods for vector power amplification |
CN100389484C (zh) * | 2004-12-30 | 2008-05-21 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 金属氧化物半导体场效应管的参数萃取系统及方法 |
EP1753011B1 (de) * | 2005-08-13 | 2012-10-03 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Verfahren zur Erzeugung von Ansteuersignalen für HF-Leistungsgeneratoren |
US8362835B2 (en) | 2006-02-17 | 2013-01-29 | Gradual Tech Software L.L.C. | Decade bandwidth planar MMIC four port transformer |
US8026775B2 (en) * | 2007-02-20 | 2011-09-27 | Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. | Decade bandwidth planar MMIC four port transformer |
JP2008219699A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Hitachi Metals Ltd | 低雑音増幅器回路、高周波回路、高周波部品及び通信装置 |
US7683718B2 (en) * | 2006-05-17 | 2010-03-23 | Dishop Steven M | Solid-state RF power amplifier for radio transmitters |
US8031003B2 (en) | 2006-05-17 | 2011-10-04 | Dishop Steven M | Solid-state RF power amplifier for radio transmitters |
DE102006052061B4 (de) * | 2006-11-04 | 2009-04-23 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Verfahren zur Ansteuerung von zumindest zwei HF-Leistungsgeneratoren |
US7777567B2 (en) | 2007-01-25 | 2010-08-17 | Mks Instruments, Inc. | RF power amplifier stability network |
US7808222B2 (en) * | 2007-10-12 | 2010-10-05 | Monolithic Power Systems, Inc. | Method and apparatus for high performance switch mode voltage regulators |
TWI501550B (zh) * | 2007-10-12 | 2015-09-21 | Monolithic Power Systems Inc | 用於高性能開關模式電壓調整器的設備和方法 |
US8044594B2 (en) * | 2008-07-31 | 2011-10-25 | Advanced Energy Industries, Inc. | Power supply ignition system and method |
US7863986B2 (en) * | 2008-08-11 | 2011-01-04 | Qualcomm Incorporation | Techniques for improving balun loaded-Q |
US8395078B2 (en) | 2008-12-05 | 2013-03-12 | Advanced Energy Industries, Inc | Arc recovery with over-voltage protection for plasma-chamber power supplies |
US7825719B2 (en) * | 2008-12-29 | 2010-11-02 | Advanced Energy Industries, Inc. | System and method for wideband phase-adjustable common excitation |
PL2648209T3 (pl) * | 2009-02-17 | 2018-06-29 | Solvix Gmbh | Urządzenie zasilające do obróbki plazmowej |
US8217723B2 (en) * | 2009-11-05 | 2012-07-10 | Texas Instruments Incorporated | Low noise amplifier circuit |
KR101373658B1 (ko) * | 2009-12-04 | 2014-03-13 | 한국전자통신연구원 | 전력 증폭 장치 |
US8324973B2 (en) * | 2009-12-08 | 2012-12-04 | Black Sand Technologies, Inc. | Low output impedance RF amplifier |
US9112508B2 (en) | 2010-06-09 | 2015-08-18 | Broadcom Corporation | Adaptive powered local oscillator generator circuit and related method |
US8552665B2 (en) | 2010-08-20 | 2013-10-08 | Advanced Energy Industries, Inc. | Proactive arc management of a plasma load |
US8929844B2 (en) * | 2010-08-30 | 2015-01-06 | Broadcom Corporation | Variable gain control transformer and RF transmitter utilizing same |
US8862064B2 (en) | 2010-09-24 | 2014-10-14 | Broadcom Corporation | Self-testing transceiver architecture and related method |
WO2013071152A2 (en) * | 2011-11-11 | 2013-05-16 | Skyworks Solutions, Inc. | Flip-chip linear power amplifier with high power added efficiency |
JP5720545B2 (ja) * | 2011-11-24 | 2015-05-20 | 富士通株式会社 | 電力増幅器 |
US9214901B2 (en) * | 2012-07-27 | 2015-12-15 | Mks Instruments, Inc. | Wideband AFT power amplifier systems with frequency-based output transformer impedance balancing |
JP5902070B2 (ja) | 2012-08-27 | 2016-04-13 | 株式会社東芝 | 電力増幅装置及び送信機 |
US8981852B2 (en) * | 2012-11-12 | 2015-03-17 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Providing an integrated directional coupler in a power amplifier |
US9130535B2 (en) * | 2012-12-20 | 2015-09-08 | Qualcomm Incorporated | Driver amplifier with asymmetrical T-coil matching network |
JP5897529B2 (ja) * | 2013-03-07 | 2016-03-30 | 株式会社東芝 | 電力増幅装置及び送信機 |
US9276532B2 (en) * | 2013-08-28 | 2016-03-01 | Analog Devices, Inc. | High speed amplifier |
US9276534B2 (en) | 2013-08-28 | 2016-03-01 | Analog Devices, Inc. | High speed amplifier |
EP3066683B1 (en) * | 2013-11-07 | 2019-04-24 | NXP USA, Inc. | Bond wire arrangement with adjustable losses |
US9865432B1 (en) | 2014-01-10 | 2018-01-09 | Reno Technologies, Inc. | RF impedance matching network |
US10455729B2 (en) | 2014-01-10 | 2019-10-22 | Reno Technologies, Inc. | Enclosure cooling system |
US9496122B1 (en) | 2014-01-10 | 2016-11-15 | Reno Technologies, Inc. | Electronically variable capacitor and RF matching network incorporating same |
US9196459B2 (en) | 2014-01-10 | 2015-11-24 | Reno Technologies, Inc. | RF impedance matching network |
US9697991B2 (en) | 2014-01-10 | 2017-07-04 | Reno Technologies, Inc. | RF impedance matching network |
US10431428B2 (en) | 2014-01-10 | 2019-10-01 | Reno Technologies, Inc. | System for providing variable capacitance |
US9755641B1 (en) | 2014-01-10 | 2017-09-05 | Reno Technologies, Inc. | High speed high voltage switching circuit |
US9844127B2 (en) | 2014-01-10 | 2017-12-12 | Reno Technologies, Inc. | High voltage switching circuit |
EP3140838B1 (en) | 2014-05-05 | 2021-08-25 | 3D Glass Solutions, Inc. | Inductive device in a photo-definable glass structure |
US9589916B2 (en) * | 2015-02-10 | 2017-03-07 | Infineon Technologies Ag | Inductively coupled transformer with tunable impedance match network |
CN109120233B (zh) * | 2015-02-15 | 2022-07-01 | 天工方案公司 | 射频放大系统、装置和方法 |
US11017983B2 (en) | 2015-02-18 | 2021-05-25 | Reno Technologies, Inc. | RF power amplifier |
US9525412B2 (en) | 2015-02-18 | 2016-12-20 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit |
US12119206B2 (en) | 2015-02-18 | 2024-10-15 | Asm America, Inc. | Switching circuit |
US9729122B2 (en) | 2015-02-18 | 2017-08-08 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit |
US9306533B1 (en) | 2015-02-20 | 2016-04-05 | Reno Technologies, Inc. | RF impedance matching network |
US10340879B2 (en) | 2015-02-18 | 2019-07-02 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit |
KR101677711B1 (ko) | 2015-06-02 | 2016-11-21 | 주식회사대성엘텍 | 자동차용 전자기기 장착 조립체 |
JP6316506B2 (ja) * | 2015-06-15 | 2018-04-25 | 株式会社日立国際電気 | 電力増幅器及び無線送信器 |
US11342160B2 (en) | 2015-06-29 | 2022-05-24 | Reno Technologies, Inc. | Filter for impedance matching |
US10984986B2 (en) | 2015-06-29 | 2021-04-20 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US10692699B2 (en) | 2015-06-29 | 2020-06-23 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching with restricted capacitor switching |
US11081316B2 (en) | 2015-06-29 | 2021-08-03 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11335540B2 (en) | 2015-06-29 | 2022-05-17 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11342161B2 (en) | 2015-06-29 | 2022-05-24 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit with voltage bias |
US11150283B2 (en) | 2015-06-29 | 2021-10-19 | Reno Technologies, Inc. | Amplitude and phase detection circuit |
DE102015212152B4 (de) | 2015-06-30 | 2018-03-15 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Nicht lineare Hochfrequenzverstärkeranordnung |
DE102015212247A1 (de) | 2015-06-30 | 2017-01-05 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Hochfrequenzverstärkeranordnung |
US10530301B2 (en) | 2016-04-29 | 2020-01-07 | Weather Detection Systems, Inc. | Fast switched pulsed radio frequency amplifiers |
TWI695579B (zh) * | 2017-06-08 | 2020-06-01 | 日商村田製作所股份有限公司 | 功率放大電路 |
PL3648551T3 (pl) | 2017-06-27 | 2021-12-06 | Canon Anelva Corporation | Urządzenie do obróbki plazmowej |
PL3648552T3 (pl) | 2017-06-27 | 2022-06-13 | Canon Anelva Corporation | Urządzenie do obróbki plazmowej |
KR20220031132A (ko) * | 2017-06-27 | 2022-03-11 | 캐논 아네르바 가부시키가이샤 | 플라스마 처리 장치 |
CN110800379B (zh) | 2017-06-27 | 2022-01-18 | 佳能安内华股份有限公司 | 等离子体处理装置 |
US10483090B2 (en) | 2017-07-10 | 2019-11-19 | Reno Technologies, Inc. | Restricted capacitor switching |
US11521833B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-12-06 | Reno Technologies, Inc. | Combined RF generator and RF solid-state matching network |
US11289307B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-03-29 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11398370B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-07-26 | Reno Technologies, Inc. | Semiconductor manufacturing using artificial intelligence |
US10727029B2 (en) | 2017-07-10 | 2020-07-28 | Reno Technologies, Inc | Impedance matching using independent capacitance and frequency control |
US11315758B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-04-26 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching using electronically variable capacitance and frequency considerations |
US11114280B2 (en) | 2017-07-10 | 2021-09-07 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching with multi-level power setpoint |
US11393659B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-07-19 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11476091B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-10-18 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network for diagnosing plasma chamber |
US10714314B1 (en) | 2017-07-10 | 2020-07-14 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11101110B2 (en) | 2017-07-10 | 2021-08-24 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
JP7008824B2 (ja) | 2017-12-15 | 2022-01-25 | スリーディー グラス ソリューションズ,インク | 接続伝送線路共振rfフィルタ |
TWI669912B (zh) * | 2018-02-02 | 2019-08-21 | 國立交通大學 | 無線收發裝置 |
WO2020003557A1 (ja) | 2018-06-26 | 2020-01-02 | キヤノンアネルバ株式会社 | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、プログラムおよびメモリ媒体 |
CN108736847B (zh) * | 2018-07-24 | 2023-09-01 | 成都嘉纳海威科技有限责任公司 | 基于精确谐振回路控制的高效率逆d类堆叠功率放大器 |
US11804362B2 (en) * | 2018-12-21 | 2023-10-31 | Advanced Energy Industries, Inc. | Frequency tuning for modulated plasma systems |
US11515123B2 (en) | 2018-12-21 | 2022-11-29 | Advanced Energy Industries, Inc. | Apparatus and system for modulated plasma systems |
US10720305B2 (en) | 2018-12-21 | 2020-07-21 | Advanced Energy Industries, Inc. | Plasma delivery system for modulated plasma systems |
CA3172853A1 (en) | 2019-04-05 | 2020-10-08 | 3D Glass Solutions, Inc. | Glass based empty substrate integrated waveguide devices |
US11521831B2 (en) | 2019-05-21 | 2022-12-06 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method with reduced memory requirements |
KR20220164800A (ko) | 2020-04-17 | 2022-12-13 | 3디 글래스 솔루션즈 인코포레이티드 | 광대역 인덕터 |
JP2022159093A (ja) * | 2021-03-31 | 2022-10-17 | スカイワークス ソリューションズ,インコーポレイテッド | 利得変動が低減される電力増幅 |
KR20240095180A (ko) * | 2021-09-03 | 2024-06-25 | 3디 글래스 솔루션즈 인코포레이티드 | 전력 증폭기 시스템 인 패키지 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5373070A (en) * | 1976-12-13 | 1978-06-29 | Debitsudo Marii Dankan | Hf amplifying stage having input std transition and output matching function |
JPS59230309A (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-24 | ノ−ザン・テレコム・リミテツド | シグナルキユバ |
US4531101A (en) * | 1984-08-22 | 1985-07-23 | Pasar, Inc. | High-frequency amplifier with enhanced gain from use of the Miller effect capacitance |
JPS6119133B2 (ja) * | 1978-03-08 | 1986-05-15 | Nippon Electric Co | |
JPH03107880U (ja) * | 1990-02-21 | 1991-11-06 | ||
JPH1028001A (ja) * | 1996-07-12 | 1998-01-27 | Fukushima Nippon Denki Kk | 1チップ形ローパスフィルタ |
JPH1083998A (ja) * | 1996-09-09 | 1998-03-31 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3714597A (en) * | 1970-09-04 | 1973-01-30 | Motorola Inc | Broadband power amplifier with multiple stages connected by balun transformers |
US4112386A (en) * | 1977-02-14 | 1978-09-05 | Jerrold Electronics Corp. | Modular radio frequency amplifier having a gain variable by external passive component selection |
FR2412198A1 (fr) * | 1977-12-19 | 1979-07-13 | Thomson Csf | Etage d'entree de recepteur protege contre des brouilleurs et recepteur utilisant un tel etage |
JPS6110339Y2 (ja) * | 1979-01-16 | 1986-04-03 | ||
US4692789A (en) * | 1982-07-23 | 1987-09-08 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Semiconductor apparatus |
JPS5934706A (ja) * | 1982-08-20 | 1984-02-25 | Toshiba Corp | 電力増幅回路 |
JPS59148405A (ja) * | 1983-02-14 | 1984-08-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 平衡不平衡変換器 |
US4647867A (en) * | 1985-12-16 | 1987-03-03 | Gte Laboratories Incorporated | High-frequency, high-gain, push-pull amplifier circuit |
US4797630A (en) * | 1986-04-01 | 1989-01-10 | Brown Albert W | Two stage push-pull MOSFET power amplifier |
US4667144A (en) * | 1986-06-03 | 1987-05-19 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | High frequency, high voltage MOSFET isolation amplifier |
DE3805921A1 (de) * | 1988-02-25 | 1989-09-07 | Flachenecker Gerhard | Hochfrequenz-leistungsgenerator |
JPH01269305A (ja) * | 1988-04-21 | 1989-10-26 | Matsushita Electron Corp | 半導体装置 |
JPH01280908A (ja) * | 1988-05-07 | 1989-11-13 | Mitsubishi Electric Corp | 高周波混成集積回路 |
US5010304A (en) * | 1989-11-03 | 1991-04-23 | General Electric Company | Cryogenically-cooled radio-frequency power amplifier |
US5187580A (en) * | 1991-02-04 | 1993-02-16 | Advanced Energy Industries, Inc. | High power switch-mode radio frequency amplifier method and apparatus |
US5325258A (en) * | 1992-08-26 | 1994-06-28 | International Rectifier Corporation | Power transistor driver circuit with current sensing and current overprotection and method for protecting power transistor from overcurrent |
EP0660980B1 (en) * | 1992-09-15 | 2000-06-07 | Analogic Corporation | High power solid state r.f. amplifier |
US5477188A (en) * | 1994-07-14 | 1995-12-19 | Eni | Linear RF power amplifier |
US5657218A (en) * | 1994-09-07 | 1997-08-12 | Deutsche Thomson Brandt Gmbh | Switch mode power supply circuit |
US5608353A (en) * | 1995-03-29 | 1997-03-04 | Rf Micro Devices, Inc. | HBT power amplifier |
-
1998
- 1998-07-22 US US09/121,136 patent/US6046641A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-07-22 JP JP20804299A patent/JP4567119B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-22 KR KR1019990029821A patent/KR20000011902A/ko not_active Application Discontinuation
- 1999-07-22 EP EP99305818A patent/EP0975089A3/en not_active Withdrawn
- 1999-10-01 TW TW088112486A patent/TW441165B/zh not_active IP Right Cessation
-
2010
- 2010-01-08 JP JP2010002983A patent/JP2010093858A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5373070A (en) * | 1976-12-13 | 1978-06-29 | Debitsudo Marii Dankan | Hf amplifying stage having input std transition and output matching function |
JPS6119133B2 (ja) * | 1978-03-08 | 1986-05-15 | Nippon Electric Co | |
JPS59230309A (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-24 | ノ−ザン・テレコム・リミテツド | シグナルキユバ |
US4531101A (en) * | 1984-08-22 | 1985-07-23 | Pasar, Inc. | High-frequency amplifier with enhanced gain from use of the Miller effect capacitance |
JPH03107880U (ja) * | 1990-02-21 | 1991-11-06 | ||
JPH1028001A (ja) * | 1996-07-12 | 1998-01-27 | Fukushima Nippon Denki Kk | 1チップ形ローパスフィルタ |
JPH1083998A (ja) * | 1996-09-09 | 1998-03-31 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2338555A2 (en) | 2009-12-25 | 2011-06-29 | Asahi Intecc Co., Ltd. | Guidewire |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20000011902A (ko) | 2000-02-25 |
TW441165B (en) | 2001-06-16 |
US6046641A (en) | 2000-04-04 |
JP2000059152A (ja) | 2000-02-25 |
JP4567119B2 (ja) | 2010-10-20 |
EP0975089A2 (en) | 2000-01-26 |
EP0975089A3 (en) | 2002-09-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4567119B2 (ja) | 高出力無線周波増幅器及び無線周波増幅回路 | |
US6750711B2 (en) | RF power amplifier stability | |
EP1547394B1 (en) | Packaged rf power transistor having rf bypassing/output matching network | |
US7372334B2 (en) | Output match transistor | |
US9692363B2 (en) | RF power transistors with video bandwidth circuits, and methods of manufacture thereof | |
US7149496B2 (en) | High-frequency module and radio communication apparatus | |
JP5239309B2 (ja) | 半導体装置 | |
US9979360B1 (en) | Multi baseband termination components for RF power amplifier with enhanced video bandwidth | |
JP2010093858A5 (ja) | ||
JPWO2004023649A1 (ja) | 高周波電力増幅用電子部品および無線通信システム | |
JP2005516515A (ja) | 半導体増幅器素子用の出力回路 | |
US20070268073A1 (en) | Electronic device | |
EP3694102B1 (en) | Amplifiers and amplifier modules having stub circuits | |
JP2005516444A6 (ja) | 補償されたrf増幅器デバイス | |
US12088257B2 (en) | High-frequency amplifier | |
US4864250A (en) | Distributed amplifier having improved D.C. biasing and voltage standing wave ratio performance | |
CN1201483C (zh) | 并联高压金属氧化物半导体场效应晶体管高功率稳态放大器 | |
CN110417357B (zh) | 一种紧凑型集成多赫蒂放大器 | |
JP2004523172A (ja) | インピーダンス整合のための装置及び方法 | |
WO2019202631A1 (ja) | 高周波電力増幅器 | |
US11984413B2 (en) | High-frequency power transistor and high-frequency power amplifier | |
EP4297274A1 (en) | Flip chip doherty amplifier devices | |
KR102097532B1 (ko) | 소형 전력증폭기 | |
WO2023157725A1 (ja) | 高周波回路および通信装置 | |
CN118156230A (zh) | 功率放大器模块 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100208 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100818 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111206 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120305 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120308 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120529 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121106 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130205 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130208 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130425 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130604 |