JP2008085202A - 磁気抵抗効果素子、磁気メモリ、磁気ヘッド、および磁気記録再生装置 - Google Patents
磁気抵抗効果素子、磁気メモリ、磁気ヘッド、および磁気記録再生装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】磁化方向が実質的に一方向に固着された第1の磁性層と、外部磁界に応じて磁化方向が変化する第2の磁性層と、上記第1の磁性層と前記第2の磁性層との間に設けられたスペーサ層とを有し、上記第1の磁性層と前記第2の磁性層の少なくともいずれかは、式M1aM2bXc(5≦a≦68、10≦b≦73、22≦c≦85)で表される磁性化合物を有し、M1は、Co,Fe,Niから選択される少なくとも一種の元素、M2は、Ti,V,Cr,Mnから選択される少なくとも一種の元素、Xは、N,O,Cから選択される少なくとも一種の元素である。
【選択図】図1
Description
スピンバルブ膜を用いた磁気抵抗効果素子には、CIP(Current In Plane)−GMR素子、CPP(Current Perpendicular to Plane)−GMR素子、TMR(Tunneling Magneto-Resistance)素子がある。CIP−GMR素子ではスピンバルブ膜の面に平行にセンス電流を通電し、CPP−GMR、TMR素子ではスピンバルブ膜の面にほぼ垂直方向にセンス電流を通電する。
以下、本発明の実施例につき図面を参照しつつ説明する。
図2に、図1に示される実施例1の変形例として磁化固着層が3層構造(シンセティック構造)ではなく、単層である磁気抵抗効果素子を示す。
図3に、図1に示される実施例1の変形例としてスペーサ層を介して実施例1と磁化固着層、磁化自由層の位置が実施例1と逆になっている磁気抵抗効果素子を示す。
図4に、図1に示される実施例1の変形例としてフリー層上下にスペーサ層及びピン層を二組有するデュアル型の磁気抵抗効果素子を示す。
図5に、図1に示される実施例1の変形例としてフリー層を磁性化合物層と強磁性薄膜層との積層構造とした磁気抵抗効果素子を示す。
図6に、図1に示される実施例1の変形例としてピン層を磁性化合物層と強磁性薄膜層との積層構造とした磁気抵抗効果素子を示す。
次に本発明の実施例2である磁気抵抗効果素子について説明する。本実施例では、磁性化合物の材料を変化させている点が実施例1と異なるため、実施例1と明らかに異なる部分について説明し、同様の部分については説明を省略する。
次に本発明の実施例3である磁気抵抗効果素子について説明する。本実施例では、磁性化合物の材料を変化させている点が実施例1と異なるため、実施例1と明らかに異なる部分について説明し、同様の部分については説明を省略する。
次に本発明の実施例4である磁気抵抗効果素子について説明する。本実施例では、磁性化合物の材料を変化させている点が実施例1と異なるため、実施例1と明らかに異なる部分について説明し、同様の部分については説明を省略する。
実施例1〜4に示した磁気抵抗効果素子においては、スペーサ層14がCuであったが、ここではスペーサ層14として抵抗調整層を有する磁気抵抗効果素子においても本発明の効果が得られるかどうかを検討した。ここで用いた抵抗調整層142は、Cuからなるメタルパスを持つAl−OからなるNOL(Nano Oxide Layer)である。Cuメタルパスは絶縁部分であるAl−Oを貫通しており、磁化自由層と磁化固着層をオーミックに接続している。
図8に、図7に示される実施例5の変形例として、スペーサ層14に抵抗調整層142が用いられ、かつフリー層を磁性化合物層と強磁性薄膜層との積層構造とした磁気抵抗効果素子を示す。
図9に、図7に示される実施例5の変形例として、スペーサ層14に抵抗調整層142が用いられ、かつピン層を磁性化合物と強磁性薄膜層との積層構造とした磁気抵抗効果素子を示す。
図10および図11は、本発明の実施形態に係る磁気抵抗効果素子を磁気ヘッドに組み込んだ状態を示している。図10は、磁気記録媒体(図示せず)に対向する媒体対向面に対してほぼ平行な方向に磁気抵抗効果素子を切断した断面図である。図11は、この磁気抵抗効果素子を媒体対向面ABSに対して垂直な方向に切断した断面図である。
積層して設けられている。図11に示すように、磁気抵抗効果膜10の媒体対向面には保護層43が設けられている。
図10および図11に示した磁気ヘッドは、記録再生一体型の磁気ヘッドアセンブリに組み込んで、磁気記録再生装置に搭載することができる。
次に、本発明の実施形態に係る磁気抵抗効果素子を搭載した磁気メモリについて説明する。すなわち、本発明の実施形態に係る磁気抵抗効果素子を用いて、例えばメモリセルがマトリクス状に配置されたランダムアクセス磁気メモリ(MRAM: magnetic random access memory)などの磁気メモリを実現できる。
本発明の実施形態は上記の実施形態に限られず拡張、変更可能であり、拡張、変更した実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
Claims (12)
- 磁化方向が実質的に一方向に固着された第1の磁性層と、
外部磁界に応じて磁化方向が変化する第2の磁性層と、
前記第1の磁性層と前記第2の磁性層との間に設けられたスペーサ層とを有し、
前記第1の磁性層と前記第2の磁性層の少なくともいずれかは、式M1aM2bXc(5≦a≦68、10≦b≦73、22≦c≦85)で表される磁性化合物を有し、M1は、Co,Fe,Niから選択される少なくとも一種の元素、M2は、Ti,V,Cr,Mnから選択される少なくとも一種の元素、Xは、N,O,Cから選択される少なくとも一種の元素である
ことを特徴とする磁気抵抗効果素子。 - 磁化方向が実質的に一方向に固着された第1の磁性層と、
外部磁界に応じて磁化方向が変化する第2の磁性層と、
前記第1の磁性層と前記第2の磁性層との間に設けられたスペーサ層とを有し、
前記第1の磁性層と前記第2の磁性層の少なくともいずれかは、
少なくとも1層の強磁性薄膜層と少なくとも1層の式M1aM2bXc(5≦a≦68、10≦b≦73、22≦c≦85)で表される磁性化合物を主成分とする磁性化合物層との積層構造を有し、M1は、Co,Fe,Niから選択される少なくとも一種の元素、M2は、Ti,V,Cr,Mnから選択される少なくとも一種の元素、Xは、N,O,Cから選択される少なくとも一種の元素である
ことを特徴とする磁気抵抗効果素子。 - 前記磁性化合物層の少なくとも1層が前記第1の磁性層とスペーサ層との界面側、または前記第2の磁性層とスペーサ層との界面側に配置される
ことを特徴とする請求項2に記載の磁気抵抗効果素子。 - 前記強磁性薄膜層の少なくとも1層が前記第1の磁性層とスペーサ層との界面側、または前記第2の磁性層とスペーサ層との界面側に配置される
ことを特徴とする請求項2に記載の磁気抵抗効果素子。 - cが30≦c≦75を満たす請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の磁気抵抗効果素子。
- 前記スペーサ層は導電体であることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の磁気抵抗効果素子。
- 前記スペーサ層は絶縁層と導電体とから構成され、前記導電体は前記絶縁層の膜面垂直方向に貫通している構造を有することを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の磁気抵抗効果素子。
- 前記磁性化合物の結晶構造がアモルファスであることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載の磁気抵抗効果素子。
- 前記磁性化合物層の膜厚が、0.5nm以上5nm以下であることを特徴とする請求項2から8のいずれかに記載の磁気抵抗効果素子。
- 請求項1乃至7のいずれかに記載の磁気抵抗効果素子を具備することを特徴とする磁気抵抗効果ヘッド。
- 請求項10に記載の磁気抵抗効果ヘッドを具備することを特徴とする磁気記録再生装置。
- 請求項1から7のいずれかに記載の磁気抵抗効果素子を具備することを特徴とする磁気メモリ。
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