JP2010027033A - タッチパネルの保護膜形成用感放射線性樹脂組成物とその形成方法 - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
【解決手段】
(A)アルカリ可溶性樹脂、
(B)式(1)及び式(2)から選ばれる1つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、
(C)感放射線性重合開始剤
を含むことを特徴とするタッチパネルの保護膜形成用感放射線性樹脂組成物とその形成方法によって達成される。
【選択図】なし
Description
保護膜が(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)下記式(1)及び下記式(2)から選ばれる1つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、(C)感放射線性重合開始剤を含むことを特徴とするタッチパネルの保護膜形成用感放射線性樹脂組成物によって達成される。
本発明の上記目的および利点は、第二に、
(A)アルカリ可溶性樹脂が、(a1)不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物、並びに(a2)エポキシ基含有不飽和化合物を含む単量体を共重合してなる共重合体であることを特徴とする請求1に記載のタッチパネルの保護膜形成用感放射線性樹脂組成物によって達成される。
本発明によると、本発明の上記目的および利点は、第三に、
(D)多官能カチオン重合性化合物(ただし、(A)アルカリ可溶性樹脂を除く。)を含有することを特徴とするタッチパネルの保護膜形成用感放射線性樹脂組成物によって達成される。
本発明によると、本発明の上記目的および利点は、第四に、
(E)加熱により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする請求3に記載のタッチパネルの保護膜形成用感放射線性樹脂組成物によって達成される。
本発明によると、本発明の上記目的および利点は、第五に、
前述の感放射線性樹脂組成物から形成されたタッチパネル用保護膜によって達成される。
本発明によると、本発明の上記目的および利点は、第六に、
前述の感放射線性樹脂組成物を用いて被膜を形成し、次いで放射線の照射処理および加熱処理する保護膜の形成方法によって達成される。
さらに、本発明におけるアルカリ可溶性樹脂は反応性官能基を有するものがさらに好ましく、反応性官能基としては、例えばエポキシ基、(メタ)アクリロイル基などを挙げることができる。反応性官能基がエポキシ基の場合は、エポキシ基を有するラジカル重合性モノマーと、その他のラジカル重合性モノマーとを共重合することにより得ることができる。反応性官能基が(メタ)アクリロイル基の場合は、水酸基含有ラジカル重合性モノマーとその他のラジカル重合性モノマーとを共重合した後、ポリマー中の水酸基に(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物を反応させることで得ることができる。
これらの化合物(a1)のうち、共重合反応性、得られる重合体や共重合体のアルカリ現像液に対する溶解性の点から、アクリル酸、メタクリル酸、2−アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、無水マレイン酸等が好ましい。
o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル等を挙げることができる。
これらの1分子中に1つ以上の水酸基を含有する不飽和化合物は、共重合体生成後 に、(メタ)アクリロイル基を有するイソシアネート化合物と反応することがでる。
また、2−アクリロイルオキシエチルイソシアネートの市販品としては、商品名で、カレンズAOI(昭和電工(株)製)、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの市販品としては、商品名で、カレンズMOI(昭和電工(株)製)を挙げることができる。
アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル等のアクリル酸のアリールエステル; メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸のアリールエステル;マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジアルキルエステル;
メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、メタクリル酸テトラヒドロフリル、メタクリル酸テトラヒドロフピラン−2−メチル等の酸素一原子を含む不飽和複素五及び六員環メタクリル酸エステル;
4−アクリロイルオキシメチル−2−メチル−2−エチル−1,3−ジオキソラン、4−アクリロイルオキシメチル−2−メチル−2−イソブチル−1,3−ジオキソラン、4−アクリロイルオキシメチル−2−シクロヘキシル−1,3−ジオキソラン、4−メタアクリロイルオキシメチル−2−メチル−2−エチル−1,3−ジオキソラン、4−メタアクリロイルオキシメチル−2−メチル−2−イソブチル−1,3−ジオキソラン等の酸素二原子を含む不飽和複素五員環メタクリル酸エステル;
1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン等の共役ジエン系化合物のほか、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド等を挙げることができる
分子中に1個以上の酸無水物基を有する化合物の具体例としては、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸の化合物等が挙げられる。これらの中でも、特に無水コハク酸が好ましい。
本発明において、タッチパネルの保護膜形成用組成物に用いられる(C)感放射線性重合開始剤(以下、(C)成分とも言う。)は、可視光線、紫外線、遠紫外線、荷電粒子線、X線などの放射線の露光により、重合性不飽和化合物の重合を開始しうる活性種を発生する成分からなる。このような感放射線性重合開始剤としては、例えば、感放射線ラジカル重合開始剤を挙げることができる。感放射線ラジカル重合開始剤としては、例えばO−アシルオキシム系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物等を挙げることができる。
分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物としては、例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル等のビスフェノール化合物のジグリシジルエーテル;1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル;エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル;
フェノールノボラック型エポキシ樹脂;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂;ポリフェノール型エポキシ樹脂;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル;高級脂肪酸のグリシジルエステル;エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等を挙げることができる。
フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート152、同154、同157S65(以上、ジャパンエポキシレジン(株)製)、EPPN201、同202(以上、日本化薬(株)製)等;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、EOCN102、同103S(以上、日本化薬(株)製)、エピコート180S75(ジャパンエポキシレジン(株)製)等;ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート1032H60、同XY−4000(以上、ジャパンエポキシレジン(株)製)等;環状脂肪族エポキシ樹脂として、CY−175、同177、同179、アラルダイトCY−182、同192、184(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)等が挙げられる。
このようなエポキシ化合物のうち、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびポリフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。
上記スルホニウム塩類の具体例としては、4−アセトフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−4−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−4−(ベンゾイルオキシ)フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−4−(ベンゾイルオキシ)フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−3−クロロ−4−アセトキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネートなどのアルキルスルホニウム塩;ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、4−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−4−メトキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−2−メチル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−3−クロロ−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネートなどのベンジルスルホニウム塩等が挙げられる。
本発明の感放射線性樹脂組成物には、所期の効果を損なわない範囲内で必要に応じて、上記成分に加えて、(F)2つ以上のエチレン性不飽和基及びウレタン結合を有する多官能アクリルモノマー、(G)接着助剤、(H)耐熱性向上を目的とした酸無水物、(I)界面活性剤等の添加剤を配合することもできる。
また、反応時必要に応じて、ハイドロキノンモノメチルエーテルやジラウリン酸ジブチルスズ(IV)などの触媒を加えてもよく、貯蔵中の暗反応によるゲル化防止のためハイドロキノン、p−ベンゾキノン、t−ブチルカテコールなどを加えてもよい。
具体例としては、例えば、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。
このような(H)成分は、共重合体(A)100質量に対して、好ましくは0.1〜50質量部、さらに好ましくは1〜40質量部である。(H)成分の使用量が1〜50質量部の時、得られる保護膜の耐熱性が最も良好となる。
このような(I)成分としては例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤を挙げることができる。
塗布法により被膜を形成する場合、上記透明導電膜の上に本発明の感放射線性樹脂組成物の溶液を塗布したのち、塗布面を加熱(プレベーク)することにより、被膜を形成することができる。塗布法に用いる組成物溶液の固形分濃度は、好ましくは5〜50質量%であり、より好ましくは10〜40質量%であり、さらに好ましくは15〜35質量%である。組成物溶液の塗布方法としては、特に限定されず、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法(スピンコート法)、スリットダイ塗布法、バー塗布法などの適宜の方法を採用することができ、特にスピンコート法またはスリットダイ塗布法が好ましい。
特に、本発明の感放射線性樹脂組成物は、スリットダイ塗布法に特に好適であり、スリットダイの移動速度を150mm/秒とした場合であっても、塗布ムラを発生させることはない。
次いで、形成された被膜の少なくとも一部に露光する。この場合、被膜の一部に露光する際には、通常、所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。
露光に使用される放射線としては、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を使用できるが、波長が190〜450nmの範囲にある放射線が好ましく、特に365nmの紫外線を含む放射線が好ましい。
露光量は、露光される放射線の波長365nmにおける強度を、照度計(OAI model 356 、OAI Optical Associates Inc. 製)により測定した値として、好ましくは100〜10,000J/m2、より好ましくは500〜3,000J/m2である。
次いで、露光後の被膜を現像することにより、不要な部分を除去して、所定のパターンを形成する。
現像に使用される現像液としては、アルカリ現像液が好ましく、その例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリ;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩等のアルカリ性化合物の水溶液を挙げることができる。
現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、シャワー法等のいずれでもよく、現像時間は、好ましくは10〜180秒間程度である。
現像後、例えば流水洗浄を30〜90秒間行ったのち、例えば圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、所望のパターンが形成される。
以下に合成例、実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
合成例1
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、2,2'−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)5質量部とジエチレングリコールメチルエチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル40質量部、スチレン18質量部、メタクリル酸20質量部およびN−シクロヘキシルマレイミド22質量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を70℃に上昇させ、この温度を5時間保持し共重合体(A−1)を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、33.1質量%であった。得られた重合体の数平均分子量は、7,000であった(数平均分子量はGPC(ゲルパーミエイションクロマトグラフィー)HLC−8020(東ソー(株)製)を用いて測定したポリスチレン換算分子量である)。また、分子量分布(Mw/Mn)は2であった。
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル5質量部とジエチレングリコールメチルエチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル40質量部、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル35質量部、メタクリル酸20質量部および1,3−ブタジエン5質量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を80℃に上昇させ、この温度を5時間保持し共重合体(A−2)を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、33.3質量%であった。得られた重合体の数平均分子量は、6,500であった。また、分子量分布(Mw/Mn)は2であった。
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、2,2'−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)5質量部とジエチレングリコールメチルエチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続き3−(メタクリロイルオキシエチル)オキセタン40重量部、スチレン10質量部、メタクリル酸30質量部およびシクロヘキシルマレイミド20質量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を70℃に上昇させ、この温度を5時間保持し共重合体(A−3)を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、33.1質量%であった。得られた重合体の数平均分子量は、7,300であった。また、分子量分布(Mw/Mn)は2であった。
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル5質量部とジエチレングリコールメチルエチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル50質量部、スチレン50質量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を80℃に上昇させ、この温度を5時間保持し共重合体(A−4)を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、32.8質量%であった。得られた重合体の数平均分子量は、7,000であった。また、分子量分布(Mw/Mn)は2であった。
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、2,2'−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)5質量部とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200質量部を仕込んだ。引き続きベンジルメタクリレート30質量部、スチレン10質量部、フェニルマレイミド30質量部およびメタクリル酸2−ヒドロキシエチルエステル20質量部、メタクリル酸10質量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を70℃に上昇させ、この温度を5時間保持し共重合体(A−5)を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、33.1重量%であった。得られた重合体の数平均分子量は、
7,000であった。また、分子量分布(Mw/Mn)は2であった。
冷却管と撹拌機を備えたフラスコに、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル5質量部および酢酸3−メトキシブチル250質量部を仕込み、引き続いてメタクリル酸18質量部、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル25質量部、スチレン5質量部、メタクリル酸2−ヒドロキシエチルエステル30質量部およびメタクリル酸ベンジル22質量部を仕込んで、窒素置換したのち、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を80℃に上昇させ、この温度を5時間保持して重合することにより、固形分濃度28.8質量%の共重合体(A−6)溶液を得た。得られた共重合体(A−6)得られた重合体の数平均分子量は、7,000であ
った。また、分子量分布(Mw/Mn)は2であった。
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、2,2'−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)5質量部とジエチレングリコールメチルエチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸2,3−エポキシプロピル25質量部、N−シクロヘキシルマレイミド10質量部、p−イソプロペニルフェノール10質量部およびメタクリル酸テトラヒドロフルフリル20質量部、3−エチル−3−メタクリロイルオキシメチルオキセタン20質量、メタクリル酸15質量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を70℃に上昇させ、この温度を5時間保持し共重合体(A−7)を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、33.2重量%であった。得られた重合体の数平均分子量は、8,000であった。また、分子量分布(Mw/Mn)は2であった。
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、2,2'−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)5質量部とジエチレングリコールメチルエチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸メチル60質量部、スチレン10質量部、N−シクロヘキシルマレイミド30質量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を70℃に上昇させ、この温度を5時間保持し共重合体(a−1)を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、32.6質量%であった。得られた重合体の数平均分子量は、6,400であった。また、分子量分布(Mw/Mn)は2であった。
実施例1
上記合成例1で得られた共重合体(A−1)を含む溶液(共重合体(A−1)100質量部(固形分)に相当する量)と(B−1)コハク酸モノ−[3−(3−アクリロイロキシ−2,2−ビス−アクリロイロキシメチル−プロポキシ)−2,2−ビス−アクリロイロキシメチル−プロピル]エステル200質量部と(C−1)2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルホリノプロパン−1−オン(商品名イルガキュア907、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)10質量部、(D−1)ノボラック型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製 商品名:エピコート152)30質量部、(G−1)γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン30質量部、(I−1)界面活性剤としてFTX−218((株)ネオス製)0.2質量部を加え、さらに固形分濃度が22重量%になるように溶剤(S−1)ジエチレングリコールメチルエチルエーテルを加えた後、孔径0.5μmのミリポアフィルタで濾過して樹脂組成物を調製した。
(1)透明性評価
スピンナーを用いて上記組成物を、SiO2ディップガラス基板上に塗布した後、ホットプレート上で80℃、2分間プレベークして塗膜を形成し、得られた被膜に1000J/m2露光した。その後、水酸化カリウム0.05質量%水溶液により、25℃で現像したのち、純水で1分間洗浄し、さらに230℃のオーブン中で30分間加熱することにより、膜厚2.0μmの保護膜を形成した。
上記のようにして形成した保護膜を有する基板について、分光光度計(150−20型ダブルビーム(日立製作所(株)製))を用いて400〜800nmの透過率を測定した。400〜800nmの透過率の最小値を表1及び表2に示した。この値が95%以上のとき、保護膜の透明性は良好といえる。
透明性評価の際と同様な方法で保護膜を形成し、JIS K−5400−1990の8.4.1鉛筆引っかき試験により保護膜の表面硬度を測定した。この値を表1及び表2に示す。この値が4H以上の時、表面硬度は良好といえる。
透明性評価の際と同様な方法で保護膜を形成し、微小圧縮試験機(商品名フィッシャースコープHC−110、(株)フィッシャーイントルメンツ製)を用い、ビッカース圧子により、負荷速度および徐荷速度をともに5mN/秒として、50mNまでの荷重を負荷して10秒間保持したのち除荷することによって、マルテンス硬度を測定した。この値を表1及び表2に示す。この値が650N/mm2以上であれば、膜硬度は良好といえる。
透明性評価の際と同様な方法で保護膜を形成し、学振型磨耗試験機を用いてスチールウール#0000の上に200gの荷重をかけて10往復させた。擦傷の状況を肉眼で以下の判定基準で評価した。この値を表1及び表2に示す。
判定基準
◎:全く傷がつかない
○:1〜3本の傷がつく
△:4〜10本の傷がつく
×:10本以上の傷がつく
◎、○、△であれば、良好な耐擦傷性を有すると言える。
4インチガラスウエハーを純水で洗浄して乾燥させた後、スピンナーを用いて上記組成物を、それぞれの基板上に塗布した後、ホットプレート上で80℃、2分間プレベークして塗膜を形成し、得られた被膜に1000J/m2露光した。その後、水酸化カリウム0.05質量%水溶液により、25℃で現像したのち、純水で1分間洗浄し、さらに230℃のオーブン中で30分間加熱することにより、膜厚2.0μmの保護膜を形成した。
上記のようにして形成した保護膜を有する基板について、JIS K−5400−1990の8.5.3付着性碁盤目テープ法により保護膜の密着性を評価した。碁盤目100個中、残った碁盤目の数を示した。
4インチガラスウエハーの代わりにITO膜が表面に成膜されたガラス基板を用いた以外は、4インチガラスウエハーの場合と同様に評価し、ITO膜上での密着性を評価した。この値を表1及び表2に示す。
組成物の各成分の種類および量を表1及び表2に記載のとおりとし、溶媒を使用して表1及び表2に記載の固形分濃度に合わせた他は、実施例1と同様にして樹脂組成物を調製した。
上記の評価結果を表1及び表2に示した。
C−1: 2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルホリノプロパン−1−オン(商品名イルガキュア907、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)
C−2:エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)(商品名イルガキュアOX02、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)
D−1:ノボラック型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製 商品名:エピコート152)
D−2:ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製 商品名:エピコート157S65)
E−1:ベンジル−2−メチル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート(三新化学工業(株)製 SI−80)
E−2:ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート(三新化学工業(株)製 SI−110)
E−3:4−アセトフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート(三新化学工業(株)製 SI−150)
F−1:多官能ウレタンアクリレート (根上工業(株)製 UN-3320HS)
G−1:γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
H−1:無水トリメリット酸
I−1:フッ素系界面活性剤((株)ネオス製 商品名:FTX−218)
S−1:ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
S−2:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
b−1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製 商品名:KAYARAD DPHA)
Claims (6)
- (A)アルカリ可溶性樹脂が、(a1)不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物、並びに(a2)エポキシ基含有不飽和化合物を含む単量体を共重合してなる共重合体であることを特徴とする請求項1記載のタッチパネルの保護膜形成用感放射線性樹脂組成物。
- (D)多官能カチオン重合性化合物(ただし、(A)アルカリ可溶性樹脂を除く。)を含有することを特徴とする請求項1及び2に記載のタッチパネルの保護膜形成用感放射線性樹脂組成物。
- (E)加熱により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする請求項3に記載のタッチパネルの保護膜形成用感放射線性樹脂組成物。
- 請求項1に記載の感放射線性樹脂組成物から形成されたタッチパネル用保護膜。
- 請求項1に記載の感放射線性樹脂組成物を用いてタッチパネルの基板上に被膜を形成し、次いで放射線の照射処理および加熱処理することを特徴とする保護膜の形成方法。
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KR1020090043681A KR20090132499A (ko) | 2008-06-19 | 2009-05-19 | 감방사선성 수지 조성물과 그로부터 형성된 터치 패널용 보호막 및 그 형성 방법 |
CN2009101491372A CN101609256B (zh) | 2008-06-19 | 2009-06-17 | 保护膜形成用感射线性树脂组合物及保护膜的形成方法 |
TW098120348A TWI453537B (zh) | 2008-06-19 | 2009-06-18 | 觸控式面板的保護膜形成用感放射線性樹脂組成物及其形成方法 |
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---|---|
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Cited By (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010134444A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-06-17 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2011190310A (ja) * | 2010-03-12 | 2011-09-29 | Dic Corp | アクリル(メタ)アクリレート樹脂組成物の製造方法 |
WO2011129210A1 (ja) * | 2010-04-14 | 2011-10-20 | 東レ株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、それを用いた保護膜およびタッチパネル部材 |
WO2011129312A1 (ja) * | 2010-04-16 | 2011-10-20 | 東レ株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、およびタッチパネル用部材 |
JP2011248274A (ja) * | 2010-05-31 | 2011-12-08 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2012048185A (ja) * | 2010-07-28 | 2012-03-08 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2012116974A (ja) * | 2010-12-02 | 2012-06-21 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | 感光性樹脂組成物およびタッチパネル用絶縁膜 |
WO2012102186A1 (ja) * | 2011-01-27 | 2012-08-02 | シャープ株式会社 | タッチパネル及び該タッチパネルを備えた表示装置 |
JP2012194290A (ja) * | 2011-03-15 | 2012-10-11 | Jsr Corp | 硬化膜の形成方法、硬化膜、表示素子及び感放射線性樹脂組成物 |
JP2012214590A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
EP2587346A1 (en) * | 2010-06-22 | 2013-05-01 | Nissha Printing Co., Ltd. | Narrow-frame touch input sheet superior in anti-rusting property and production method thereof |
JP2013257471A (ja) * | 2012-06-13 | 2013-12-26 | Nippon Shokubai Co Ltd | 硬化性樹脂組成物及びその用途 |
KR20140097352A (ko) * | 2011-12-05 | 2014-08-06 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 터치패널용 전극의 보호막의 형성 방법, 감광성 수지 조성물 및 감광성 엘리먼트, 및, 터치패널의 제조 방법 |
KR20140097355A (ko) | 2011-12-05 | 2014-08-06 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 터치패널용 전극의 보호막 및 터치패널 |
WO2014125884A1 (ja) * | 2013-02-12 | 2014-08-21 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、それを熱硬化させてなる保護膜又は絶縁膜、それを用いたタッチパネル及びその製造方法 |
JP2015129992A (ja) * | 2014-01-06 | 2015-07-16 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネルセンサ及びタッチパネルセンサの製造方法 |
KR20150087804A (ko) | 2014-01-22 | 2015-07-30 | 제이엔씨 주식회사 | 열경화성 수지 조성물 및 그 경화막 |
JP2016038483A (ja) * | 2014-08-08 | 2016-03-22 | 住友化学株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JP2016051470A (ja) * | 2014-08-29 | 2016-04-11 | 富士フイルム株式会社 | タッチパネル電極保護膜形成用組成物、転写フィルム、積層体、タッチパネル用電極の保護膜及びその形成方法、静電容量型入力装置、並びに、画像表示装置 |
US9348223B2 (en) | 2011-12-05 | 2016-05-24 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film |
JP2016521405A (ja) * | 2013-04-10 | 2016-07-21 | コーロン インダストリーズ インク | ポリイミドカバー基板 |
US9488912B2 (en) | 2011-12-05 | 2016-11-08 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method of forming protective film for touch panel electrode, photosensitive resin composition and photosensitive element, and method of manufacturing touch panel |
JP2017004017A (ja) * | 2011-03-28 | 2017-01-05 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性フィルム、リブパターンの形成方法、中空構造の形成方法及び電子部品 |
CN106575078A (zh) * | 2014-07-18 | 2017-04-19 | 富士胶片株式会社 | 感光性组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、触摸屏、触摸屏显示装置、液晶显示装置及有机el显示装置 |
KR20190133009A (ko) | 2017-03-31 | 2019-11-29 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 감광성 엘리먼트 및 감광성 엘리먼트 롤 |
KR20190133008A (ko) | 2017-03-31 | 2019-11-29 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 감광성 엘리먼트 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102214024B (zh) * | 2010-04-08 | 2013-06-26 | 新应材股份有限公司 | 触控板与其制造方法以及具有该触控板的触控显示面板 |
CN102314088A (zh) * | 2010-06-29 | 2012-01-11 | 新应材股份有限公司 | 感光性树脂组成物及其所应用的面板结构 |
JP5817237B2 (ja) * | 2010-07-29 | 2015-11-18 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、カラーフィルタ、硬化膜の形成方法及びカラーフィルタの形成方法 |
TW201209109A (en) * | 2010-08-30 | 2012-03-01 | jun-jie Wang | Wear-resistant optical film, preparation method thereof, wear-resistant optical coating composition and liquid crystal display |
KR101579393B1 (ko) * | 2011-12-28 | 2015-12-21 | 코니카 미놀타 가부시키가이샤 | 위상차 필름, 위상차 필름의 제조 방법, 편광판 및 액정 표시 장치 |
JP6170288B2 (ja) | 2012-09-11 | 2017-07-26 | 富士フイルム株式会社 | 転写材料、静電容量型入力装置の製造方法および静電容量型入力装置、並びに、これを備えた画像表示装置 |
TWI474112B (zh) * | 2012-09-27 | 2015-02-21 | Chi Mei Corp | 感光性樹脂組成物、保護膜及具有保護膜的元件 |
JP2016153836A (ja) * | 2015-02-20 | 2016-08-25 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、タッチパネル、タッチパネル表示装置、液晶表示装置、及び、有機el表示装置 |
KR102630945B1 (ko) * | 2015-11-20 | 2024-01-30 | 주식회사 동진쎄미켐 | 감광성 수지 조성물 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004184441A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-07-02 | Sumitomo Chem Co Ltd | 表示素子用感放射線性樹脂組成物 |
JP2004300204A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-28 | Nippon Shokubai Co Ltd | 硬化性樹脂組成物およびその用途 |
JP2005248129A (ja) * | 2003-03-10 | 2005-09-15 | Jsr Corp | 樹脂組成物、カラーフィルタの保護膜およびその形成方法 |
JP2007017879A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Toagosei Co Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物 |
WO2007026520A1 (ja) * | 2005-08-30 | 2007-03-08 | Jsr Corporation | 感放射線性樹脂組成物およびメッキ造形物の製造方法 |
JP2007086565A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Jsr Corp | 感光性樹脂組成物、液晶表示パネル用保護膜およびスペーサー、それらを具備してなる液晶表示パネル |
JP2007100020A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Jsr Corp | 硬化性樹脂組成物、保護膜およびその形成方法 |
JP2007293241A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-11-08 | Sumitomo Chemical Co Ltd | フォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4915500B2 (ja) * | 2006-01-11 | 2012-04-11 | Jsr株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物、カラーフィルタの保護膜の形成方法、およびカラーフィルタの保護膜 |
-
2009
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004184441A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-07-02 | Sumitomo Chem Co Ltd | 表示素子用感放射線性樹脂組成物 |
JP2005248129A (ja) * | 2003-03-10 | 2005-09-15 | Jsr Corp | 樹脂組成物、カラーフィルタの保護膜およびその形成方法 |
JP2004300204A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-28 | Nippon Shokubai Co Ltd | 硬化性樹脂組成物およびその用途 |
JP2007017879A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Toagosei Co Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物 |
JP2007293241A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-11-08 | Sumitomo Chemical Co Ltd | フォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物 |
WO2007026520A1 (ja) * | 2005-08-30 | 2007-03-08 | Jsr Corporation | 感放射線性樹脂組成物およびメッキ造形物の製造方法 |
JP2007086565A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Jsr Corp | 感光性樹脂組成物、液晶表示パネル用保護膜およびスペーサー、それらを具備してなる液晶表示パネル |
JP2007100020A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Jsr Corp | 硬化性樹脂組成物、保護膜およびその形成方法 |
Cited By (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016029489A (ja) * | 2008-10-30 | 2016-03-03 | 住友化学株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JP2010134444A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-06-17 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2011190310A (ja) * | 2010-03-12 | 2011-09-29 | Dic Corp | アクリル(メタ)アクリレート樹脂組成物の製造方法 |
JP2013083996A (ja) * | 2010-04-14 | 2013-05-09 | Toray Ind Inc | タッチパネル部材 |
WO2011129210A1 (ja) * | 2010-04-14 | 2011-10-20 | 東レ株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、それを用いた保護膜およびタッチパネル部材 |
WO2011129312A1 (ja) * | 2010-04-16 | 2011-10-20 | 東レ株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、およびタッチパネル用部材 |
JP2011248274A (ja) * | 2010-05-31 | 2011-12-08 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
EP2587346A1 (en) * | 2010-06-22 | 2013-05-01 | Nissha Printing Co., Ltd. | Narrow-frame touch input sheet superior in anti-rusting property and production method thereof |
EP2587346A4 (en) * | 2010-06-22 | 2014-02-26 | Nissha Printing | TOUCH ENVIRONMENT WITH A TIGHT FRAME AND WITH EXCELLENT CORROSION PROTECTION PROPERTIES AND METHOD OF PREPARATION THEREOF |
US8723046B2 (en) | 2010-06-22 | 2014-05-13 | Nissha Printing Co., Ltd. | Narrow frame touch input sheet with good anticorrosion property and manufacturing method thereof |
US9023592B2 (en) | 2010-06-22 | 2015-05-05 | Nissha Printing Co., Ltd. | Narrow frame touch input sheet with good anticorrosion property and manufacturing method thereof |
JP2012048185A (ja) * | 2010-07-28 | 2012-03-08 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2012116974A (ja) * | 2010-12-02 | 2012-06-21 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | 感光性樹脂組成物およびタッチパネル用絶縁膜 |
WO2012102186A1 (ja) * | 2011-01-27 | 2012-08-02 | シャープ株式会社 | タッチパネル及び該タッチパネルを備えた表示装置 |
JP2012194290A (ja) * | 2011-03-15 | 2012-10-11 | Jsr Corp | 硬化膜の形成方法、硬化膜、表示素子及び感放射線性樹脂組成物 |
JP2017004017A (ja) * | 2011-03-28 | 2017-01-05 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性フィルム、リブパターンの形成方法、中空構造の形成方法及び電子部品 |
JP2012214590A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
US9964849B2 (en) | 2011-12-05 | 2018-05-08 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film |
US10663861B2 (en) | 2011-12-05 | 2020-05-26 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film |
KR102025036B1 (ko) * | 2011-12-05 | 2019-09-24 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 터치패널용 전극의 보호막의 형성 방법, 감광성 수지 조성물 및 감광성 엘리먼트, 및, 터치패널의 제조 방법 |
KR20140097355A (ko) | 2011-12-05 | 2014-08-06 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 터치패널용 전극의 보호막 및 터치패널 |
US10386719B2 (en) | 2011-12-05 | 2019-08-20 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film |
KR101989644B1 (ko) * | 2011-12-05 | 2019-06-14 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 터치패널용 전극의 보호막의 형성 방법, 감광성 수지 조성물 및 감광성 엘리먼트, 및, 터치패널의 제조 방법 |
US9348223B2 (en) | 2011-12-05 | 2016-05-24 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film |
KR20180089549A (ko) * | 2011-12-05 | 2018-08-08 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 터치패널용 전극의 보호막의 형성 방법, 감광성 수지 조성물 및 감광성 엘리먼트, 및, 터치패널의 제조 방법 |
US9488912B2 (en) | 2011-12-05 | 2016-11-08 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method of forming protective film for touch panel electrode, photosensitive resin composition and photosensitive element, and method of manufacturing touch panel |
KR20140097352A (ko) * | 2011-12-05 | 2014-08-06 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 터치패널용 전극의 보호막의 형성 방법, 감광성 수지 조성물 및 감광성 엘리먼트, 및, 터치패널의 제조 방법 |
US10042254B2 (en) | 2011-12-05 | 2018-08-07 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method of forming protective film for touch panel electrode photosensitive resin composition and photosensitive element, and method of manufacturing touch panel |
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JP2013257471A (ja) * | 2012-06-13 | 2013-12-26 | Nippon Shokubai Co Ltd | 硬化性樹脂組成物及びその用途 |
JPWO2014125884A1 (ja) * | 2013-02-12 | 2017-02-02 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、それを熱硬化させてなる保護膜又は絶縁膜、それを用いたタッチパネル及びその製造方法 |
WO2014125884A1 (ja) * | 2013-02-12 | 2014-08-21 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、それを熱硬化させてなる保護膜又は絶縁膜、それを用いたタッチパネル及びその製造方法 |
JP2016521405A (ja) * | 2013-04-10 | 2016-07-21 | コーロン インダストリーズ インク | ポリイミドカバー基板 |
JP2015129992A (ja) * | 2014-01-06 | 2015-07-16 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネルセンサ及びタッチパネルセンサの製造方法 |
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