JP2007073827A - 減圧乾燥装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】減圧乾燥装置1bは、昇降可能な2つのリフトプレート33と、固定配置される3つの固定プレートとを備えている。乾燥処理の際には、リフトプレート33の上面33aと、固定プレートの上面25aの高さが一致され、基板Wを支持する一の支持面が形成される。乾燥処理の際には、この支持面が基板Wの裏側全面に面接触し基板Wが支持される。このため、基板Wの裏側に空間が形成されず気流が発生しないことから、処理液のムラを防止できる。また、基板の受け渡しの際には、リフトプレート33が上昇され、リフトプレート33の上面33aで基板Wの裏側に面接触して基板Wが支持される。このため、支持ピンの貫通孔なども形成されず、装置構成を簡単にでき、貫通孔に起因する処理液のムラも防止できる。
【選択図】図6
Description
図1は、第1の実施の形態に係る減圧乾燥装置1aの概略構成を示す図である。この減圧乾燥装置1aは、処理室20内に基板Wを配置した状態で処理室20内の雰囲気を減圧することで、基板W上に塗布されたレジスト液などの処理液を乾燥させる機能を有している。
次に、第2の実施の形態について説明する。第1の実施の形態では、基板を乾燥する際の支持面と基板を受け渡す際の支持面とが同一部材で構成され、基板を受け渡す際にも製品領域の裏側全面が支持されていた。しかしながら、近年では、基板のサイズが大型化してきており、基板の端部の非製品領域のみの支持では基板に撓みが生じるため、基板の中央部付近の製品領域の裏側を搬送機構が支持する場合もある。このような場合では、第1の実施の形態のように、搬送機構との基板の受け渡しの際に、基板の製品領域の裏側全面を支持することはできなくなる。第2の実施の形態の減圧乾燥装置は、このような搬送機構に対応するものである。
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、この発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。以下では、このような他の実施の形態について説明する。
上記実施の形態のように、支持面で基板Wを面接触しつつ支持すると、主として支持面から基板Wを離間させる際などに支持面と基板Wとに帯電が生じ、基板W上に形成された素子を破壊する可能性がある。
上記第2の実施の形態の減圧乾燥装置1bでは、基板Wを乾燥する際の支持面がリフトプレート33と固定プレート25とで構成されていた。ここで、リフトプレート33は昇降機構34に接続される一方で、固定プレート25はベース体21に固定されることから、リフトプレート33と固定プレート25とでは実質的な熱容量の相違があるため、厳密にはこれらの相互間で温度差が生じる可能性がある。このため、これらの相互間の温度差をなくすように、温度調整器を設けてもよい。
第1の実施の形態では、基板Wの乾燥処理中において、リフトプレート3は処理液が存在する製品領域の裏側に面接触していたが、少なくとも当該製品領域の裏側全体に面接触できれば、それより広い領域に面接触してもよい。例えば、リフトプレート3が基板Wの裏面全面に面接触して基板Wを支持するようにしてもよい。
3 リフトプレート
20 処理室
21 ベース体
22 蓋体
25 固定プレート
33 リフトプレート
W 基板
Claims (8)
- 処理室内の雰囲気を減圧して基板上の処理液を乾燥する減圧乾燥装置であって、
前記基板上の処理液を乾燥する際に、少なくとも前記処理液が存在する製品領域の裏側全体に処理支持面で面接触して前記基板を支持する支持手段と、
受渡支持面で面接触して前記基板を支持しつつ、前記処理室外の搬送機構との間で前記基板の受け渡しを行う受渡手段と、
を備え、
前記受渡支持面は、前記処理支持面の少なくとも一部となることを特徴とする減圧乾燥装置。 - 請求項1に記載の減圧乾燥装置において、
前記処理支持面と前記受渡支持面とは同一部材で構成されることを特徴とする減圧乾燥装置。 - 請求項1に記載の減圧乾燥装置において、
前記受渡支持面は、互いに離間して配置される複数の第1プレートで構成され、
前記処理支持面は、前記複数の第1プレートと他の第2プレートとで構成されることを特徴とする減圧乾燥装置。 - 請求項3に記載の減圧乾燥装置において、
前記処理支持面を形成した際に隣接する前記第1プレートと前記第2プレートとの間隔は1mm以下であることを特徴とする減圧乾燥装置。 - 請求項3または4に記載の減圧乾燥装置において、
前記処理支持面を形成した際に隣接する前記第1プレートと前記第2プレートとの間の空間を塞ぐ閉塞手段、
をさらに備えることを特徴とする減圧乾燥装置。 - 請求項3ないし5のいずれかに記載の減圧乾燥装置において、
前記第1プレートと前記第2プレートとの間の温度差を調整する温調手段、
をさらに備えることを特徴とする減圧乾燥装置。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載の減圧乾燥装置において、
前記処理支持面は、導体物質で構成され、かつ、接地されることを特徴とする減圧乾燥装置。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載の減圧乾燥装置において、
前記処理支持面は、絶縁物質で構成されることを特徴とする減圧乾燥装置。
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