JP2009501812A - セリアを主材料としたガラス研磨組成物およびその製造方法 - Google Patents

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Abstract

本発明は、セリアを主材料とした研磨組成物の製造方法であって、
(a)セリウム酸化物として全希土類酸化物(TREO)に基づいて50%から100%の範囲に計算されるセリウム含有量である無機セリウム塩または水酸化セリウムを水性溶媒中に懸濁し、それにより水性懸濁液を得ること、
(b)前記水性懸濁液を、HF、HPO、およびHSOの群から選択される酸または酸の塩と懸濁し、それにより前記水性溶媒中に懸濁した固体を得ること、
(c)前記固体を前記水性溶媒から分離すること、および
(d)分離した固体を750℃から1,200℃の間の温度で焼成し、焼成した固体を0.5μmから5.0μmの範囲の粒子径に破砕すること
を含む該製造方法、および該製造方法により得られるセリアを主材料とした研磨組成物を提供する。

Description

本発明は、セリアを主材料としたガラス研磨組成物およびその製造方法に関する。かかる組成物は、ガラスまたはそのような材料を研磨するために使用される。
ガラス工業において現在使用されている研磨組成物の中で、通常セリウムに基づくものが最もよく機能する。かかる組成物の製造または調製の様々な方法が知られている。例えば、前もって酸化されたセリウムが入っている希土類の硝酸塩溶液から、アンモニアを用いて水酸化セリウムを沈殿させることにより、セリウムを主材料とした研磨組成物を調製することが提案されている〔Chemical Abstracts, 80, 51688, (1974)〕。
研磨組成物の改良された調製方法は、米国特許4942697号に記載されている。それにより研磨組成物は、セリウムの沈殿およびセリウムと他の希土類との共沈殿により調製される。さらに、その方法は、沈殿の工程において、それぞれF、PO、Bやそれらの組合せ等のような元素および化合物の添加を必要とする。共沈殿させた中間体の乾燥および焼成後、セリウム系酸化物が形成され、それは破砕および分類後、高い原料除去率を示す研磨組成物を生じる。米国特許4942697号の実施例1によれば、1%のFを含んでいるセリウム酸化物(99%)の組成物が得られる。約70/30の割合でセリウムおよびランタンを主材料としたその他の組成物の調製は、実施例10以下に開示されている。その組成物もFおよびPOを含んでいる。
かかる典型的な材料は、何年も前から商業規模で利用することが可能であり、商号CEROX 1650で知られている。
共沈殿方法の欠点は、規定された希土類組成物を得るために、その方法中、pHが厳密に管理されなければならないことである。例えば、米国特許4942697号の実施例で開示されている共沈殿の工程中の“pHウインドウ”は、+/−0.1のみである。
“4th International Conference on f−elements”(マドリッド、2000年9月17−21日)にて発表された論文“Development of Polishing Powders Production at JSC”、CHMP、Russia(Kosynkin et al.著)において、55367から54439オングストローム(0.55367から0.54439nmに対応)の範囲における結晶格子に対応する、F含有量が3−13重量%の範囲にあるF含有セリウム化合物の結晶格子パラメーターが記載されている。著者は、化合物中のF含有量が6−8重量%である時、研磨能力の損失は最小限である、と主張する。
米国特許6585787号は、CeOを主材料とし、0.5−10重量%のフッ素を含む0.544nmから0.56nmの範囲にわたる格子定数を有する結晶からなる研磨剤を記載する。
かかる化合物の調製は、セリウム酸化物を出発原料として使用することが開示される。セリウム酸化物を原料として、ボールミル粉砕を受け、その後フッ化アンモニウム溶液で処理されたスラリーが調製される。乾燥および焼成後、追加の破砕工程が利用され、最終製品の所要の粒子径が作り出される。
かかる工程の欠点は、F−処理工程の前に分けて調製されなければならないセリウム系酸化物の追加の処理工程である。さらに、フッ化アンモニウム、すなわち有害な化学物質の多量の使用は、製品中のFの最終濃度を達成するために避けることが出来ない。かかる処理工程において、Fは廃水のろ液中に見られ、さらなる精製の工程が必要である。
米国特許4942697号 米国特許6585787号 Chemical Abstracts, 80, 51688, (1974) Development of Polishing Powders Production at JSC"、CHMP、Russia(Kosynkin et al.著)
セリアを主材料とした研磨粉末剤は世界中で使用されているという事実にもかかわらず、未だ製造ルートおよび粉末剤の研磨能力、特に原料除去率に関して改善する必要がある。
本発明は、原料除去率を改善したセリウム系酸化物の製造方法に関する問題を解決すること、特に、例えばF、PO、またはそれらの組み合わせのような添加剤の同時添加と組み合わせた共沈殿工程を回避することを目的とする。その工程は、複合設備および過程の複雑な監視、例えば化学物質のスループットを正確に監視してpHを要求された厳密な枠内に維持することを要求する。
したがって、本発明の主要な目的は、改善された高い原料除去率を有する研磨組成物の調整方法を提供することである。本発明に係るセリアを主材料とした研磨組成物は、次の方法により製造することが出来る。その方法は、
(a)セリウム酸化物として全希土類酸化物(TREO)に基づいて50%から100%の範囲に計算されるセリウム含有量である無機セリウム塩または水酸化セリウムを水性溶媒中に懸濁し、それにより水性懸濁液を得ること、
(b)前記水性懸濁液を、HF、HPO、およびHSOの群から選択される酸または酸の塩と懸濁し、それにより前記水性溶媒中に懸濁した固体を得ること、
(c)前記固体を前記水性溶媒から分離すること、および
(d)分離した固体を750℃から1,200℃の間の温度で焼成し、焼成した固体を0.5μmから5.0μmの範囲の粒子径に破砕すること
を含む。
セリウム含有量は、TREO(=全希土類酸化物)に基づいて好ましくは100%未満であり、その残りがY、La、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、およびLuの希土類金属の群から選択される少なくとも一つの希土類金属である。
本発明に係る方法の有益な実施態様は、Zr(OH)および/またはY、La、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、およびLuの希土類金属の群から選択される少なくとも一つの希土類酸化物が懸濁液に添加されることを特徴とする。
少なくとも一つの希土類酸化物の代わりに前記希土類酸化物の前駆物質を懸濁液に添加することができ、希土類の水酸化物、塩化物、または硝酸塩が好ましい。
本発明のさらに有益な実施態様において、希土類酸化物はLaである。
本発明は、本発明に係る方法により得られるセリアを主材料とした研磨組成物も示す。この組成物は、XRDスペクトルにおいて従来技術の組成物とは顕著に異なり、異なる相の組成物であることが示されているので、新しい。参照材料に対するピークにおける主な違いは、ここに言及された実施態様下、およびグラフ中に見ることができる。
本発明に係るセリアを主材料とした研磨組成物は、好ましくはフッ化物を0.5ないし14重量%、Pとして0.5ないし5重量%の範囲に計算されるリン、およびSOとして0.3ないし5重量%の範囲に計算される硫黄を含む。
その方法に従って調製された研磨組成物は、化学的に(強熱減量、希土類酸化物、F、P、SO)、物理的に(粒子径、XRD)、および研磨効果の観点から特徴付けられた。
研磨効果の試験条件:
測定器:研磨機 LOH、PM150
ガラス:無色の光学クラウンガラス
ガラス直径:6.5cm
研磨機の回転:1500rpm
圧力:763g/cm
研磨パッド:PU LP 66
懸濁液の濃度:50g/リットル
懸濁液の温度:25−30℃
本発明に係る以下の好ましい実施態様において、より詳細に記載される。
1.原料の調製
1.1.水酸化セリウム(CeO含有量が高い、>95% CeO/TREO)の調製
水酸化セリウムの調製は、よく知られた方法である。かかる原料の合成は、例えばChem. Abstracts 80, 51688(1974)に記載されている。以下の手順に従って調製することもできる:
200kgの炭酸セリウム(商業的に利用できるバルク材、51.1% TREO)は、146リットルの濃硝酸と1400リットルの水を原料とした混合物中に溶解される。得られたセリウム硝酸塩溶液中に、234リットルのアンモニア溶液(250リットルの15%アンモニアと250リットルの水を原料として調製)、および200リットルのH溶液(200リットルの30%Hと250リットルの水を原料として調製)を、pH値4.2−7の間で2時間にわたって入れる。調製が完了した後、混合物は次の2時間、蒸気により70−80℃まで加熱され、混合物は約50℃まで冷まされる。固体の残渣をろ過し、水で洗浄した後、以下の特徴を有する195kgの水酸化セリウム(ウェットケーキ)を生じた。
LOI:53%
TREO:52%
CeO/TREO:>99.9%
CeIV/全Ce(=CeIII+CeIV):92.5%
収率:>99%
1.2.水酸化セリウム(CeO含有量が低い)の調製
223.5g TREO/リットルを含んでいる混合された希土類の塩化物溶液(約45% TREO、CeO/TREO=50%を有する固体の混合希土類の塩化物、および水を原料として調製した溶液)769リットルに、7.6リットルのH(30%)を加える。混合物に、30.8リットルのH(30%)および350リットルのNaOH溶液(濃度=200.8g/リットル)を1.5時間以内に加える。反応混合物をさらに1時間混合した後、混合物は70から75℃間の温度まで30分間加熱され、そこに130リットルの炭酸ナトリウム溶液(濃度=100g/リットル)が添加される。沈殿物はろ過により単離され、水で、その後0.01n 炭酸ナトリウム溶液で、そして再び水で洗浄され、以下の特徴を有する248kgの水酸化セリウム(ウェットケーキ)を生じる。
TREO:47%
CeO/TREO:71.9%
La/TREO:4.4%
Pr11/TREO:4.8%
Nd/TREO:14.8%
Sm/TREO:0.2%
収率:67.8%
2.本発明に係る研磨組成物の調製
18kgの水酸化セリウム(TREO濃度=52%、CeO/TREO=99.9%)は、15リットルの水に懸濁され、続いて1リットルの36%(w/w)HClと、2kgのLa(TREO=99%、La/TREO=99.9%)と、1リットルのHF(40% w/w)と、最後に2kgのLaが逐次添加される。
懸濁液はLaおよびHFの添加により約85℃まで温まる。化合物を添加した後、混合物は1時間混合される。懸濁液は、8から8.5のpHを達成するまで炭酸水素アンモニウム溶液(100g ABC/リットル)で処理され、Laの溶解も回避する。混合物はさらに1時間混合され、固体はろ過により分離される。さらなる洗浄工程なしで、固体はマッフル炉に移され、1,060℃(炉温)で8時間焼成される。
焼成された産物は、ジェットミル中で破砕され、以下の特徴を有する研磨組成物を生成する。
LOI:0.43%
CeO:68.4%
La:29.0%
F:2.0%
XRD−スペクトル、参照Bと顕著に異なる:
ピークは(2シータ度):27.0、44.8、46.5、58.5
詳細は以下のグラフ参照
粒子径(d50):0.98μm
0.01%未満が32μmのふるいを通過しない
研磨効果:2.96mg/cm/min
10.6kgのセリウム水和物(TREO濃度=55%、CeO/TREO=98%)は、30リットルの水に懸濁され、続いて4.8kgのZr(OH)(ZrO濃度=32%)および1.98リットルのHF(40% w/w)が添加される。化合物の添加後、混合物は40から50℃の間の温度で3時間混合し、固体はろ過により分離される。ろ過した固体は1リットルの水で洗浄され、その結果生じたウェットケーキは150℃にて24時間乾燥される。乾燥した材料はマッフル炉で950℃(炉温)にて8時間焼成される。
焼成された産物は、ジェットミル中で破砕され、以下の特徴を有する研磨組成物を生成する。
LOI:0.35%
CeO:72%
ZrO:18.4%
F:1.7%
XRD−スペクトル、参照A1と顕著に異なる:
ピークは(2シータ度):24.0、28.1、29.8、38.4、47.8、59.4、69.8、79.4
詳細は以下のグラフ参照
粒子径(d50):1.76μm
0.03%未満が32μmのふるいを通過しない
研磨効果:2.86mg/cm/min
7.8kgのセリウム水和物(TREO濃度=55%、CeO/TREO=98%)は、30リットルの水に懸濁され、続いて0.6リットルの40%(w/w)HFと、0.4kgのHPO(80%)と、1.8kgのLa(TREO=99%、La/TREO=99.9%)が逐次添加される。
化合物の添加後、混合物は約50℃にて3時間混合される。固体はろ過により分離され、沈殿物は1リットルの水で洗浄される。その固体は150℃にて24時間乾燥され、次にマッフル炉で8時間焼成される。
焼成された産物は、ジェットミル中で破砕され、以下の特徴を有する研磨組成物を生成する。
LOI:0.49%
CeO:65.2%
La:26.5%
F:2.6%
:2.6%
XRD−スペクトル、参照AおよびA1と顕著に異なる:
ピークは(2シータ度):28.1、32.8、52.8、55.4、68.6、78、79.1
詳細は以下のグラフ参照
粒子径(d50):2.04μm
0.01%未満が32μmのふるいを通過しない
研磨効果:3.04mg/cm/min
16.8kgのセリウム水和物(TREO濃度=47.4%、CeO/TREO=94.1%、La/TREO=3.8%、Nd/TREO=1.5%)は、30リットルの水に懸濁され、続いて0.75リットルのHF(40% w/w)と、0.75kgのHSO(33.8% w/w)が逐次添加される。化合物の添加後、混合物は3時間撹拌される。懸濁液は、7から8のpHを達成するまで固体の炭酸水素アンモニウムで処理される。固体はろ過により分離され、沈殿物は1リットルの水で洗浄される。その固体は150℃にて24時間乾燥され、次にマッフル炉で8時間焼成される。
焼成された産物は、ジェットミル中で破砕され、以下の特徴を有する研磨組成物を生成する。
LOI:0.50%
CeO:90.0%
La:4.8%
他のRE:2.1%
F:0.8%
SO:1.2%
XRD−スペクトル、参照Bと顕著に異なる:
ピークは(2シータ度):28.7、33.2、47.4、56.3、59.2、59.4、69.3、69.5、76.8、76.9
詳細は以下のグラフ参照
粒子径(d50):2.04μm
0.01%未満が32μmのふるいを通過しない
研磨効果:2.44mg/cm/min
12.6kgのセリウム水和物(TREO濃度=47.4%、CeO/TREO=94.1%、La/TREO=3.8%、Nd/TREO=1.5%)は、30リットルの水に懸濁され、続いて2kgのLa(TREO=99%、La/TREO=99.9%)と、1.3kgのHCl(20%(w/w))と、0.8リットルのHF(40% w/w)が逐次添加される。化合物の添加後、混合物は40−50℃にて3時間混合される。懸濁液は、7から8のpHを達成するまで固体の炭酸水素アンモニウムで処理される。固体はろ過により分離され、沈殿物は1リットルの水で洗浄される。その固体は150℃にて24時間乾燥され、次にマッフル炉で950℃にて8時間焼成される。
焼成された産物は、ジェットミル中で破砕され、以下の特徴を有する研磨組成物を生成する。
LOI:0.47%
CeO:70.3%
La:25.6%
F:1.9%
XRD−スペクトル、参照Bと顕著に異なる:
ピークは(2シータ度):27.0、28.7、39.3、44.8、55.8
詳細は以下のグラフ参照
粒子径(d50):1.24μm
0.01%未満が32μmのふるいを通過しない
研磨効果:2.69mg/cm/min
14kgの水酸化セリウム(TREO濃度=52.7%、CeO/TREO=93.9%、La/TREO=3.9%)は、30リットルの水に懸濁され、続いて0.75リットルの40%(w/w)HFと、0.4kgのHPO(80%)が逐次添加される。化合物の添加後、混合物は40−50℃にて3時間混合される。固体はろ過により分離され、沈殿物は1リットルの水で洗浄される。その固体は150℃にて24時間乾燥され、次にマッフル炉で850℃にて8時間焼成される。
焼成された産物は、ジェットミル中で破砕され、以下の特徴を有する研磨組成物を生成する。
LOI:0.34%
CeO:86.9%
La:5.2%
F:0.8%
:2.7%
XRD−スペクトル、参照AおよびA1と顕著に異なる:
ピークは(2シータ度):27.3、59.2、59.5
詳細は以下のグラフ参照
粒子径(d50):1.57μm
0.02%未満が32μmのふるいを通過しない
研磨効果:2.49mg/cm/min
15kgの水酸化セリウム(TREO濃度=50%、CeO/TREO=73.0%、La/TREO=6.5%、Nd+Pr11+Sm/TREO=20.5)は、30リットルの水に懸濁され、続いて0.75リットルの40%(w/w)HFと、0.5リットルのHPO(80%)が逐次添加される。化合物の添加後、混合物は40−50℃にて3時間混合される。固体はろ過により分離され、洗浄せずに150℃にて24時間乾燥され、次にマッフル炉で950℃にて8時間焼成される。
焼成された産物は、ジェットミル中で破砕され、以下の特徴を有する研磨組成物を生成する。
LOI:0.32%
CeO:69.7%
La:6.6%
Nd+Pr11+Sm:18.5%
F:1.7%
:3.2%
XRD−スペクトル、参照AおよびA1と顕著に異なる:
ピークは(2シータ度):24.4、28.0、35.2、45.3、51.2、53.2、59.2、79.1
詳細は以下のグラフ参照
粒子径(d50):1.21μm
0.01%未満が32μmのふるいを通過しない
研磨効果:2.22mg/cm/min
11kgの水酸化セリウム(TREO濃度=54%、CeO/TREO=98%)は、30リットルの水に懸濁され、続いて1リットルのHF(40%(w/w))が逐次添加される。HFの添加後、混合物は40−50℃にて3時間混合される。固体はろ過により分離され、1リットルの水で洗浄される。その固体は150℃にて24時間乾燥され、次にマッフル炉で950℃にて8時間焼成される。
焼成された産物は、ジェットミル中で破砕され、以下の特徴を有する研磨組成物を生成する。
LOI:0.72%
CeO:91.0%
La:1.7%
F:2.9%
XRD−スペクトル、参照Bと顕著に異なる:
ピークは(2シータ度):27.3、28.7、33.2、45.3、47.4、56.3、59.2、69.5
詳細は以下のグラフ参照
粒子径(d50):1.72μm
0.01%未満が32μmのふるいを通過しない
研磨効果:1.70mg/cm/min
3.共沈殿技術による参照材料(A)の調製
参照材料は、米国特許4942697号の実施例3に従って、Ndの代わりにランタンを使用して調製した。したがって、3リットルビーカーに、1リットルの水をいれて50℃まで温めた。1リットルの1m Ce硝酸塩溶液、1m ランタン硝酸塩溶液、1m HF溶液、0.08m HPO溶液、6m H溶液、および0.4リットルの5m アンモニア溶液を、7.0(+/−0.1)の間にpHを制御し、50℃に温度を制御して、ビーカーに入れた。結果として生じた懸濁液は80℃まで1時間加熱され;沈殿物はろ過により分離され、300℃で乾燥されて850℃にて1時間マッフル炉で焼成された。
焼成された産物は、ジェットミル中で破砕され、以下の特徴を有する研磨組成物を生成する。
LOI:1.6%
TREO:93.6%
CeO:69.6%
La:29.1%
F:4.75%
:2.2%
XRD−スペクトル:以下のグラフを参照
粒子径(d50):0.7μm
0.05%未満が32μmのふるいを通過しない
研磨効果:2.14mg/cm/min
4.商業的に利用できる材料−特徴
参照B−“Cerox 1670”
LOI:0.31%
TREO:97.4%
CeO:74.0%
La:23.4%
F:0.94%
XRD−スペクトル:以下のグラフを参照
粒子径(d50):2.0μm
0.05%未満が32μmのふるいを通過しない
参照A1−“Cerox 1650”
LOI:0.64%
TREO:93.6%
CeO:69.9%
La:26.8%
F:2.5%
:2.7%
粒子径(d50):1.5μm
0.05%未満が32μmのふるいを通過しない
実施例1のXRDスペクトルを示す。 実施例5のXRDスペクトルを示す。 実施例8のXRDスペクトルを示す。 実施例4のXRDスペクトルを示す。 参照B(=Cerox 1670、商業的)のXRDスペクトルを示す。 実施例2のXRDスペクトルを示す。 実施例3のXRDスペクトルを示す。 実施例6のXRDスペクトルを示す。 実施例7のXRDスペクトルを示す。 参照AのXRDスペクトルを示す。 参照A1(=Cerox 1650、商業的)のXRDスペクトルを示す。 実施例1および参照B(Cerox 1670)のXRDスペクトルを示す。 実施例4および参照B(Cerox 1670)のXRDスペクトルを示す。 実施例5および参照B(Cerox 1670)のXRDスペクトルを示す。 実施例8および参照B(Cerox 1670)のXRDスペクトルを示す。

Claims (8)

  1. セリアを主材料とした研磨組成物の製造方法であって、
    (a)セリウム酸化物として全希土類酸化物(TREO)に基づいて50%から100%の範囲に計算されるセリウム含有量である無機セリウム塩または水酸化セリウムを水性溶媒中に懸濁し、それにより水性懸濁液を得ること、
    (b)前記水性懸濁液を、HF、HPO、およびHSOの群から選択される酸または酸の塩と懸濁し、それにより前記水性溶媒中に懸濁した固体を得ること、
    (c)前記固体を前記水性溶媒から分離すること、および
    (d)分離した固体を750℃から1,200℃の間の温度で焼成し、焼成した固体を0.5μmから5.0μmの範囲の粒子径に破砕すること
    を含む該製造方法。
  2. 前記セリウム含有量がTREOに基づいて100%未満であり、その残りがY、La、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、およびLuの群から選択される少なくとも一つの希土類金属であることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  3. Zr(OH)および/またはY、La、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、およびLuの希土類金属の群から選択される少なくとも一つの希土類酸化物が懸濁液に添加されることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
  4. 前記少なくとも一つの希土類酸化物として、希土類酸化物前駆物質を懸濁液に添加することを特徴とする、請求項3に記載の方法。
  5. 希土類酸化物前駆物質として、希土類の水酸化物、塩化物、または硝酸塩を使用することを特徴とする、請求項4に記載の方法。
  6. 希土類酸化物がLaであることを特徴とする、請求項3に記載の方法。
  7. 請求項1ないし6に記載されたうちの1の方法により得られる、セリアを主材料とした研磨組成物。
  8. フッ化物を0.5ないし14重量%、Pとして0.5ないし5重量%の範囲に計算されるリン、およびSOとして0.3ないし5%の範囲に計算される硫黄を含むことを特徴とする、請求項7に記載のセリアを主材料とした研磨組成物。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4876183B1 (ja) * 2010-09-27 2012-02-15 三井金属鉱業株式会社 セリウム系研摩材
JP2012524129A (ja) * 2009-04-15 2012-10-11 ロディア チャイナ カンパニー、リミテッド セリウム系粒子組成物およびその調製
JP5862578B2 (ja) * 2011-01-25 2016-02-16 コニカミノルタ株式会社 研磨材微粒子及びその製造方法
WO2017051629A1 (ja) * 2015-09-25 2017-03-30 昭和電工株式会社 セリウム系研磨材及びその製造方法
WO2019049932A1 (ja) * 2017-09-11 2019-03-14 昭和電工株式会社 セリウム系研磨材用原料の製造方法、及びセリウム系研磨材の製造方法

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5512962B2 (ja) * 2008-12-08 2014-06-04 三井金属鉱業株式会社 フッ素及び硫黄を含有するセリウム系研摩材
KR20140003557A (ko) * 2011-01-27 2014-01-09 가부시키가이샤 후지미인코퍼레이티드 연마재 및 연마용 조성물
CN102250552B (zh) * 2011-08-19 2013-12-11 湖南皓志新材料股份有限公司 一种铈掺杂的氧化锆复合抛光粉的制备方法
CN102643614B (zh) * 2012-04-17 2014-02-12 江苏中晶科技有限公司 玻璃抛光粉及其制备方法
CN103382369B (zh) * 2012-11-07 2015-07-29 有研稀土新材料股份有限公司 一种氧化铈基复合抛光粉及其制备方法
EP2826827B1 (en) * 2013-07-18 2019-06-12 Basf Se CMP composition comprising abrasive particles containing ceria
KR20150060358A (ko) * 2013-11-26 2015-06-03 삼성디스플레이 주식회사 기판 절단 및 강화 장치, 기판의 절단 및 강화 방법
WO2015091495A1 (en) * 2013-12-16 2015-06-25 Rhodia Operations Liquid suspension of cerium oxide particles
CN107556922B (zh) * 2017-09-27 2020-05-19 甘肃稀土新材料股份有限公司 一种含钐稀土抛光粉及其制备工艺
CN107603490B (zh) * 2017-09-27 2020-06-26 甘肃稀土新材料股份有限公司 一种含钐铈基抛光粉及其制备工艺
CN107502202B (zh) * 2017-10-16 2020-02-14 淄博包钢灵芝稀土高科技股份有限公司 无氟稀土抛光粉组合物及其制备方法
RU2686923C1 (ru) * 2018-09-10 2019-05-06 Акционерное общество "Новосибирский приборостроительный завод" Состав для полирования оптического стекла
CN110964441A (zh) * 2019-11-29 2020-04-07 连云港孚纳特电子新材料有限公司 一种锆掺杂氟氧化镧铈抛光粉的制备方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56131686A (en) * 1979-12-27 1981-10-15 Rhone Poulenc Ind Production of polishing composition
JPH11269455A (ja) * 1998-03-24 1999-10-05 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd セリウム系研摩材の製造方法
JP2002129147A (ja) * 2000-10-20 2002-05-09 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd セリウム系研摩材の製造方法及びセリウム系研摩材
JP2002309236A (ja) * 2000-05-16 2002-10-23 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd セリウム系研摩材およびそのための原料、ならびにそれらの製造方法
JP2002317173A (ja) * 2001-04-20 2002-10-31 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd セリウム系研摩材の製造方法及びセリウム系研摩材
JP2004323574A (ja) * 2003-04-22 2004-11-18 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 酸化セリウムを主成分とするセリウム系研摩材の製造方法
WO2005000992A1 (ja) * 2003-06-30 2005-01-06 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. セリウム系研摩材およびその原料

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2545830B1 (fr) * 1983-05-13 1986-01-03 Rhone Poulenc Spec Chim Nouvelle composition de polissage a base de cerium et son procede de fabrication
GB9416581D0 (en) * 1993-09-02 1994-10-12 Ici Plc Electrostatic spraying device
JP3983949B2 (ja) * 1998-12-21 2007-09-26 昭和電工株式会社 研磨用酸化セリウムスラリー、その製造法及び研磨方法
US6562092B1 (en) * 2000-05-16 2003-05-13 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. Cerium based abrasive material, raw material thereof and method for their preparation
TW528796B (en) 2000-12-13 2003-04-21 Mitsui Mining & Amp Smelting C Cerium-based abrasive and method of evaluating the same
JP4033440B2 (ja) * 2001-09-17 2008-01-16 三井金属鉱業株式会社 セリウム系研摩材スラリー及びセリウム系研摩材スラリーの製造方法
JP3861144B2 (ja) * 2002-09-20 2006-12-20 独立行政法人物質・材料研究機構 易焼結性ナノ球状セリア系化合物粉末の製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56131686A (en) * 1979-12-27 1981-10-15 Rhone Poulenc Ind Production of polishing composition
JPH11269455A (ja) * 1998-03-24 1999-10-05 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd セリウム系研摩材の製造方法
JP2002309236A (ja) * 2000-05-16 2002-10-23 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd セリウム系研摩材およびそのための原料、ならびにそれらの製造方法
JP2002129147A (ja) * 2000-10-20 2002-05-09 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd セリウム系研摩材の製造方法及びセリウム系研摩材
JP2002317173A (ja) * 2001-04-20 2002-10-31 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd セリウム系研摩材の製造方法及びセリウム系研摩材
JP2004323574A (ja) * 2003-04-22 2004-11-18 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 酸化セリウムを主成分とするセリウム系研摩材の製造方法
WO2005000992A1 (ja) * 2003-06-30 2005-01-06 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. セリウム系研摩材およびその原料

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012524129A (ja) * 2009-04-15 2012-10-11 ロディア チャイナ カンパニー、リミテッド セリウム系粒子組成物およびその調製
US8727833B2 (en) 2009-04-15 2014-05-20 Rhodia (China) Co., Ltd. Cerium-based particle composition and the preparation thereof
KR101692298B1 (ko) 2010-09-27 2017-01-04 미쓰이 긴조꾸 고교 가부시키가이샤 세륨계 연마재
WO2012042960A1 (ja) * 2010-09-27 2012-04-05 三井金属鉱業株式会社 セリウム系研摩材
CN103124615A (zh) * 2010-09-27 2013-05-29 三井金属矿业株式会社 铈系研磨材料
KR20130140657A (ko) * 2010-09-27 2013-12-24 미쓰이 긴조꾸 고교 가부시키가이샤 세륨계 연마재
JP4876183B1 (ja) * 2010-09-27 2012-02-15 三井金属鉱業株式会社 セリウム系研摩材
JP5862578B2 (ja) * 2011-01-25 2016-02-16 コニカミノルタ株式会社 研磨材微粒子及びその製造方法
WO2017051629A1 (ja) * 2015-09-25 2017-03-30 昭和電工株式会社 セリウム系研磨材及びその製造方法
JPWO2017051629A1 (ja) * 2015-09-25 2018-03-08 昭和電工株式会社 セリウム系研磨材及びその製造方法
US10717909B2 (en) 2015-09-25 2020-07-21 Showa Denko K.K. Cerium-based abrasive material and process for producing same
WO2019049932A1 (ja) * 2017-09-11 2019-03-14 昭和電工株式会社 セリウム系研磨材用原料の製造方法、及びセリウム系研磨材の製造方法
CN111051463A (zh) * 2017-09-11 2020-04-21 昭和电工株式会社 铈系研磨材料用原料的制造方法和铈系研磨材料的制造方法
JPWO2019049932A1 (ja) * 2017-09-11 2020-05-28 昭和電工株式会社 セリウム系研磨材用原料の製造方法、及びセリウム系研磨材の製造方法

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