JP2009513348A5 - - Google Patents

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本発明はさらに、下記の実施例に定義される。本発明の好ましい実施形態を示すこれらの実施例は、例として挙げられているだけのものであると理解されたい。上記の考察およびこれらの実施例から、当業者は、本発明の好ましい特徴を確認することができ、その趣旨および範囲から逸脱することなく、本発明を様々な使用および条件に適応させるために本発明の様々な変更および修正を行うことができる。
以下、本明細書に記載の発明につき列記する。
1.
残渣を表面から除去する方法であって、
a)表面を、式E−またはZ−R CH=CHR (式中、R およびR は独立に、C 〜C パーフルオロアルキル基、またはC 〜C ヒドロフルオロアルキル基である)を有する化合物からなる群から選択される少なくとも1つの不飽和フッ素化炭化水素を含む組成物と接触させるステップと:
(b)前記表面を前記組成物から回収するステップと
を含むことを特徴とする方法。
2.
およびR が独立に、CF 、C 5、 CF CF CF 、CF(CF 、CF CF CF CF 、CF(CF )CF CF 、CF CF(CF 、C(CF 、CF CF CF CF CF 、CF CF CF(CF 、C(CF 、CF CF CF CF CF CF 、CF(CF )CF CF 、C(CF CF 、CHF 、CH F、C HF 、C 、C 、C HF 、i−C HF 、C 、C 、C HF 、C 、C HF 10 、C 、またはC HF 12 であることを特徴とする前記1.に記載の方法。
3.
前記少なくとも1つの不飽和フッ素化炭化水素が、CF CH=CHCF 、CF CH=CHC 、CF CH=CHCF 、CF CH=CHCF(CF 、C CH=CHC 、CF CH=CH(CF CF 、CF CH=CHCF CF(CF 、CF CH=CHCF(CF )C 、CF CH=CHC(CF 、C CH=CHCF 、C CH=CHCF(CF 、CF CH=CH(CF CF 、CF CH=CHCF CF CF(CF 、CF CH=CHC(CF 、C CH=CH(CF CF 、C CH=CHCF CF(CF 、C CH=CHCF(CF )C 、C CH=CHC(CF 、C CF CH=CHCF 、(CF CFCH=CHCF(CF 、C CF CH=CHCF(CF 、CF CH=CH(CF CF 、CF CH=CHCF(CF )(CF 、CF CH=CHC(CF CF 、C CH=CH(CF CF 、C CH=CHCF CF CF(CF 、C CH=CHC(CF 、C CF CH=CH(CF CF 、C CF CH=CHCF CF(CF 、C CF CH=CHCF(CF )C 、C CF CH=CHC(CF 、(CF CFCH=CH(CF CF 、(CF CFCH=CHCF CF(CF 、(CF CFCH=CHCF(CF )C 、(CF CFCH=CHC(CF 、C CH=CH(CF CF 、C CH=CHCF(CF )(CF 、C CH=CHC(CF CF 、C CF CH=CH(CF CF 、C CF CH=CHCF CF CF(CF 、C CF CH=CHC(CF 、(CF CFCH=CH(CF CF 、(CF CFCH=CHCF CF CF(CF 、(CF CFCH=CHC(CF 、CF (CF CH=CH(CF CF 、CF (CF CH=CHCF CF(CF 、CF (CF CH=CHCF(CF )C 、CF (CF CH=CHC(CF 、(CF CFCF CH=CHCF CF(CF 、(CF CFCF CH=CHCF(CF )C 、(CF CFCF CH=CHC(CF 、C CF(CF )CH=CHCF(CF )C 、C CF(CF )CH=CHC(CF 、または(CF CCH=CHC(CF の少なくとも1つであることを特徴とする前記1.に記載の方法。
4.
前記不飽和フッ素化炭化水素が、(CF CFCH=CH 、CF CF CF CH=CH 、CH =CFCF CF CHF 、CF =CHCF CH CF 、CF CF=C(CF )(CH )、CH =CFCH(CF 、CHF=CHCH(CF 、CH FCH=C(CF 、CH CF=C(CF 、(CF C=CHCH 、CHF CF CF=CFCH 、C CF=CHCH 、CF C(CH )=CHCF 、CH =CHCF CHFCF 、CH =C(CF )CH CF 、CF CH=CFCH CH 、CF CH=C(CH 、CF (CF CF=CF 、CF CF CF=CFCF CF 、(CF C=C(CF 、(CF CFCF=CFCF 、(CF C=CHC 、(CF CFCF=CHCF 、CF CF CF CF CH=CH 、CH =CHC(CF 、(CF C=C(CH )(CF )、CH =CFCF CH(CF 、CF CF=C(CH )CF CF 、CF CH=CHCH(CF 、(CF CFCF=CHCH 、CF CF CF CF=CHCH 、CH =CHCF CF CF CHF 、(CF C=CHCF CH 、CH =C(CF )CH 、CF CF CF C(CH )=CH 、CF CF CF CH=CHCH 、CH =CHCH CF 、CF CF CF=CFC 、CH =CHCH CF(CF 、CF CF=CHCH(CF )(CH )、(CF C=CFC 、(CH C=CFCF CF 、(CF C=C(CH 、CF CF=CFCF CF 、CF CF CF=CFCF 、CF CH=CFCF CF 、CF CF=CHCF CF 、CF CF CH=CFCF 、CF CF CF=CHCF 、CF CF CF CF CF=CHCH 、CF CF CF CF=CHCH CH 、(CH C=CFCF CF CF 、シクロ−CF CH=CHCF CF CF −、シクロ−CF CF=CFCF CF CF −、CF =CHCF Br、CF =CFCBrH 、CHF=CBrCF 、CHF=CHCBrF 、CHF=CBrCHF 、CHBr=CFCF 、CHBr=CHCF 、CH =CBrCF 、CH CFCBrF 、CFBr=CHCF 、CFBr=CFCF 、CH =CBrCF CF 、CHBr=CHCF CF 、CH =CHCF CF Br、CH =CHCBrFCF 、CF CBr=CFCF 、CH CBr=CHCF 、CF CBr=CHCH 、(CF C=CHBr、CF CF=CBrCF CF 、CHF CBr=CFC 、CF =CBrCHFC 、CHBr=CF(CF CHF 、CH =CBrCF 、CF =CHCF CH CBrF 、(CF CFCBr=CH 、CF =C(CH Br)CF 、CH =C(CBrF )CF 、(CF CHCH=CHBr、(CF C=CHCH Br、CH =CHCF(CF )CBrF 、CF CF CF CBr=CH 、CF (CF CBr=CH 、CHCl=CFCClF 、CHCl=CClCF 、CHCl=CHCH F、CHCl=CFCH 、CH =CClCH F、CHF=CClCH 、CH =CClCClF 、CH =CFCCl F、CHCl=CClCHF 、CHCl=CHCClF 、CHF=CClCHClF、CCl =CFCH 、CH =CClCHClF、CH =C(CHF )CClF 2、 CH =CHCF CHClF、CHCl=C(CH )CF 、CH =CHCHClCF 、CH CF=CHCClF 、CH =CClCF CF 、CHCl=CHCF CF 、CH =CHCF CF Cl、CH =CHCClFCF 、CH CCl=CHCF 、CF CCl=CHCH 、CH =CHCClFCHCl 、CH =CClCClFCClF 、CH =CClCH CClF 、CH =CHCF CHCl 、CH =CHCClFCClF 、CCl =C(CH )CF 、CCl =CHCH CF 、CH =CFCClFCClF 、CClF=CHC 、CHCl=CHCF CH 、CH =CClCF CH 、CH CH=CHCClF 、(CF C=CHCl、CF CH=C(CClF )CF 、CHCl=CHCF CClFCF 、CHCl=CHCF(CClF )CF 、CF CF=CClCF CF 、CHCl=CF(CF CHF 、CH =CClCF 、CF =CHCF CH CClF 、(CF CFCCl=CH 、(CF CHCH=CHCl、(CF C=CHCH Cl、CH =CHCF(CF )CClF 、CH =CClCF CF 、およびCHCl=CHCF CF からなる群から選択される少なくとも1つの不飽和フッ素化炭化水素をさらに含むことを特徴とする前記1.に記載の方法。
5.
前記組成物がエアロゾル噴射剤をさらに含むことを特徴とする前記1.に記載の方法。
6.
前記組成物が界面活性剤をさらに含むことを特徴とする前記1.に記載の方法。
7.
前記組成物が共溶媒をさらに含むことを特徴とする前記1.に記載の方法。
8.
前記接触が蒸気脱脂によって行われることを特徴とする前記1.に記載の方法。
9.
前記蒸気脱脂が
(i)前記組成物を沸騰させること、および
(ii)物品を、沸騰している該清浄剤組成物の蒸気に曝露すること
によって行われることを特徴とする前記8.に記載の方法。
10.
前記接触が物品を前記組成物に浸漬することによって行われ、前記組成物が周囲温度または室温より高い温度であることを特徴とする前記1.に記載の方法。
11.
前記組成物の温度が、前記組成物の沸点付近であることを特徴とする前記10.に記載の方法。
12.
前記物品を前記組成物に浸漬した後、前記物品を前記組成物に浸漬するさらなるステップを含み、その際、前記組成物が第1の浸漬ステップの温度より低い温度であることを特徴とする前記10.に記載の方法。
13.
第2の浸漬ステップの前記組成物が、周囲温度または室温であることを特徴とする前記12.に記載の方法。
14.
第2の浸漬ステップの後、前記組成物を沸騰させるステップと、前記物品を該沸騰組成物の蒸気に曝露するステップとをさらに含むことを特徴とする前記12.に記載の方法。
15.
前記組成物が周囲温度または室温であることを特徴とする前記1.に記載の方法。
16.
前記組成物に浸した物体で物品を塗りつけることによって前記接触が行われることを特徴とする前記1.に記載の方法。
17.
フッ素系潤滑剤を表面に被着させる方法であって、
(a)フッ素系潤滑剤と溶媒を組み合わせて、潤滑剤−溶媒の組合せを形成するステップであって、前記溶媒が、式E−またはZ−R CH=CHR (式中、R およびR は独立に、C 〜C パーフルオロアルキル基、またはC 〜C ヒドロフルオロアルキル基である)を有する不飽和フッ素化炭化水素類からなる群から選択される不飽和フッ素化炭化水素を含むステップと、
(b)潤滑剤−溶媒の前記組合せを前記表面と接触させるステップと、
(c)前記溶媒を前記表面から蒸発させて、フッ素系潤滑剤コーティングを前記表面に形成するステップと
を含むことを特徴とする方法。
18.
前記表面が、半導体材料、金属、金属酸化物、蒸着炭素、またはガラスの表面であることを特徴とする前記17.に記載の方法。
19.
前記表面が磁気媒体の表面であることを特徴とする前記18.に記載の方法。
20.
前記磁気媒体がコンピュータディスクであることを特徴とする前記19.に記載の方法。
21.
前記接触ステップが、前記フッ素系潤滑剤を含む浴に前記表面を部分的または完全に浸漬する(dipping or immersing)ことによって行われることを特徴とする前記17.に記載の方法。
22.
前記接触ステップが、前記表面に前記フッ素系潤滑剤を吹き付ける、またはスピンコーティングすることによって行われることを特徴とする前記17.に記載の方法。
23.
前記潤滑剤−溶媒の組合せのフッ素系潤滑剤濃度が、約0.02重量パーセント〜0.5重量パーセントであることを特徴とする前記17.に記載の方法。
24.
前記蒸発ステップが、約10℃〜約40℃の温度で行われることを特徴とする前記17.に記載の方法。
25.
前記フッ素系潤滑剤がパーフルオロポリエーテルを含むことを特徴とする前記17.に記載の方法。
26.
前記フッ素系潤滑剤が、パーフルオロポリエーテル類およびその混合物からなる群から選択されることを特徴とする前記17.に記載の方法。
27.
濡れた基板の表面から、少なくとも水の一部分を除去する方法であって、
a)界面活性剤をさらに含む請求項1に記載の組成物と前記基板を接触させるステップと、次いで
b)前記基材を前記組成物との接触から外すステップと
を含むことを特徴とする方法。
28.
式R CH=CHR を有する不飽和フッ素化炭化水素(式中、R およびR は独立に、C 〜C パーフルオロアルキル基またはC 〜C ヒドロフルオロアルキル基である)から本質的に構成されることを特徴とする溶媒組成物。
29.
およびR が独立に、CF 、C 5、 CF CF CF 、CF(CF 、CF CF CF CF 、CF(CF )CF CF 、CF CF(CF 、C(CF 、CF CF CF CF CF 、CF CF CF(CF 、C(CF 、CF CF CF CF CF CF 、CF(CF )CF CF 、C(CF CF 、CHF 、CH F、C HF 、C 、C 、C HF 、i−C HF 、C 、C 、C HF 、C 、C HF 10 、C 、またはC HF 12 であることを特徴とする前記28.に記載の溶媒組成物。
30.
前記不飽和フッ素化炭化水素が、CF CH=CHCF 、CF CH=CHC 、CF CH=CHCF 、CF CH=CHCF(CF 、C CH=CHC 、CF CH=CH(CF CF 、CF CH=CHCF CF(CF 、CF CH=CHCF(CF )C 、CF CH=CHC(CF 、C CH=CHCF 、C CH=CHCF(CF 、CF CH=CH(CF CF 、CF CH=CHCF CF CF(CF 、CF CH=CHC(CF 、C CH=CH(CF CF 、C CH=CHCF CF(CF 、C CH=CHCF(CF )C 、C CH=CHC(CF 、C CF CH=CHCF 、(CF CFCH=CHCF(CF 、C CF CH=CHCF(CF 、CF CH=CH(CF CF 、CF CH=CHCF(CF )(CF 、CF CH=CHC(CF CF 、C CH=CH(CF CF 、C CH=CHCF CF CF(CF 、C CH=CHC(CF 、C CF CH=CH(CF CF 、C CF CH=CHCF CF(CF 、C CF CH=CHCF(CF )C 、C CF CH=CHC(CF 、(CF CFCH=CH(CF CF 、(CF CFCH=CHCF CF(CF 、(CF CFCH=CHCF(CF )C 、(CF CFCH=CHC(CF 、C CH=CH(CF CF 、C CH=CHCF(CF )(CF 、C CH=CHC(CF CF 、C CF CH=CH(CF CF 、C CF CH=CHCF CF CF(CF 、C CF CH=CHC(CF 、(CF CFCH=CH(CF CF 、(CF CFCH=CHCF CF CF(CF 、(CF CFCH=CHC(CF 、CF (CF CH=CH(CF CF 、CF (CF CH=CHCF CF(CF 、CF (CF CH=CHCF(CF )C 、CF (CF CH=CHC(CF 、(CF CFCF CH=CHCF CF(CF 、(CF CFCF CH=CHCF(CF )C 、(CF CFCF CH=CHC(CF 、C CF(CF )CH=CHCF(CF )C 、C CF(CF )CH=CHC(CF 、または(CF CCH=CHC(CF の少なくとも1つであることを特徴とする前記28.に記載の溶媒組成物。

Claims (4)

  1. 残渣を表面から除去する方法であって、
    a)表面を、式E−またはZ−RCH=CHR(式中、RおよびRは独立に、C〜Cパーフルオロアルキル基、またはC〜Cヒドロフルオロアルキル基である)を有する化合物からなる群から選択される少なくとも1つの不飽和フッ素化炭化水素を含む組成物と接触させるステップと:
    (b)前記表面を前記組成物から回収するステップと
    を含むことを特徴とする方法。
  2. フッ素系潤滑剤を表面に被着させる方法であって、
    (a)フッ素系潤滑剤と溶媒を組み合わせて、潤滑剤−溶媒の組合せを形成するステップであって、前記溶媒が、式E−またはZ−RCH=CHR(式中、RおよびRは独立に、C〜Cパーフルオロアルキル基、またはC〜Cヒドロフルオロアルキル基である)を有する不飽和フッ素化炭化水素類からなる群から選択される不飽和フッ素化炭化水素を含むステップと、
    (b)潤滑剤−溶媒の前記組合せを前記表面と接触させるステップと、
    (c)前記溶媒を前記表面から蒸発させて、フッ素系潤滑剤コーティングを前記表面に形成するステップと
    を含むことを特徴とする方法。
  3. 濡れた基板の表面から、少なくとも水の一部分を除去する方法であって、
    a)界面活性剤をさらに含む請求項1に記載の組成物と前記基板を接触させるステップと、次いで
    b)前記基材を前記組成物との接触から外すステップと
    を含むことを特徴とする方法。
  4. 式RCH=CHRを有する不飽和フッ素化炭化水素(式中、RおよびRは独立に、C〜Cパーフルオロアルキル基またはC〜Cヒドロフルオロアルキル基である)から本質的に構成されることを特徴とする溶媒組成物。
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