JP2009147060A - 配線基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】配線基板20は、互いに対向する第1の主面と第2の主面とを備え、導電性を有するコア基板21と、前記コア基板21を貫通する第1の貫通孔と、前記第1の主面から前記第2の主面へ、前記第1の貫通孔を介して延在する第1の導電層24と、前記第1の導電層24上に形成された絶縁層25と、前記絶縁層25を内壁とする第2の貫通孔と、前記第2の貫通孔内に形成された第2の導電層26と、を有する。
【選択図】図9
Description
図9に、本発明の実施の形態に係る配線基板の基本構造を示す。
次に、本発明の実施の形態に係る配線基板の製造方法について説明する。以下では、図12乃至図19を参照して、本発明の実施の形態に係る配線基板として多層配線基板を例に挙げて、当該方法について説明する。
次に、図22又は図23の工程を経てクリアランスホール62’又は62”が形成されたコア基板61に、図12(d)乃至図19に示す工程を施す。その結果、テーパ形状のクリアランスホール62’又は62”上に、クリアランスホール62’又は62”の形状に沿った第1の導電層63が形成され、第1の導電層63の形状に沿った電着樹脂膜65が形成され、電着樹脂膜65の形状に沿った銅(Cu)層69が形成されてなる多層配線基板を形成することができる。
(付記1)
互いに対向する第1の主面と第2の主面とを備え、導電性を有するコア基板と、
前記コア基板を貫通する第1の貫通孔と、
前記第1の主面から前記第2の主面へ、前記第1の貫通孔を介して延在する第1の導電層と、
前記第1の導電層上に形成された絶縁層と、
前記絶縁層を内壁とする第2の貫通孔と、
前記第2の貫通孔内に形成された第2の導電層と、
を有することを特徴とする配線基板。
(付記2)
付記1記載の配線基板であって、
前記絶縁層は、前記第1の貫通孔の内壁面を覆う部分と、前記第1の貫通孔の周辺を覆う部分とが一体的に形成されていることを特徴とする配線基板。
(付記3)
付記1又は2記載の配線基板であって、
前記絶縁層は、前記第1の導電層の端部を覆うことを特徴とする配線基板。
(付記4)
付記1乃至3いずれか一項記載の配線基板であって、
前記第1の導電層及び前記絶縁層は略コの字型の断面を有することを特徴とする配線基板。
(付記5)
付記1乃至3いずれか一項記載の配線基板であって、
前記第1の貫通孔はテーパ形状が形成された箇所を含み、
前記第1の貫通孔の当該テーパ形状に沿って前記第1の導電層が形成され、
前記絶縁層は、前記第1の導電層の形状に沿った形状を有して前記第1の導電層上に形成されていることを特徴とする配線基板。
(付記6)
付記5記載の配線基板であって、
前記第1の導電層、前記第2の導電層及び前記絶縁層は、略曲線状に形成された箇所を含み、
前記テーパ形状が形成された箇所における前記絶縁層の厚さは、他の箇所における前記絶縁層の厚さよりも厚いことを特徴とする配線基板。
(付記7)
付記1乃至6いずれか一項記載の配線基板であって、
前記第2の導電層は、前記絶縁層と接していることを特徴とする配線基板。
(付記8)
付記1乃至7いずれか一項記載の配線基板であって、
前記第2の貫通孔は、前記第1の貫通孔の直径より小さい直径を有し、前記第1の貫通孔と略同心状に形成されていることを特徴とする配線基板。
(付記9)
付記1乃至8いずれか一項記載の配線基板であって、
前記第2の貫通孔の内部に樹脂が設けられていることを特徴とする配線基板。
(付記10)
付記1乃至9いずれか一項記載の配線基板であって、
前記第2の貫通孔の開口部上には電極部が設けられ、
前記電極部は前記第2の配線部に接続されていることを特徴とする配線基板。
(付記11)
付記1乃至10いずれか一項記載の配線基板であって、
前記コア基板と前記第1の導電層との間に絶縁部が形成されていることを特徴とする配線基板。
(付記12)
付記1乃至10いずれか一項記載の配線基板であって、
前記コア基材の構成材料は、炭素繊維、カーボンナノチューブ、インバー、及び42アロイから構成される群から選択される材料を含むことを特徴とする配線基板。
(付記13)
付記1乃至12いずれか一項記載の配線基板であって、
前記絶縁層は、電着樹脂膜であることを特徴とする配線基板。
(付記14)
付記13記載の配線基板であって、
前記絶縁層の構成材料は、エポキシ系樹脂又はポリイミド系樹脂を含むことを特徴とする配線基板。
(付記15)
配線基板の製造方法であって、
互いに対向する第1の主面と第2の主面とを備え導電性を有するコア基板に、第1の貫通孔を形成する工程と、
前記第1の主面から前記第2の主面へ、前記第1の貫通孔を介して延在する第1の導電層を形成する工程と、
前記第1の導電層を電源供給層とした電着法により、前記第1の主面から前記第2の主面に繋がる第2の貫通孔が形成されるように、前記第1の導電層上に絶縁層を形成する工程と、
前記第2の貫通孔内に第2の導電層を形成する工程と、を有することを特徴とする配線基板の製造方法。
(付記16)
付記15記載の配線基板の製造方法であって、
前記第1の導電層を形成する工程において、無電解めっき処理により前記第1の導電層を形成することを特徴とする配線基板の製造方法。
(付記17)
付記15又は16記載の配線基板の製造方法であって、
前記第2の導電層を形成する工程において、導電性シード層を前記絶縁層上に形成し、前記導電性シード層をパターニングした後、前記導電性シード層と同じ材料からなる第2の導電層をめっきすることを特徴する配線基板の製造方法。
(付記18)
付記15乃至17いずれか一項記載の配線基板の製造方法であって、
前記第1の貫通孔を形成する工程において、ドリル加工により前記コア基板の前記第1の主面及び前記第2の主面にテーパ形状の凹部を形成した後、前記凹部の開口面の径よりも小さい径を有する前記第1の貫通孔を形成することを特徴する配線基板の製造方法。
(付記19)
付記15乃至17いずれか一項記載の配線基板の製造方法であって、
前記第1の貫通孔を形成する工程において、レーザ加工により、前記テーパ形状部分を有する前記第1の貫通孔を形成することを特徴とする配線基板の製造方法。
(付記20)
付記18又は19記載の配線基板の製造方法であって、
前記第1の導電層を形成する工程において、前記テーパ形状に沿って前記第1の導電層を形成し、
前記絶縁層を形成する工程において、前記第1の導電層の形状に沿った形状を有する前記絶縁層を前記第1の導電層上に形成することを特徴とする配線基板の製造方法。
21、61 コア基板
22a 第1の絶縁層
22b 第2の絶縁層
24、63 第1の導電層
25 第3の絶縁層
26 第2の導電層
27、74 電極
62 クリアランスホール
66 スルーホール
65 電着樹脂膜
69 銅層
90、92 ドリル
93 紫外線YAGレーザ
Claims (10)
- 互いに対向する第1の主面と第2の主面とを備え、導電性を有するコア基板と、
前記コア基板を貫通する第1の貫通孔と、
前記第1の主面から前記第2の主面へ、前記第1の貫通孔を介して延在する第1の導電層と、
前記第1の導電層上に形成された絶縁層と、
前記絶縁層を内壁とする第2の貫通孔と、
前記第2の貫通孔内に形成された第2の導電層と、
を有することを特徴とする配線基板。 - 請求項1記載の配線基板であって、
前記絶縁層は、前記第1の貫通孔の内壁面を覆う部分と、前記第1の貫通孔の周辺を覆う部分とが一体的に形成されていることを特徴とする配線基板。 - 請求項1又は2記載の配線基板であって、
前記第1の貫通孔はテーパ形状が形成された箇所を含み、
前記第1の貫通孔の当該テーパ形状に沿って前記第1の導電層が形成され、
前記絶縁層は、前記第1の導電層の形状に沿った形状を有して前記第1の導電層上に形成されていることを特徴とする配線基板。 - 請求項3記載の配線基板であって、
前記第1の導電層、前記第2の導電層及び前記絶縁層は、略曲線状に形成された箇所を含み、
前記テーパ形状が形成された箇所における前記絶縁層の厚さは、他の箇所における前記絶縁層の厚さよりも厚いことを特徴とする配線基板。 - 請求項1乃至4いずれか一項記載の配線基板であって、
前記絶縁層は、電着樹脂膜であることを特徴とする配線基板。 - 配線基板の製造方法であって、
互いに対向する第1の主面と第2の主面とを備え導電性を有するコア基板に、第1の貫通孔を形成する工程と、
前記第1の主面から前記第2の主面へ、前記第1の貫通孔を介して延在する第1の導電層を形成する工程と、
前記第1の導電層を電源供給層とした電着法により、前記第1の主面から前記第2の主面に繋がる第2の貫通孔が形成されるように、前記第1の導電層上に絶縁層を形成する工程と、
前記第2の貫通孔内に第2の導電層を形成する工程と、を有することを特徴とする配線基板の製造方法。 - 請求項6記載の配線基板の製造方法であって、
前記第2の導電層を形成する工程において、導電性シード層を前記絶縁層上に形成し、前記導電性シード層をパターニングした後、前記導電性シード層と同じ材料からなる第2の導電層をめっきすることを特徴する配線基板の製造方法。 - 請求項6又は7記載の配線基板の製造方法であって、
前記第1の貫通孔を形成する工程において、ドリル加工により前記コア基板の前記第1の主面及び前記第2の主面にテーパ形状の凹部を形成した後、前記凹部の開口面の径よりも小さい径を有する前記第1の貫通孔を形成することを特徴する配線基板の製造方法。 - 請求項6又は7記載の配線基板の製造方法であって、
前記第1の貫通孔を形成する工程において、レーザ加工により、前記テーパ形状部分を有する前記第1の貫通孔を形成することを特徴とする配線基板の製造方法。 - 請求項8又は9記載の配線基板の製造方法であって、
前記第1の導電層を形成する工程において、前記テーパ形状に沿って前記第1の導電層を形成し、
前記絶縁層を形成する工程において、前記第1の導電層の形状に沿った形状を有する前記絶縁層を前記第1の導電層上に形成することを特徴とする配線基板の製造方法
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011015432A1 (de) * | 2009-08-03 | 2011-02-10 | Robert Bosch Gmbh | Sensorelement mit durchkontaktierloch |
US8492902B2 (en) | 2010-09-27 | 2013-07-23 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Multi-layer TSV insulation and methods of fabricating the same |
WO2023153754A1 (ko) * | 2022-02-09 | 2023-08-17 | 삼성전자 주식회사 | 인터포저를 포함하는 전자 장치 및 그 제조 방법 |
WO2023189540A1 (ja) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | ガラス配線基板及びその製造方法、撮像装置 |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101945537A (zh) * | 2009-07-10 | 2011-01-12 | 英华达(上海)电子有限公司 | 一种具有过孔结构的印刷电路板及其制造方法 |
JP5644242B2 (ja) | 2009-09-09 | 2014-12-24 | 大日本印刷株式会社 | 貫通電極基板及びその製造方法 |
CN102947931A (zh) * | 2010-03-03 | 2013-02-27 | 佐治亚技术研究公司 | 无机中介片上的贯通封装过孔(tpv)结构及其加工方法 |
JP5115578B2 (ja) * | 2010-03-26 | 2013-01-09 | Tdk株式会社 | 多層配線板及び多層配線板の製造方法 |
JP5482546B2 (ja) * | 2010-07-28 | 2014-05-07 | 富士通株式会社 | プリント配線板、プリント配線板の製造方法及び電子機器 |
JP2012174874A (ja) * | 2011-02-21 | 2012-09-10 | Fujitsu Ltd | プリント配線板の製造方法及びプリント配線板 |
JP2012191155A (ja) * | 2011-02-22 | 2012-10-04 | Yazaki Corp | 配線板、および、その製造方法 |
TWI449136B (zh) * | 2011-04-20 | 2014-08-11 | Cyntec Co Ltd | 金屬芯印刷電路板及電子封裝結構 |
JP2012256675A (ja) * | 2011-06-08 | 2012-12-27 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 配線基板、半導体装置及びその製造方法 |
KR101388849B1 (ko) * | 2012-05-31 | 2014-04-23 | 삼성전기주식회사 | 패키지 기판 및 패키지 기판 제조 방법 |
KR20150014167A (ko) * | 2013-07-29 | 2015-02-06 | 삼성전기주식회사 | 유리 코어가 구비된 인쇄회로기판 |
US9478472B2 (en) * | 2014-05-19 | 2016-10-25 | Dyi-chung Hu | Substrate components for packaging IC chips and electronic device packages of the same |
US9913382B2 (en) * | 2015-04-23 | 2018-03-06 | Viasystems Technologies Corp. L.L.C. | Method for anchoring a conductive cap on a filled via in a printed circuit board and printed circuit board with an anchored conductive cap |
FR3069127B1 (fr) * | 2017-07-13 | 2019-07-26 | Safran Electronics & Defense | Carte electronique comprenant des cms brases sur des plages de brasage enterrees |
JP6635605B2 (ja) * | 2017-10-11 | 2020-01-29 | 国立研究開発法人理化学研究所 | 電流導入端子並びにそれを備えた圧力保持装置及びx線撮像装置 |
CN109729639B (zh) * | 2018-12-24 | 2020-11-20 | 奥特斯科技(重庆)有限公司 | 在无芯基板上包括柱体的部件承载件 |
CN111511102B (zh) * | 2019-01-31 | 2023-12-15 | 奥特斯奥地利科技与系统技术有限公司 | 在通孔中具有符合最小距离设计原则的桥结构的部件承载件 |
TWI696868B (zh) * | 2019-05-21 | 2020-06-21 | 友達光電股份有限公司 | 顯示面板及顯示面板製作方法 |
CN114501800A (zh) * | 2020-10-27 | 2022-05-13 | 鹏鼎控股(深圳)股份有限公司 | 电路板的制作方法及电路板 |
US20230063808A1 (en) * | 2021-09-02 | 2023-03-02 | Apple Inc. | Coaxial via shielded interposer |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01103898A (ja) * | 1987-10-16 | 1989-04-20 | Seiko Keiyo Kogyo Kk | プリント配線板 |
JPH10326971A (ja) * | 1997-05-26 | 1998-12-08 | Ngk Spark Plug Co Ltd | プリント配線板 |
JP2004140216A (ja) * | 2002-10-18 | 2004-05-13 | Ibiden Co Ltd | 多層プリント配線板およびその製造方法 |
JP2004349653A (ja) * | 2003-05-26 | 2004-12-09 | Fujitsu Ltd | プリント基板の製造方法 |
JP2005167131A (ja) * | 2003-12-05 | 2005-06-23 | Suzuki Sogyo Co Ltd | 高熱伝導性プリント配線板 |
JP2006222216A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Fujitsu Ltd | 配線基板及びその製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10107391A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-04-24 | O K Print:Kk | 配線基板および配線基板用基材 |
US5949030A (en) * | 1997-11-14 | 1999-09-07 | International Business Machines Corporation | Vias and method for making the same in organic board and chip carriers |
JP2000133942A (ja) | 1998-10-28 | 2000-05-12 | Hitachi Ltd | 多層プリント配線板 |
JP2000236167A (ja) | 1998-12-16 | 2000-08-29 | Dainippon Printing Co Ltd | 配線板とその製造方法および配線板の製造に用いる転写用原版 |
JP2002084072A (ja) | 2000-09-06 | 2002-03-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 電子部品およびその製造法 |
JP2002100869A (ja) | 2000-09-22 | 2002-04-05 | Meiko:Kk | 回路基板、それを用いた多層回路基板、およびそれらの製造方法 |
JP2006128355A (ja) | 2004-10-28 | 2006-05-18 | Canon Inc | シリコン半導体基板 |
-
2007
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-
2008
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01103898A (ja) * | 1987-10-16 | 1989-04-20 | Seiko Keiyo Kogyo Kk | プリント配線板 |
JPH10326971A (ja) * | 1997-05-26 | 1998-12-08 | Ngk Spark Plug Co Ltd | プリント配線板 |
JP2004140216A (ja) * | 2002-10-18 | 2004-05-13 | Ibiden Co Ltd | 多層プリント配線板およびその製造方法 |
JP2004349653A (ja) * | 2003-05-26 | 2004-12-09 | Fujitsu Ltd | プリント基板の製造方法 |
JP2005167131A (ja) * | 2003-12-05 | 2005-06-23 | Suzuki Sogyo Co Ltd | 高熱伝導性プリント配線板 |
JP2006222216A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Fujitsu Ltd | 配線基板及びその製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011015432A1 (de) * | 2009-08-03 | 2011-02-10 | Robert Bosch Gmbh | Sensorelement mit durchkontaktierloch |
CN102474990A (zh) * | 2009-08-03 | 2012-05-23 | 罗伯特·博世有限公司 | 具有层间连接孔的传感器元件 |
US8492902B2 (en) | 2010-09-27 | 2013-07-23 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Multi-layer TSV insulation and methods of fabricating the same |
WO2023153754A1 (ko) * | 2022-02-09 | 2023-08-17 | 삼성전자 주식회사 | 인터포저를 포함하는 전자 장치 및 그 제조 방법 |
WO2023189540A1 (ja) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | ガラス配線基板及びその製造方法、撮像装置 |
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