JP2008060285A - 基板載置機構および基板受け渡し方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板載置機構は、可撓性を有する基板Gを載置する載置台としてのサセプタ4と、サセプタ4の載置面に対して突没自在に設けられ、基板Gの周縁部および中央部をそれぞれ支持してサセプタ4の上方の受け渡しを行う受け渡し位置とサセプタ4上の載置位置との間で昇降させるリフターピン8a、8bと、リフターピン8a、8bを駆動させる駆動機構としての駆動部9a、9bとを具備し、駆動部9a、9bは、基板Gを昇降させる際に、リフターピン8aをリフターピン8bよりも高く突出させて、基板Gが下に凸状に撓んだ状態でリフターピン8a、8bによって安定的に支持されるようにする。
【選択図】図4
Description
図1は本発明に係る基板載置機構を備えた基板処理装置の一実施形態であるプラズマエッチング装置の側面方向の概略断面図であり、図2はその平面方向の概略断面図である。
リフターピン8a、8bはそれぞれ、図3に示すように、下部がチャンバー2の外側に突出しており、下端部が駆動部9a、9bに接続され、この駆動部9a、9bの駆動によって昇降することによりサセプタ4の基板載置面に対して突出および没入するように構成されている。駆動部9a、9bはそれぞれ、例えばステッピングモータを用いて構成される。
搬送アーム40によって搬送された基板Gは、この搬送アーム40に吸着している場合がある。この場合に、リフターピン8a、8bを一気に上昇させて搬送アーム40から基板Gを受け取ろうとすると、基板Gが吸着していた搬送アーム40から剥がれた際に衝撃を受けて大きく振動し、位置ずれを起こしたり破損したりするおそれがある。そこで、リフターピン8a、8bによって搬送アーム40から基板Gを受け取る際には、まず、図5(a)に示すように、リフターピン8aがリフターピン8bよりも所定量高く配置されるように、リフターピン8a、8bを上昇させ、図5(b)に示すように、基板Gが搬送アーム40との接触を保ったままリフターピン8aに当接して下に凸状に撓んだ状態、より好ましくは基板Gが搬送アーム40から離れる直前の状態のときに、リフターピン8a、8bの上昇を一旦停止させる。これにより、基板Gが搬送アーム40に吸着していた場合であっても、徐々に基板Gを搬送アーム40から剥がすため、基板Gの振動を抑えることができる。そして、図5(c)に示すように、リフターピン8a、8bの上昇を再開させ、基板Gを搬送アーム40から離間させる。これにより、基板Gを搬送アーム40上からリフターピン8a、8b上に安全に移し替えることが可能となる。
エッチング処理後の基板Gは、静電吸着機構による吸着を解除しても、下部電極として機能するサセプタ4に吸着している場合があるため、リフターピン8a、8bによるサセプタ4からの基板Gの受け取りも、搬送アーム40からの受け取りと同様に行うことが好ましい。まず、図6(a)に示すように、リフターピン8aがリフターピン8bよりも所定量高く配置されるように、リフターピン8a、8bを上昇させ(リフターピン8aのみを上昇させてもよい)、図6(b)に示すように、基板Gが搬送アーム40との接触を保ったままリフターピン8aに当接して下に凸状に撓んだ状態、より好ましくは基板Gがサセプタ4から離れる直前の状態のときに、リフターピン8a、8bの上昇を一旦停止させる。そして、図6(c)に示すように、リフターピン8a、8bの上昇を再開させ、基板Gを搬送アーム40から離間させる。これにより、基板Gの振動を抑えて、基板Gをサセプタ4上からリフターピン8a、8b上に安全に移し替えることが可能となる。
2:チャンバー(処理容器)
4:サセプタ(載置台)
8a:リフターピン(第1の昇降ピン)
8b:リフターピン(第2の昇降ピン)
9a、9b:駆動部(駆動機構)
15:処理ガス供給管
18:処理ガス供給源
19:排気管
20:排気装置
25:高周波電源
31:コントローラ
32:ユーザーインターフェイス
33:記憶部
40:搬送アーム(搬送部材)
50:荷重センサ(荷重検出部)
G:ガラス基板(被処理基板)
Claims (15)
- 可撓性を有する被処理基板を載置する載置台と、
前記載置台の載置面に対して突没自在に設けられ、被処理基板を支持して前記載置台の上方の基板の受け渡しを行う受け渡し位置と前記載置台上の載置位置との間で昇降させる複数の昇降ピンと、
前記昇降ピンを駆動させる駆動機構と
を具備する基板載置機構であって、
前記複数の昇降ピンは、被処理基板の周縁部を支持する第1の昇降ピンと、被処理基板の中央部を支持する第2の昇降ピンとを有し、
前記駆動機構は、被処理基板を昇降させる際に、前記第1の昇降ピンを前記第2の昇降ピンよりも高く突出させて、被処理基板が下に凸状に撓んだ状態で安定的に支持されるようにすることを特徴とする基板載置機構。 - 前記駆動機構は、前記第1の昇降ピンと前記第2の昇降ピンとを独立して駆動させることが可能であることを特徴とする請求項1に記載の基板載置機構。
- 前記駆動部による前記第1および第2の昇降ピンの駆動を制御する制御部を具備し、
前記制御部は、前記載置位置の被処理基板を前記受け渡し位置に向けて上昇させている途中で、被処理基板が前記載置台との接触を保ったまま下に凸状に撓んだ状態のときに前記第1および第2の昇降ピンの突出方向への駆動を一旦停止させることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の基板載置機構。 - 前記駆動部による前記第1および第2の昇降ピンの駆動を制御する制御部を具備し、
前記制御部は、前記載置位置の被処理基板を前記受け渡し位置に向けて上昇させている途中で、被処理基板が前記載置台との接触を保ったまま下に凸状に撓んだ状態のときに前記第1および第2の昇降ピンの突出方向への駆動を一旦停止させ、この駆動を再開させて被処理基板を前記載置台から離間させた後、前記第1および第2の昇降ピンを没入方向に駆動させ、被処理基板が下に凸状に撓んだまま前記載置台に接触した状態のときにこの駆動を停止させ、その後、前記第1および第2の昇降ピンを再び突出方向に駆動させることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の基板載置機構。 - 前記第1および第2の昇降ピンは、搬送部材によって下方から支持されて前記受け渡し位置に搬送された被処理基板を受け取るように構成されており、
前記制御部は、前記第1および第2の昇降ピンが前記受け渡し位置に向けて突出方向に駆動している途中で、被処理基板が前記搬送部材との接触を保ったまま下に凸状に撓んだ状態のときに前記第1および第2の昇降ピンの突出方向への駆動を一旦停止させることを特徴とする請求項3または請求項4に記載の基板載置機構。 - 前記第1および第2の昇降ピンは、搬送部材によって下方から支持されて前記受け渡し位置に搬送された被処理基板を受け取るように構成されており、
前記制御部は、前記第1および第2の昇降ピンが前記受け渡し位置に向けて突出方向に駆動している途中で、被処理基板が前記搬送部材との接触を保ったまま下に凸状に撓んだ状態のときに前記第1および第2の昇降ピンの突出方向への駆動を一旦停止させ、この駆動を再開させて被処理基板を前記搬送部材から離間させた後、前記第1および第2の昇降ピンを没入方向に駆動させ、被処理基板が下に凸状に撓んだまま前記搬送部材に接触した状態のときにこの駆動を停止させ、その後、前記第1および第2の昇降ピンを再び突出方向に駆動させることを特徴とする請求項3または請求項4に記載の基板載置機構。 - 被処理基板を収容する処理容器と、
前記処理容器内に設けられた、被処理基板を載置する載置台を有する基板載置機構と、
前記載置台に載置された被処理基板に対して所定の処理を施す処理機構と、
を具備し、
前記基板載置機構は、請求項1から請求項6のいずれかの構成を有することを特徴とする基板処理装置。 - 前記処理機構は、前記処理容器内に処理ガスを供給するガス供給機構と、前記処理容器内を排気する排気機構と、前記処理容器内に前記処理ガスのプラズマを生成するプラズマ生成機構とを有し、被処理基板に対してプラズマ処理を施すことを特徴とする請求項7に記載の基板処理装置。
- 可撓性を有する被処理基板を載置する載置台の載置面に対して突没する複数の昇降ピンにより被処理基板を支持して前記載置台の上方の基板の受け渡しを行う受け渡し位置と前記載置台上の載置位置との間で昇降させる基板受け渡し方法であって、
前記複数の昇降ピンを、被処理基板の周縁部を支持する第1の昇降ピンと、被処理基板の中央部を支持する第2の昇降ピンとから構成し、
被処理基板を昇降させる際に、前記第1の昇降ピンを前記第2の昇降ピンよりも高く突出させて、被処理基板が下に凸状に撓んだ状態で安定的に支持されるようにすることを特徴とする基板受け渡し方法。 - 前記第1および第2の昇降ピンにそれぞれ、被処理基板の荷重を検出する荷重検出部を設け、前記各荷重検出部の検出結果に基づき、前記第1の昇降ピンと前記第2の昇降ピンとの突出高さの差を調整することを特徴とする請求項9に記載の基板受け渡し方法。
- 前記載置位置の被処理基板を前記受け渡し位置に向けて上昇させている途中で、被処理基板が前記載置台との接触を保ったまま下に凸状に撓んだ状態のときに前記第1および第2の昇降ピンの突出方向への駆動を一旦停止させることを特徴とする請求項9または請求項10に記載の基板受け渡し方法。
- 前記載置位置の被処理基板を前記受け渡し位置に向けて上昇させている途中で、被処理基板が前記載置台との接触を保ったまま下に凸状に撓んだ状態のときに前記第1および第2の昇降ピンの突出方向への駆動を一旦停止させ、この駆動を再開させて被処理基板を前記載置台から離間させた後、前記第1および第2の昇降ピンを没入方向に駆動させ、被処理基板が下に凸状に撓んだまま前記載置台に接触した状態のときにこの駆動を停止させ、その後、前記第1および第2の昇降ピンを再び突出方向に駆動させることを特徴とする請求項9または請求項10に記載の基板受け渡し方法。
- 前記第1および第2の昇降ピンを、搬送部材によって下方から支持されて前記受け渡し位置に搬送された被処理基板を受け取るように構成し、
前記第1および第2の昇降ピンが前記受け渡し位置に向けて突出方向に駆動している途中で、被処理基板が前記搬送部材との接触を保ったまま下に凸状に撓んだ状態のときに前記第1および第2の昇降ピンの突出方向への駆動を一旦停止させることを特徴とする請求項9から請求項12のいずれか1項に記載の基板受け渡し方法。 - 前記第1および第2の昇降ピンを、搬送部材によって下方から支持されて前記受け渡し位置に搬送された被処理基板を受け取るように構成し、
前記第1および第2の昇降ピンが前記受け渡し位置に向けて突出方向に駆動している途中で、被処理基板が前記搬送部材との接触を保ったまま下に凸状に撓んだ状態のときに前記第1および第2の昇降ピンの突出方向への駆動を一旦停止させ、この駆動を再開させて被処理基板を前記搬送部材から離間させた後、前記第1および第2の昇降ピンを没入方向に駆動させ、被処理基板が下に凸状に撓んだまま前記搬送部材に接触した状態のときにこの駆動を停止させ、その後、前記第1および第2の昇降ピンを再び突出方向に駆動させることを特徴とする請求項9から請求項12のいずれか1項に記載の基板受け渡し方法。 - コンピュータ上で動作する制御プログラムが記憶されたコンピュータ読取可能な記憶媒体であって、
前記制御プログラムは、実行時に請求項9から請求項14のいずれか1項に記載の基板受け渡し方法が行われるように、コンピュータに処理装置を制御させることを特徴とするコンピュータ読取可能な記憶媒体。
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