JP2009542849A - 表面上の残留物を除去するための洗浄調合物 - Google Patents
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Abstract
Description
式(I)において、R1は、任意に置換された直鎖もしくは分枝鎖状C1〜C20アルキル基、任意に置換されたC3〜C20シクロアルキル基、または任意に置換されたC6〜C14アリール基である。R1基の例としては、メチル、トリフルオロメチル、エチル、2,2,2−トリフルオロエチル、2,2,2,−トリクロロエチル、ヒドロキシエチル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ノルマルブチル、イソブチル、ターシャリーブチル、sec−ブチル、シクロブチル、ペンチル、1−ヒドロキシペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプチル、2−シクロヘキシルエチル、オクチル、デシル、ペンタデシル、エイコシル、ベンジルおよびフェニルが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本開示の洗浄組成物の一実施形態において、少なくとも1種の水溶性カルボン酸は、付加的な配位子を有さない少なくとも1種のモノカルボン酸を含む。このカルボン酸の下位分類の例としては、酢酸、ギ酸、酪酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、吉草酸、イソ吉草酸、トリメチル酢酸およびそれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない、
本開示の洗浄組成物の別の実施形態において、少なくとも1種の水溶性カルボン酸は、1つの付加的な配位子を有した少なくとも1種のモノカルボン酸を含む。このカルボン酸の下位分類の例としては、ピルビン酸、乳酸、グリコール酸、マンデル酸、アセトキシ酢酸、3−ヒドロキシ酪酸、2−ヒドロキシイソ酪酸、2−ケト酪酸、およびそれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
(a)水と、
(b)約0.01重量%〜約15重量%の少なくとも1種の式(1)の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステル(前記式中、R1は、任意に置換された直鎖もしくは分枝鎖状C1〜C20アルキル基、任意に置換されたC3〜C20シクロアルキル基、または任意に置換されたC6〜C14アリール基である)と、
(c)約0.01重量%〜約20重量%の少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、
(d)任意で、約0.001重量%〜約15重量%のカルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤とを含有する。
(a)水と、
(b)約0.05重量%〜約10重量%の少なくとも1種の式(1)の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステル(前記式中、R1は、任意に置換された直鎖もしくは分枝鎖状C1〜C10アルキル基、または任意に置換されたC3〜C10シクロアルキル基である)と、
(c)1つの付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、2つ以上の付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、付加的な配位子を有さないジカルボン酸、1つの付加的な配位子を備えたジカルボン酸、2つ以上の付加的な配位子を備えたジカルボン酸、付加的な配位子を有さないポリカルボン酸、付加的な配位子を備えたポリカルボン酸、少なくとも1つの窒素部分を備えたモノカルボン酸、および少なくとも1つの窒素部分を備えたジカルボン酸またはポリカルボン酸のうちから選択される、約0.05重量%〜約15重量%の少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、
(d)任意で、約0.005重量%〜約10重量%のカルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤とを含有する。
(a)水と、
(b)約0.1重量%〜約7.5重量%の少なくとも1種の式(1)の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステル(前記式中、R1は、直鎖もしくは分枝鎖状したC1〜C5アルキル基またはC3〜C5シクロアルキル基である)と、
(c)1つの付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、2つ以上の付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、1つの付加的な配位子を備えたジカルボン酸、2つ以上の付加的な配位子を備えたジカルボン酸および付加的な配位子を備えたポリカルボン酸のうちから選択される、約0.1重量%〜約10重量%の少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、
(d)任意で、約0.01重量%〜約8重量%のカルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤とを含有する。
(a)水と、
(b)約0.1重量%〜約5重量%の少なくとも1種の式(1)の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステル(前記式中、R1はメチル基またはエチル基である)と、
(c)1つの付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、2つ以上の付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、および付加的な配位子を備えたポリカルボン酸のうちから選択される、約0.1重量%〜約6重量%の少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、
(d)任意で、約0.01重量%〜約6重量%のカルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤とを含有する。
本開示の洗浄組成物は、任意で、1種以上のpH調整剤を含有してもよい。pH調整剤は、組成物を約2〜約6のpH範囲内に入るように調整する必要がある場合に用いられる。好ましいpH範囲は、約2〜約5である。より好ましいpH範囲は、約2〜約4である。最も好ましいpHの範囲は、約2.2〜約3.5である。本開示に有用なpH調整剤の種類の例としては、ヒドロキシルアミン、アルカノールアミン、アルキルアミンおよびアルキルアンモニウムヒドロキシドが挙げられるが、これらに限定されるものではない。適当なpH調整剤の例としては、ヒドロキシルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチレングリコールアミン、N−ヒドロキシエチルピペラジン(N-hydoxyethylpiperazine)、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、エチルメチルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、モノ−n‐プロピルアミン、モノ−n‐ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、N,N−ジメチル−1,3−プロパンジアミン(N,N-dimethyl-1,3-popanediamine)、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、フルフリルアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、およびメチルトリ(ヒドロキシエチル)アンモニウムヒドロキシドが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
(a)水と、
(b)約0.1重量%〜約7.5重量%のカルバジン酸メチルと、
(c)重量比3:1のクエン酸と乳酸との混合物、約0.1重量%〜約10重量%とを含有する。
(a)水と、
(b)約0.1重量%〜約5重量%のカルバジン酸メチルと、
(c)約0.1重量%〜約6重量%のクエン酸および乳酸の重量比1:1の混合物と、
(d)任意で、約0.01重量%〜約6重量%のアスコルビン酸とを含有する。
(a)水と、
(b)約0.1重量%〜約7.5重量%のカルバジン酸メチルとカルバジン酸エチルとの重量比1:1の混合物と、
(c)約0.1重量%〜約10重量%のクエン酸と、
(d)約10ppm〜1000ppmの非イオン性界面活性剤とを含有する。
(a)水と、
(b)約0.05重量%〜約10重量%のカルバジン酸エチルと、
(c)約0.05重量%〜約15重量%の乳酸と、
(d)組成物のpHを約2〜約5の範囲に調整するのに十分な量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシドとを含有する。
(a)水と、
(b)約0.1重量%〜約5重量%のカルバジン酸ターシャリーブチルと、
(c)約0.1重量%〜約6重量%のクエン酸と乳酸との重量比1:3の混合物と、
(d)組成物のpHを約2.2〜約3.5の範囲に調整するのに十分な量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシドとを含有する。
(a)水と、
(b)約0.01重量%〜約15重量%のカルバジン酸メチルと、
(c)約0.01重量%〜約20重量%のクエン酸とD−グルコン酸との重量比4:1の混合物と、
(d)任意で、約0.001重量%〜約15重量%のマレイン酸ヒドラジン(maleic hydrazine)と、
(e)組成物のpHを約2〜約6の範囲に調整するのに十分な量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシドとを含有する。
(a)エッチング後(post etch)残留物および/または灰化後(post ash)残留物を含む半導体基板を用意する工程と、
(b)前記半導体基板を洗浄組成物と接触させる工程であって、前記洗浄組成物は、水と、少なくとも1種の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルと、少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、任意で、カルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤とを含有する、工程と、
(c)前記半導体基板を適当なすすぎ溶剤ですすぐ工程と、
(d)任意で、前記すすぎ溶剤を除去するとともに、前記半導体基板の完全性を損なわない任意の手段によって、前記半導体を乾燥させる工程とを有する。
(1)CMP後残留物を含む半導体基板を用意する工程と、
(2)前記半導体基板を洗浄組成物と接触させる工程であって、前記洗浄組成物は、水と、少なくとも1種の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルと、少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、任意で、カルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤とを含有する、工程と、
(3)前記半導体基板を適当なすすぎ溶剤ですすぐ工程と、
(4)任意で、すすぎ溶剤を除去するとともに、前記半導体基板の完全性を損なわない任意の手段によって、前記半導体基板を乾燥させる工程とを有する。
(a)水と、
(b)約0.01重量%〜約15重量%の少なくとも1種の式(1)の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステル(前記式中、R1は、任意に置換された直鎖もしくは分枝鎖状C1〜C20アルキル基、任意に置換されたC3〜C20シクロアルキル基、または任意に置換されたC6〜C14アリール基である)と、
(c)約0.01重量%〜約20重量%の少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、
(d)約0.0005重量%〜約5重量%のフッ化物含有物質と、
(e)任意で、約0.001重量%〜約15重量%のカルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤とを含有する。
(a)水と、
(b)約0.05重量%〜約10重量%の少なくとも1種の式(1)の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステル(前記式中、R1は、任意に置換された直鎖もしくは分枝鎖状C1〜C10アルキル基、または任意に置換されたC3〜C10シクロアルキル基である)と、
1つの付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、2つ以上の付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、付加的な配位子を有さないジカルボン酸、1つの付加的な配位子を備えたジカルボン酸、2つ以上の付加的な配位子を備えたジカルボン酸、付加的な配位子を有さないポリカルボン酸、付加的な配位子を備えたポリカルボン酸、少なくとも1つの窒素部分を備えたモノカルボン酸、および少なくとも1つの窒素部分を備えたジカルボン酸またはポリカルボン酸のうちから選択される、約0.05重量%〜約15重量%の少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、
(d)約0.005重量%〜約3重量%のフッ化物含有物質と、
(e)任意で、約0.005重量%〜約10重量%のカルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤とを含有する。
(a)水と、
(b)約0.1重量%〜約7.5重量%の少なくとも1種の式(1)の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステル(前記式中、R1は、直鎖もしくは分枝鎖状したC1〜C5アルキル基またはC3〜C5シクロアルキル基である)と、
(c)1つの付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、2つ以上の付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、1つの付加的な配位子を備えたジカルボン酸、2つ以上の付加的な配位子を備えたジカルボン酸および付加的な配位子を備えたポリカルボン酸のうちから選択される、約0.1重量%〜約10重量%の少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、
(d)約0.01重量%〜約2重量%のフッ化物含有物質と、
(e)任意で、約0.01重量%〜約8重量%のカルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤とを含有する。
(a)水と、
(b)約0.1重量%〜約5重量%の少なくとも1種の式(1)の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステル(前記式中、R1はメチル基またはエチル基である)と、
(c)約0.1重量%〜約6重量%の、1つの付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、2つ以上の付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、および付加的な配位子を備えたポリカルボン酸のうちから選択される少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、
(d)約0.05重量%〜約1.5重量%のフッ化物含有物質と、
(e)任意で、約0.01重量%〜約6重量%のカルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤とを含有する。
(a)水と、
(b)約0.1重量%〜約7.5重量%のカルバジン酸メチルと、
(c)重量比3:1のクエン酸と乳酸との混合物、約0.1重量%〜約10重量%と、
(d)約0.001重量%〜約3重量%のテトラメチルアンモニウムフルオリドとを含有する。
(a)水と、
(b)約0.1重量%〜約5重量%のカルバジン酸メチルと、
(c)約0.1重量%〜約6重量%のクエン酸および乳酸の重量比1:1の混合物と、
(d)約0.001重量%〜約3重量%のフッ化アンモニウムと、
(e)任意で、約0.01重量%〜約6重量%のアスコルビン酸とを含有する。
(a)水と、
(b)約0.1重量%〜約7.5重量%のカルバジン酸メチルとカルバジン酸エチルとの重量比1:1の混合物と、
(c)約0.1重量%〜約10重量%のクエン酸と、
(d)約0.01重量%〜約2重量%のテトラメチルアンモニウムフルオリドと、
(e)約10ppm〜1000ppmの非イオン性界面活性剤とを含有する。
(a)水と、
(b)約0.05重量%〜約10重量%のカルバジン酸エチルと、
(c)約0.05重量%〜約15重量%の乳酸と、
(d)約0.01重量%〜約2重量%のテトラメチルアンモニウムフルオリドと、
(e)前記フッ化物含有洗浄組成物のpHを約2〜約5の範囲に調整するのに十分な量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシドとを含有する。
(a)水と、
(b)約0.1重量%〜約5重量%のカルバジン酸ターシャリーブチルと、
(c)約0.1重量%〜約6重量%のクエン酸と乳酸との重量比1:3の混合物と、
(d)約0.001重量%〜約3重量%のテトラエチルアンモニウムフルオリドと、
(e)前記フッ化物含有組成物のpHを約2.2〜約3.5の範囲に調整するのに十分な量のテトラメチルアンモニウムヒドロキシドとを含有する。
(a)水と、
(b)約0.01重量%〜約15重量%のカルバジン酸メチルと、
(c)約0.01重量%〜約20重量%のクエン酸とD−グルコン酸との重量比4:1の混合物と、
(d)約0.001重量%〜約3重量%の、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドとHFとの1:1モルの混合物と、
(e)任意で、約0.001重量%〜約15重量%のマレイン酸ヒドラジン(maleic hydrazine)とを含有する。
本開示の別の実施形態は、半導体基板から残留物を洗浄する方法であり、前記方法は、
(a)エッチング後残留物および/または灰化後残留物を含む半導体基板を用意する工程と、
(b)前記半導体基板をフッ化物含有洗浄組成物と接触させる工程であって、前記フッ化物含有洗浄組成物は、(A)水と、(B)少なくとも1種の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルと、(C)少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、(D)水溶性フッ化物含有物質と、(E)任意で、カルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤とを含有する、工程と、
(c)前記半導体基板を適当なすすぎ溶剤ですすぐ工程と、
(d)任意で、前記すすぎ溶剤を除去するとともに、前記半導体基板の完全性を損なわない任意の手段によって、前記半導体を乾燥させる工程とを有する。
本開示はまた、化学機械研磨を受けた銅および低k誘電体基板上の、スラリーおよび金属微粒子、並びに他の残留有機物および金属酸化物残留物を除去するのに有用な別の非腐食性のCMP後洗浄方法にも関する。任意選択のバフ研磨工程を含む適当な化学機械研磨工程は上述の通りであり、双方とも後CMP残留物洗浄に先行する。
(1)CMP後残留物を含む半導体基板を用意する工程と、
(2)前記半導体基板をフッ化物含有洗浄組成物と接触させる工程であって、前記洗浄組成物は、(A)水と、(B)少なくとも1種の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルと、(C)少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、(D)水溶性フッ化物含有物質と、(E)任意で、カルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤とを含有する、工程と、
(3)前記半導体基板を適当なすすぎ溶剤ですすぐ工程と、
(4)任意で、前記すすぎ溶剤を除去するとともに、前記半導体基板の完全性を損なわない任意の手段によって、前記半導体基板を乾燥させる工程とを有する。
まず、カルボン酸を超高純度脱イオン水(DI水)に完全に溶解させることによって、1000gの洗浄組成物を調製した。次に、酸化/還元剤(すなわちヒドラジノカルボン酸エステル、硫酸ヒドロキシルアンモニウムおよび任意の腐食抑制剤)を添加して完全に溶解させた。pH調整剤を用いる場合には、この時点でpH調整剤を添加して完全に溶解させた。他の添加剤を用いる場合には、他の添加剤を最後に添加した。全成分が完全に溶解した後、周囲温度においてpH測定を行った。用いた全成分は商業的に入手可能であり、高純度であった。
まず、カルボン酸を超高純度脱イオン水(DI水)に完全に溶解させることによって、フッ化物含有洗浄組成物を調製した。次に、酸化/還元剤(すなわちヒドラジノカルボン酸エステル、硫酸ヒドロキシルアンモニウムおよび任意の腐食抑制剤)を添加して完全に溶解させた。次に、フッ化物含有物質を添加して完全に溶解させた。次に、非イオン性界面活性剤(OHS)を添加して完全に溶解させた。pH調整剤を用いる場合には、この時点でpH調整剤を添加して完全に溶解させた。全成分が完全に溶解した後、周囲温度においてpH測定を行った。用いた全成分は商業的に入手可能であり、高純度であった。
電気化学データは、EG&G PARC 263Aポテンシオスタット/ガルバノスタットを用いて得た。電気化学試験セルは、約120mlの溶液容積を有していた。試験はすべて制御された撹拌および温度設定を維持して行なった。電気化学試験セルは、標準水素電極(SHE)に対して+242mVの電位を有する飽和カロメル参照電極と、白金対向電極とを用いた。(a)Si/SiO2/Ta/Cu薄膜スタック、または(b)Si/SiO2/Ti/Al−4%Cu合金薄膜スタックのいずれかを含む200mmのシリコンウェハ基板を、ダイヤモンドスクライバーを用いて、幅1.5cm×長さ5cmの試験片(test coupons)に切断した。作用電極面として試験溶液に曝露されたCuまたはAl−4%Cu金属膜は、少なくとも1μmだが1.5μm以下の膜厚を有する。作用電極面積はすべての試験に対して0.33cm2であった。
実施例5〜6および比較例4〜5は、基本手順1を用いて、表4に列記した洗浄組成物によって調製した。
実施例7〜11および比較例6〜8は、基本手順2を用いて、表6に列記したフッ化物含有洗浄組成物によって調製した。銅腐食率およびアルミニウム腐食率の双方を、基本手順3に従った電気化学試験を用いて、60°C+/−2℃の一定温度環境および0.16mV/秒の直線分極スキャンレートで測定した。結果を表6に列記する。
実施例12〜20および比較例9は、基本手順2を用いて、表8に列記したフッ化物洗浄組成物によって調製した。
Claims (32)
- 水と、
少なくとも1種の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルと、
少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、
任意で、少なくとも1種の水溶性フッ化物含有物質と、
任意で、カルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤とを含有する、非腐食性洗浄組成物。 - 前記洗浄組成物のpHは約2〜約6である、請求項1に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 界面活性剤、消泡剤、バイオサイドおよびそれらの任意の組み合わせのうちから選択される添加剤をさらに含有する、請求項1に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 前記水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルは下記式(I)を有し、
R1−O−CO−NH−NH2 (I)
前記式中、R1は、直鎖もしくは分枝鎖状のC1〜C20アルキル基、C3〜C20シクロアルキル基、またはC6〜C14アリール基である、請求項1に記載の非腐食性洗浄組成物。 - R1が、メチル、トリフルオロメチル、エチル、2,2,2−トリフルオロエチル、2,2,2,−トリクロロエチル、ヒドロキシエチル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ノルマルブチル、イソブチル、ターシャリーブチル、sec−ブチル、シクロブチル、ペンチル、1−ヒドロキシペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプチル、2−シクロヘキシルエチル、オクチル、デシル、ペンタデシル、エイコシル、ベンジル、フェニル、およびそれらの任意の組み合わせのうちから選択される、請求項4に記載の非腐食性洗浄組成物。
- R1が直鎖C1〜C10アルキル基、分枝鎖C1〜C10アルキル基、またはC3〜C10シクロアルキル基である、請求項4に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 前記水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルは、カルバジン酸メチル、カルバジン酸エチル、カルバジン酸プロピル、カルバジン酸イソプロピル、カルバジン酸ブチル、カルバジン酸ターシャリーブチル、カルバジン酸ペンチル、カルバジン酸デシル、カルバジン酸ペンタデシル、カルバジン酸エイコシル、カルバジン酸ベンジル、カルバジン酸フェニル、カルバジン酸2−ヒドロキシエチルのうちから選択される少なくとも1つである、請求項4に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 前記水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルは、カルバジン酸メチル、カルバジン酸エチル、カルバジン酸ターシャリーブチルおよびカルバジン酸ベンジルのうちから選択される少なくとも1つである、請求項7に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 前記水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルは前記洗浄組成物の約0.01重量%〜約15重量%の量で存在する、請求項1に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 前記水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルは前記洗浄組成物の約0.1重量%〜約5重量%の量で存在する、請求項9に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルは、2種の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルの二成分混合物であり、その二成分混合物は、当該2種の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルのうちの一方が99重量%以内の比率で混合されたものである、請求項1に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 2種の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルの前記二成分混合物は、当該2種の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルの一方が95重量%以内の比率で混合されたものである、請求項11に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 2種の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルの前記二成分混合物は、当該2種の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルの一方が75重量%以内の比率で混合されたものである、請求項12に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 2種の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルの前記二成分混合物は、当該2種の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルの一方が50重量%以内の比率で混合されたものである、請求項13に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 前記水溶性カルボン酸は、1つの付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、2つ以上の付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、1つの付加的な配位子を備えたジカルボン酸、2つ以上の付加的な配位子を備えたジカルボン酸、および付加的な配位子を備えたポリカルボン酸のうちから選択される少なくとも1種である、請求項1に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 前記水溶性カルボン酸は、1つの付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、2つ以上の付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、および付加的な配位子を備えたポリカルボン酸のうちから選択される少なくとも1種である、請求項15に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 前記水溶性カルボン酸は前記組成物の約0.01重量%〜約20重量%の量で存在する、請求項1に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 前記水溶性カルボンは前記組成物の約0.01重量%〜約6重量%の量で存在する、請求項17に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 前記カルボキシル基を含まない腐食抑制剤は、前記組成物の約0.001重量%〜約15重量%の量で存在する、請求項1に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 前記カルボキシル基を含まない腐食抑制剤は、前記組成物の約0.01重量%〜約6重量%の量で存在する、請求項19に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 前記水溶性フッ化物含有物質は、フッ化アンモニウム、テトラメチルアンモニウムフルオリド、テトラエチルアンモニウムフルオリド、テトラブチルアンモニウムフルオリド、またはトリメチルエチルアンモニウムフルオリド、またはトリメチルエタノールアンモニウムフルオリドのうちから選択される、請求項1に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 前記水溶性フッ化物含有物質は、テトラメチルアンモニウムフルオリド、テトラブチルアンモニウムフルオリドまたはトリメチルエチルアンモニウムフルオリドのうちから選択される、請求項21に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 前記水溶性フッ化物含有物質は前記組成物の約0.0005重量%〜約5重量%の量で存在する、請求項1に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 前記水溶性フッ化物含有物質は前記組成物の約0.05重量%〜約1.5重量%の量で存在する、請求項23に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 水と、
カルバジン酸メチル、カルバジン酸エチル、カルバジン酸ターシャリーブチル、およびカルバジン酸ベンジルのうちから選択される少なくとも1種の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルと、
1つの付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、2つ以上の付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、および付加的な配位子を備えたポリカルボン酸のうちから選択される少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、
テトラメチルアンモニウムフルオリド、テトラブチルアンモニウムフルオリド、またはトリメチルエチルアンモニウムフルオリドのうちから選択される少なくとも1種の水溶性フッ化物含有物質と、
任意で、カルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤と
を含有する、非腐食性洗浄組成物。 - 水と、
約0.01重量%〜約15重量%の少なくとも1種の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルと、
約0.01重量%〜約20重量%の少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、
約0.0005重量%〜約5重量%の少なくとも1種の水溶性フッ化物含有物質と、
任意で、カルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤と
を含有する、非腐食性洗浄組成物。 - 前記カルボキシル基を含まない腐食抑制剤は、前記組成物の約0.001重量%〜約15重量%の量で存在する、請求項26に記載の非腐食性洗浄組成物。
- 半導体基板から残留物を洗浄する方法であって、前記方法は、
半導体基板を用意する工程と、
前記半導体基板を洗浄組成物と接触させる工程と、前記洗浄組成物は、水と、少なくとも1種のヒドラジノカルボン酸エステルと、少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、任意で、少なくとも1種のフッ化物含有化合物と、任意で、カルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤とを含有することと、
前記半導体基板を適当なすすぎ溶剤ですすぐ工程と、
任意で、前記すすぎ溶剤を除去するとともに、前記半導体基板の完全性を損なわない任意の手段によって前記半導体を乾燥させる工程とを有する、方法。 - 前記半導体基板はエッチング後残留物および/または灰化後残留物を含む、請求項28に記載の方法。
- 前記半導体基板は化学機械研磨後残留物を含む、請求項28に記載の方法。
- 前記洗浄方法は、約16℃〜約70℃の温度で行われる、請求項28に記載の方法。
- 半導体基板から残留物を洗浄する方法であって、前記方法は、
半導体基板を用意する工程と、
前記半導体基板を洗浄組成物と接触させる工程と、
前記半導体基板を適当なすすぎ溶剤ですすぐ工程と、
任意で、前記すすぎ溶剤を除去するとともに、前記半導体基板の完全性を損なわない任意の手段によって前記半導体を乾燥させる工程とを有し、
前記洗浄組成物は、
水と、
カルバジン酸メチル、カルバジン酸エチル、カルバジン酸ターシャリーブチル、およびカルバジン酸ベンジルのうちから選択される少なくとも1種の水溶性ヒドラジノカルボン酸エステルと、
1つの付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、2つ以上の付加的な配位子を備えたモノカルボン酸、および付加的な配位子を備えたポリカルボン酸のうちから選択される少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、
テトラメチルアンモニウムフルオリド、テトラブチルアンモニウムフルオリド、またはトリメチルエチルアンモニウムフルオリド、少なくとも1種のヒドラジノカルボン酸エステルのうちから選択される少なくとも1種の水溶性フッ化物含有物質と、
任意で、カルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤とを含有する、方法。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010515107A (ja) * | 2007-01-03 | 2010-05-06 | エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション | 被膜用ストリッパ |
WO2015072552A1 (ja) * | 2013-11-18 | 2015-05-21 | 富士フイルム株式会社 | 半導体基板の処理液、処理方法、これらを用いた半導体基板製品の製造方法 |
JP2016060927A (ja) * | 2014-09-16 | 2016-04-25 | 朝日化学工業株式会社 | 腐食抑制剤組成物および非鉄金属用洗浄液組成物 |
JP2017504190A (ja) * | 2013-12-06 | 2017-02-02 | フジフイルム エレクトロニック マテリアルズ ユー.エス.エー., インコーポレイテッド | 表面上の残渣を除去するための洗浄用製剤 |
WO2018181901A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 関東化學株式会社 | 洗浄液組成物 |
US11407966B2 (en) | 2018-03-28 | 2022-08-09 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Cleaning compositions |
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Families Citing this family (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4524744B2 (ja) * | 2004-04-14 | 2010-08-18 | 日本電気株式会社 | 有機マスクの形成方法及び該有機マスクを利用したパターン形成方法 |
US9058975B2 (en) * | 2006-06-09 | 2015-06-16 | Lam Research Corporation | Cleaning solution formulations for substrates |
US8685909B2 (en) | 2006-09-21 | 2014-04-01 | Advanced Technology Materials, Inc. | Antioxidants for post-CMP cleaning formulations |
EP2164938B1 (en) * | 2007-05-17 | 2017-06-21 | Entegris Inc. | New antioxidants for post-cmp cleaning formulations |
WO2009013987A1 (ja) * | 2007-07-26 | 2009-01-29 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 洗浄防食用組成物および半導体素子または表示素子の製造方法 |
KR101382935B1 (ko) * | 2007-08-22 | 2014-04-09 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 반도체 드라이 프로세스 후의 잔사 제거액 및 이를 이용한 잔사 제거 방법 |
JP5192953B2 (ja) * | 2007-09-14 | 2013-05-08 | 三洋化成工業株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤 |
US7919446B1 (en) * | 2007-12-28 | 2011-04-05 | Intermolecular, Inc. | Post-CMP cleaning compositions and methods of using same |
TWI460557B (zh) * | 2008-03-07 | 2014-11-11 | Wako Pure Chem Ind Ltd | 半導體表面用處理劑組成物及使用半導體表面用處理劑組成物之半導體表面處理方法 |
US9048088B2 (en) * | 2008-03-28 | 2015-06-02 | Lam Research Corporation | Processes and solutions for substrate cleaning and electroless deposition |
CN101555029B (zh) * | 2008-04-09 | 2011-05-04 | 清华大学 | 铝酸锌纳米材料的制备方法 |
KR101486116B1 (ko) * | 2008-10-09 | 2015-01-28 | 아반토르 퍼포먼스 머티리얼스, 인크. | 산화구리 에칭 잔여물 제거 및 구리 전착 방지용 수성 산성 배합물 |
KR101752684B1 (ko) | 2008-10-21 | 2017-07-04 | 엔테그리스, 아이엔씨. | 구리 세척 및 보호 조성물 |
US8329046B2 (en) * | 2009-02-05 | 2012-12-11 | Asia Union Electronic Chemical Corporation | Methods for damage etch and texturing of silicon single crystal substrates |
KR20110127244A (ko) * | 2009-03-11 | 2011-11-24 | 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨. | 표면 상의 잔류물을 제거하기 위한 세정 조성물 |
CN102484057B (zh) * | 2009-09-02 | 2015-10-14 | 和光纯药工业株式会社 | 半导体表面用处理剂组合物和使用该组合物的半导体表面的处理方法 |
JP5827623B2 (ja) | 2009-09-18 | 2015-12-02 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung | インクジェット印刷可能なエッチングインク及び関連する方法 |
SG10201500387RA (en) * | 2010-01-29 | 2015-04-29 | Entegris Inc | Cleaning agent for semiconductor provided with metal wiring |
KR101829399B1 (ko) * | 2010-03-04 | 2018-03-30 | 삼성전자주식회사 | 감광성 수지 제거제 조성물 및 이를 이용하는 반도체 제조 공정 |
US20110277791A1 (en) * | 2010-05-17 | 2011-11-17 | Beauchamp Philip J | Method for removing coatings from surfaces such as paint applicator equipment |
EP2593964A4 (en) * | 2010-07-16 | 2017-12-06 | Entegris Inc. | Aqueous cleaner for the removal of post-etch residues |
WO2012161790A1 (en) * | 2011-02-24 | 2012-11-29 | John Moore | Concentrated chemical composition and method for removing photoresist during microelectric fabrication |
US8911558B2 (en) * | 2011-03-23 | 2014-12-16 | Nanya Technology Corp. | Post-tungsten CMP cleaning solution and method of using the same |
US20120260517A1 (en) * | 2011-04-18 | 2012-10-18 | Lam Research Corporation | Apparatus and Method for Reducing Substrate Pattern Collapse During Drying Operations |
US8894774B2 (en) * | 2011-04-27 | 2014-11-25 | Intermolecular, Inc. | Composition and method to remove excess material during manufacturing of semiconductor devices |
KR20120138290A (ko) * | 2011-06-14 | 2012-12-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 식각액 조성물, 및 이를 이용한 금속 배선과 박막 트랜지스터 기판 형성 방법 |
KR20140085559A (ko) * | 2011-10-25 | 2014-07-07 | 유니-픽셀 디스플레이스, 인코포레이티드 | 고해상도 도전성 패턴의 광학적 특성을 변화시키는 방법 |
JP2013133458A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 水性洗浄剤 |
US9070625B2 (en) | 2012-01-04 | 2015-06-30 | International Business Machines Corporation | Selective etch chemistry for gate electrode materials |
EP2626891A3 (en) * | 2012-02-07 | 2018-01-24 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Activation process to improve metal adhesion |
WO2013142250A1 (en) * | 2012-03-18 | 2013-09-26 | Advanced Technology Materials, Inc. | Post-cmp formulation having improved barrier layer compatibility and cleaning performance |
KR102081103B1 (ko) * | 2012-12-21 | 2020-02-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 콘택홀 형성방법 및 박막트랜지스터 어레이 기판의 제조방법 |
JP6378890B2 (ja) * | 2013-03-01 | 2018-08-22 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理方法 |
WO2014151361A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Cabot Microelectronics Corporation | Aqueous cleaning composition for post copper chemical mechanical planarization |
US20150104952A1 (en) * | 2013-10-11 | 2015-04-16 | Ekc Technology, Inc. | Method and composition for selectively removing metal hardmask and other residues from semiconductor device substrates comprising low-k dielectric material and copper |
EP3060642B1 (en) * | 2013-10-21 | 2019-11-06 | FujiFilm Electronic Materials USA, Inc. | Cleaning formulations for removing residues on surfaces |
WO2015068823A1 (ja) * | 2013-11-08 | 2015-05-14 | 和光純薬工業株式会社 | 半導体基板用洗浄剤および半導体基板表面の処理方法 |
CN107155367B (zh) | 2014-06-30 | 2021-12-21 | 恩特格里斯公司 | 利用钨及钴兼容性移除蚀刻后残余物的含水及半含水清洁剂 |
TWI819694B (zh) | 2015-07-14 | 2023-10-21 | 美商富士軟片電子材料美國股份有限公司 | 清潔組成物及其使用方法 |
US10761423B2 (en) | 2017-08-30 | 2020-09-01 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Chemical composition for tri-layer removal |
US10961487B2 (en) * | 2017-11-30 | 2021-03-30 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor device cleaning solution, method of use, and method of manufacture |
US10964549B2 (en) * | 2018-11-30 | 2021-03-30 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited | Wafer polishing with separated chemical reaction and mechanical polishing |
CN112296024A (zh) * | 2020-09-21 | 2021-02-02 | 苏州浪潮智能科技有限公司 | 一种金手指表面氧化层的清除方法 |
KR102449285B1 (ko) * | 2020-12-22 | 2022-10-05 | 주식회사 케이씨텍 | 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정 방법 |
US11728185B2 (en) | 2021-01-05 | 2023-08-15 | Applied Materials, Inc. | Steam-assisted single substrate cleaning process and apparatus |
US20220364018A1 (en) * | 2021-05-14 | 2022-11-17 | Ecolab Usa Inc. | Neutralizing instrument reprocessing |
US20230159866A1 (en) * | 2021-11-23 | 2023-05-25 | Entegris, Inc. | Microelectronic device cleaning composition |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06250405A (ja) * | 1993-02-24 | 1994-09-09 | Hitachi Chem Co Ltd | 水溶性レジストの剥離方法 |
JPH07219241A (ja) * | 1993-10-07 | 1995-08-18 | J T Baker Inc | 金属腐食を減少させるための還元剤を含有しているフォトレジストストリッパー |
JP2000226599A (ja) * | 1999-02-03 | 2000-08-15 | Samsung Electronics Co Ltd | 集積回路の基板表面の不純物を除去するための洗浄水溶液及びこれを用いた洗浄方法 |
JP2001521285A (ja) * | 1997-10-21 | 2001-11-06 | オントラック・システムズ・インコーポレーテッド | 銅フィルムの研磨後に半導体基板を洗浄するための方法および装置 |
JP2002506295A (ja) * | 1998-03-09 | 2002-02-26 | ラム リサーチ コーポレーション | 銅フィルムの研磨後に半導体基板を洗浄するための方法および装置 |
JP2003512741A (ja) * | 1999-10-15 | 2003-04-02 | アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド | 金属上で酸化物を選択的にエッチングするための新規な組成物 |
JP2003167360A (ja) * | 2001-12-04 | 2003-06-13 | Kanto Chem Co Inc | フォトレジスト残渣除去液組成物 |
JP2005026338A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Kobe Steel Ltd | 微細構造体用洗浄液 |
JP2006083376A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-30 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 洗浄液および洗浄法。 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7144848B2 (en) | 1992-07-09 | 2006-12-05 | Ekc Technology, Inc. | Cleaning compositions containing hydroxylamine derivatives and processes using same for residue removal |
JP2731730B2 (ja) | 1993-12-22 | 1998-03-25 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | フォトレジストの除去方法 |
DE19540073A1 (de) | 1995-10-27 | 1997-04-30 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Carbazaten |
US6447693B1 (en) | 1998-10-21 | 2002-09-10 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Slurries of abrasive inorganic oxide particles and method for polishing copper containing surfaces |
US6083840A (en) | 1998-11-25 | 2000-07-04 | Arch Specialty Chemicals, Inc. | Slurry compositions and method for the chemical-mechanical polishing of copper and copper alloys |
TW441019B (en) | 2000-02-23 | 2001-06-16 | Taiwan Semiconductor Mfg | Manufacturing method of copper damascene |
US6436832B1 (en) | 2000-05-23 | 2002-08-20 | Applied Materials, Inc | Method to reduce polish initiation time in a polish process |
US6517413B1 (en) | 2000-10-25 | 2003-02-11 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Method for a copper CMP endpoint detection system |
US6464568B2 (en) | 2000-12-04 | 2002-10-15 | Intel Corporation | Method and chemistry for cleaning of oxidized copper during chemical mechanical polishing |
US6455432B1 (en) | 2000-12-05 | 2002-09-24 | United Microelectronics Corp. | Method for removing carbon-rich particles adhered on a copper surface |
US6627546B2 (en) | 2001-06-29 | 2003-09-30 | Ashland Inc. | Process for removing contaminant from a surface and composition useful therefor |
US6773873B2 (en) * | 2002-03-25 | 2004-08-10 | Advanced Technology Materials, Inc. | pH buffered compositions useful for cleaning residue from semiconductor substrates |
EP1628336B1 (en) * | 2004-08-18 | 2012-01-04 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Cleaning liquid and cleaning method |
US7700533B2 (en) * | 2005-06-23 | 2010-04-20 | Air Products And Chemicals, Inc. | Composition for removal of residue comprising cationic salts and methods using same |
US7879783B2 (en) * | 2007-01-11 | 2011-02-01 | Air Products And Chemicals, Inc. | Cleaning composition for semiconductor substrates |
-
2007
- 2007-06-28 US US11/770,382 patent/US7947637B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-06-29 WO PCT/US2007/015169 patent/WO2008005354A2/en active Application Filing
- 2007-06-29 JP JP2009518302A patent/JP5442436B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-06-29 KR KR1020097000741A patent/KR20090034338A/ko active IP Right Grant
- 2007-06-29 EP EP07810054A patent/EP2041776A4/en not_active Withdrawn
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06250405A (ja) * | 1993-02-24 | 1994-09-09 | Hitachi Chem Co Ltd | 水溶性レジストの剥離方法 |
JPH07219241A (ja) * | 1993-10-07 | 1995-08-18 | J T Baker Inc | 金属腐食を減少させるための還元剤を含有しているフォトレジストストリッパー |
JP2001521285A (ja) * | 1997-10-21 | 2001-11-06 | オントラック・システムズ・インコーポレーテッド | 銅フィルムの研磨後に半導体基板を洗浄するための方法および装置 |
JP2002506295A (ja) * | 1998-03-09 | 2002-02-26 | ラム リサーチ コーポレーション | 銅フィルムの研磨後に半導体基板を洗浄するための方法および装置 |
JP2000226599A (ja) * | 1999-02-03 | 2000-08-15 | Samsung Electronics Co Ltd | 集積回路の基板表面の不純物を除去するための洗浄水溶液及びこれを用いた洗浄方法 |
JP2003512741A (ja) * | 1999-10-15 | 2003-04-02 | アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド | 金属上で酸化物を選択的にエッチングするための新規な組成物 |
JP2003167360A (ja) * | 2001-12-04 | 2003-06-13 | Kanto Chem Co Inc | フォトレジスト残渣除去液組成物 |
JP2005026338A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Kobe Steel Ltd | 微細構造体用洗浄液 |
JP2006083376A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-30 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 洗浄液および洗浄法。 |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010515107A (ja) * | 2007-01-03 | 2010-05-06 | エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション | 被膜用ストリッパ |
US10199210B2 (en) | 2013-11-18 | 2019-02-05 | Fujifilm Corporation | Semiconductor substrate treatment liquid, treatment method, and method for manufacturing semiconductor-substrate product using these |
WO2015072552A1 (ja) * | 2013-11-18 | 2015-05-21 | 富士フイルム株式会社 | 半導体基板の処理液、処理方法、これらを用いた半導体基板製品の製造方法 |
JP2015099831A (ja) * | 2013-11-18 | 2015-05-28 | 富士フイルム株式会社 | 半導体基板の処理液、処理方法、これらを用いた半導体基板製品の製造方法 |
JP2019116634A (ja) * | 2013-12-06 | 2019-07-18 | フジフイルム エレクトロニック マテリアルズ ユー.エス.エー., インコーポレイテッド | 表面上の残渣を除去するための洗浄用製剤 |
US11618867B2 (en) | 2013-12-06 | 2023-04-04 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Cleaning formulation for removing residues on surfaces |
JP2017504190A (ja) * | 2013-12-06 | 2017-02-02 | フジフイルム エレクトロニック マテリアルズ ユー.エス.エー., インコーポレイテッド | 表面上の残渣を除去するための洗浄用製剤 |
US10253282B2 (en) | 2013-12-06 | 2019-04-09 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Cleaning formulation for removing residues on surfaces |
JP7491497B2 (ja) | 2013-12-06 | 2024-05-28 | フジフイルム エレクトロニック マテリアルズ ユー.エス.エー., インコーポレイテッド | 表面上の残渣を除去するための洗浄用製剤 |
US10415005B2 (en) | 2013-12-06 | 2019-09-17 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Cleaning formulation for removing residues on surfaces |
US10696933B2 (en) | 2013-12-06 | 2020-06-30 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Cleaning formulation for removing residues on surfaces |
US10927329B2 (en) | 2013-12-06 | 2021-02-23 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Cleaning formulation for removing residues on surfaces |
US11286444B2 (en) | 2013-12-06 | 2022-03-29 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Cleaning formulation for removing residues on surfaces |
US11401487B2 (en) | 2013-12-06 | 2022-08-02 | Fujifilm Electronics Materials U.S.A., Inc. | Cleaning formulation for removing residues on surfaces |
US11639487B2 (en) | 2013-12-06 | 2023-05-02 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Cleaning formulation for removing residues on surfaces |
JP2016060927A (ja) * | 2014-09-16 | 2016-04-25 | 朝日化学工業株式会社 | 腐食抑制剤組成物および非鉄金属用洗浄液組成物 |
WO2018181901A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 関東化學株式会社 | 洗浄液組成物 |
US11407966B2 (en) | 2018-03-28 | 2022-08-09 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Cleaning compositions |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7947637B2 (en) | 2011-05-24 |
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