JP2008124482A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2008124482A5
JP2008124482A5 JP2007305683A JP2007305683A JP2008124482A5 JP 2008124482 A5 JP2008124482 A5 JP 2008124482A5 JP 2007305683 A JP2007305683 A JP 2007305683A JP 2007305683 A JP2007305683 A JP 2007305683A JP 2008124482 A5 JP2008124482 A5 JP 2008124482A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing unit
substrate
processed
resist
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007305683A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2008124482A (ja
JP4643630B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2007305683A priority Critical patent/JP4643630B2/ja
Priority claimed from JP2007305683A external-priority patent/JP4643630B2/ja
Publication of JP2008124482A publication Critical patent/JP2008124482A/ja
Publication of JP2008124482A5 publication Critical patent/JP2008124482A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4643630B2 publication Critical patent/JP4643630B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2007305683A 2007-11-27 2007-11-27 処理装置 Expired - Fee Related JP4643630B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007305683A JP4643630B2 (ja) 2007-11-27 2007-11-27 処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007305683A JP4643630B2 (ja) 2007-11-27 2007-11-27 処理装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001089847A Division JP4619562B2 (ja) 2001-03-27 2001-03-27 処理装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2008124482A JP2008124482A (ja) 2008-05-29
JP2008124482A5 true JP2008124482A5 (zh) 2010-04-02
JP4643630B2 JP4643630B2 (ja) 2011-03-02

Family

ID=39508832

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007305683A Expired - Fee Related JP4643630B2 (ja) 2007-11-27 2007-11-27 処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4643630B2 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5274148B2 (ja) * 2008-08-19 2013-08-28 東京エレクトロン株式会社 処理システム

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2877998B2 (ja) * 1991-09-03 1999-04-05 キヤノン株式会社 半導体製造装置
JP3338343B2 (ja) * 1992-12-21 2002-10-28 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JPH07175223A (ja) * 1993-12-21 1995-07-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板現像装置
JP3734095B2 (ja) * 1994-09-12 2006-01-11 株式会社ニコン 基板処理装置
JPH08153767A (ja) * 1994-11-29 1996-06-11 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP3597639B2 (ja) * 1996-06-05 2004-12-08 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置および基板処理方法
JPH1031316A (ja) * 1996-07-17 1998-02-03 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP3202929B2 (ja) * 1996-09-13 2001-08-27 東京エレクトロン株式会社 処理システム
JP3450138B2 (ja) * 1996-11-26 2003-09-22 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP3441321B2 (ja) * 1996-12-05 2003-09-02 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理方法及び装置
JPH1126547A (ja) * 1997-06-30 1999-01-29 Sumitomo Precision Prod Co Ltd ウエット処理装置
JPH11251399A (ja) * 1998-02-27 1999-09-17 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JPH11260883A (ja) * 1998-03-09 1999-09-24 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP3499145B2 (ja) * 1998-10-28 2004-02-23 東京エレクトロン株式会社 加熱処理方法、加熱処理装置及び処理システム
JP3456919B2 (ja) * 1998-07-29 2003-10-14 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法および基板処理装置
JP3576831B2 (ja) * 1998-09-18 2004-10-13 東京エレクトロン株式会社 処理装置
JP2000195775A (ja) * 1998-12-25 2000-07-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2000294616A (ja) * 1999-04-06 2000-10-20 Ebara Corp 仮置台付位置合わせ機構及びポリッシング装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006287178A5 (zh)
JP5819458B2 (ja) 基板処理装置
TWI343087B (en) Substrate transportation and processing apparatus
JP2011253897A5 (zh)
JP2012151312A5 (zh)
CN100454482C (zh) 加热处理装置和加热处理方法
JP2010523818A5 (zh)
JP2014138041A5 (ja) 処理装置、処理方法、及びデバイスの製造方法
JP2008218593A (ja) 基板処理装置
JP2008124366A (ja) 減圧乾燥装置
TWI281704B (en) Substrate processing system
JP2007131942A5 (ja) 基板アンロード装置および基板アンロード方法
JP2008063130A5 (zh)
TWI290737B (en) Apparatus and method for treating a panel
TW201824343A (zh) 基板處理裝置及基板處理方法
JP2020035935A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2008124482A5 (zh)
JP2014033226A5 (zh)
JP2007173365A (ja) 塗布乾燥処理システム及び塗布乾燥処理方法
JP7142566B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2004304003A (ja) 処理システム
KR101633517B1 (ko) 기판 처리 시스템
JP2020035884A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2014067940A5 (zh)
JP2015533195A5 (zh)