JP2010008921A - マスクパターンデータの生成方法およびマスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】反射型露光用マスク1に形成されるデバイスパターン形成用のマスクパターンデータの生成方法であって、マスクパターン6のパターン寸法およびパターンピッチの少なくとも一つに応じて生じるマスクパターン6を被露光体7上に転写した際の転写位置ずれ量を補正するための位置補正量テーブルに基づいてマスクパターン6のデータを生成する。
【選択図】 図1
Description
この第1実施形態は、反射型露光用マスクを用いるリソグラフィ技術に関する。背景技術において説明したように、マスクパターンに対して斜めに入射する露光光に対応する反射型露光用マスクを用いるリソグラフィ工程では、斜め入射効果による影響により被露光体上のマスクパターンの転写像に位置ずれが発生する。そこで本実施形態では、被露光体上に転写されるマスクパターンの像であるデバイスパターンの寸法およびピッチに依存する位置ずれ量(シフト量)をマスク上で補正して、所望のパターンを被露光体上に忠実に転写することができるマスクパターンデータの生成方法を提供する。特に、本実施形態では、実際のパターン転写に先立って予め求めておいた被露光体上に転写されたパターンの寸法およびピッチに対応する位置ずれ量に基づいて、位置ずれ補正量テーブルを作成する。そして、このテーブルに基づいてマスクパターンのデータを補正する。以下、図1〜図5を参照しつつ、本願発明に係る第1実施形態について具体的に説明する。
次に、本願発明に係る第2実施形態について図6を参照しつつ説明する。なお、前述した第1実施形態と同一部分には同一符号を付して、それらの詳しい説明を省略する。本実施形態においては、パターンの寸法(サイズ)に起因するパターン転写位置のシフト量(位置ずれ量)を、パターンのサイズごとに計測する方法について説明する。
次に、本願発明に係る第3実施形態について図7〜図9を参照しつつ説明する。なお、前述した第1および第2の各実施形態と同一部分には同一符号を付して、それらの詳しい説明を省略する。
次に、本願発明に係る第4実施形態について図10〜図12を参照しつつ説明する。本実施形態においては、第3実施形態とは異なり、2回の露光でパターンサイズごとの位置シフト量を測定することができる技術について説明する。なお、前述した第1〜第3の各実施形態と同一部分には同一符号を付して、それらの詳しい説明を省略する。
次に、本願発明に係る第5実施形態について図13〜図16を参照しつつ説明する。なお、前述した第1〜第4の各実施形態と同一部分には同一符号を付して、それらの詳しい説明を省略する。
次に、本願発明に係る第6実施形態について図示を省略して説明する。本実施形態においては、本実施形態においては、前述した第1〜第5の各実施形態のうちの少なくとも一つに係るマスクパターンデータの生成方法により生成されたマスクパターンデータに基づいてマスクパターンを形成することを特徴とするマスクの製造方法について説明する。なお、前述した第1〜第5の各実施形態と同一部分には同一符号を付して、それらの詳しい説明を省略する。
次に、本願発明に係る第7実施形態について図示を省略して説明する。本実施形態においては、前述した第1〜第5の各実施形態のうちの少なくとも一つに係るマスクパターンデータの生成方法を利用する半導体装置の製造方法について説明する。なお、前述した第6実施形態に係るマスクの製造方法により製造される反射型露光用マスク1は、前述したように第1〜第5の各実施形態のうちの少なくとも一つに係るマスクパターンデータの生成方法を利用して製造される反射型露光用マスク1である。このため、本実施形態においては、第6実施形態に係るマスクの製造方法により製造される反射型露光用マスク1を用いて半導体装置を製造する方法について説明する。なお、前述した第1〜第6の各実施形態と同一部分には同一符号を付して、それらの詳しい説明を省略する。
Claims (5)
- 反射型露光用マスクに形成されるデバイスパターン形成用のマスクパターンデータの生成方法であって、
前記マスクパターンのパターン寸法およびパターンピッチの少なくとも一つに応じて生じる前記マスクパターンを被露光体上に転写した際の転写位置ずれ量を補正するための位置補正量テーブルに基づいて前記マスクパターンのデータを生成することを特徴とするマスクパターンデータの生成方法。 - 前記反射型露光用マスクに形成される、前記デバイスパターン形成用マスクパターンと同じパターン寸法およびパターンピッチを有する重ね合わせずれ測定用マスクパターンのマスクパターンデータも前記位置補正量テーブルに基づいて求めることを特徴とする請求項1に記載のマスクパターンデータの生成方法。
- 同一ピッチの周期パターンまたは同一寸法のパターンを対向するように配置した一対のアウターパターンを複数対有するアウターパターン群と、
前記各アウターパターン対の内側において同一ピッチの周期パターンまたは同一寸法のパターンを対向するように配置した一対のインナーパターンを有し、かつ、各インナーパターン対はそれぞれ異なるピッチの周期パターン又はそれぞれ異なる寸法のパターンから構成されるインナーパターンを有しているインナーパターン群と、
を有する測定用マスクパターンが形成された反射型露光用マスクを用いて、前記測定用マスクパターンを被露光体上に転写した際の前記アウターパターン群とインナーパターン群の転写位置に基づき、前記位置補正量テーブルが求められることを特徴とする請求項1に記載のマスクパターンデータの生成方法。 - 前記位置補正量テーブルは、前記アウターパターン対とその内側に配置されるインナーパターン対の転写位置の差を、前記測定用マスクパターンに含まれる前記アウターパターン対とその内側に配置されるインナーパターン対毎に測定することにより求めることを特徴とする請求項3に記載のマスクパターンデータの生成方法。
- 請求項1〜4のうちのいずれか1項に記載のマスクパターンデータの生成方法により生成されたマスクパターンデータに基づいてマスクパターンを形成することを特徴とするマスクの製造方法。
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