JP2007153719A - 炭化珪素単結晶の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】SiとCを含む原料を融解した融液に炭化珪素単結晶基板を接触させ、前記基板上に炭化珪素単結晶を成長させることを含む炭化珪素単結晶の製造方法において、ドーパントとしての窒素を、前記SiとCを含む原料を収容している多孔質ルツボの気孔中に吸着している窒素を供給源として前記融液に供給し、炭化珪素単結晶成長中に窒素をドープする。
【選択図】図1
Description
2 ルツボ
3 加熱装置
4 原料
5 種結晶
6 引き上げ棒
Claims (9)
- SiとCを含む原料を融解した融液に炭化珪素単結晶基板を接触させ、前記基板上に炭化珪素単結晶を成長させることを含む炭化珪素単結晶の製造方法であって、ドーパントとしての窒素を、前記SiとCを含む原料を収容している多孔質ルツボの気孔中に吸着している窒素を供給源として前記融液に供給し、炭化珪素単結晶成長中に窒素をドープすることを特徴とする方法。
- 前記ルツボが吸着する窒素量が1016〜1019atms/cm3である、請求項1記載の方法。
- 前記ルツボの気孔率が13%〜25%である、請求項1記載の方法。
- SiとCを含む原料を融解した融液に炭化珪素単結晶基板を接触させ、前記基板上に炭化珪素単結晶を成長させることを含む炭化珪素単結晶の製造方法であって、ドーパントとしての窒素を、前記融液に添加した窒化珪素(Si3N4)の仮焼体から供給し、炭化珪素単結晶成長中に窒素をドープすることを特徴とする方法。
- 前記窒化珪素の添加量が全融液の0.7〜5wt%である、請求項4記載の方法。
- 前記融液が、Sn、Ge、Tiより選択される1種以上の元素を含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
- Snを0.7〜20at%含む、請求項6記載の方法。
- Geを1〜28at%含む、請求項6記載の方法。
- Tiを1.5〜7at%含む、請求項6記載の方法。
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008155673A3 (en) * | 2007-06-11 | 2009-03-19 | Toyota Motor Co Ltd | Method for producing sic single crystal |
JP2009249192A (ja) * | 2008-04-01 | 2009-10-29 | Toyota Motor Corp | 4H−SiC単結晶の製造方法 |
WO2010095021A1 (en) * | 2009-02-19 | 2010-08-26 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Production method of n-type sic single crystal, n-type sic single crystal obtained thereby and application of same |
DE112009000196T5 (de) | 2008-01-29 | 2011-01-27 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha, Toyota | Verfahren zum Wachsen eines P-SiC-Halbleitereinkristalls und P-SiC-Halbleitereinkristall |
JP2011102206A (ja) * | 2009-11-10 | 2011-05-26 | Toyota Motor Corp | n型SiC単結晶の製造方法、それによって得られるn型SiC単結晶およびその用途 |
CN103210127A (zh) * | 2010-11-09 | 2013-07-17 | 新日铁住金株式会社 | n型SiC单晶的制造方法 |
WO2014103394A1 (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-03 | トヨタ自動車株式会社 | n型SiC単結晶の製造方法 |
WO2015029649A1 (ja) | 2013-08-30 | 2015-03-05 | トヨタ自動車株式会社 | n型SiC単結晶及びその製造方法 |
CN105568385A (zh) * | 2016-01-22 | 2016-05-11 | 山东大学 | 一种掺锗SiC体单晶材料的生长方法 |
CN116516483A (zh) * | 2023-04-28 | 2023-08-01 | 通威微电子有限公司 | 一种液相法生长碳化硅晶体的装置及长晶炉 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02172887A (ja) * | 1988-12-26 | 1990-07-04 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 単結晶製造用カーボンルツボ |
JPH04300298A (ja) * | 1991-03-27 | 1992-10-23 | Sanyo Electric Co Ltd | 炭化珪素単結晶の液相エピタキシャル成長方法 |
JP2000302599A (ja) * | 1999-04-23 | 2000-10-31 | New Japan Radio Co Ltd | シリコンカーバイドのエピタキシャル成長方法 |
JP2002249376A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-09-06 | Toyo Tanso Kk | 低窒素濃度炭素系材料及びその製造方法 |
JP2004002173A (ja) * | 2002-04-15 | 2004-01-08 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 炭化珪素単結晶とその製造方法 |
-
2005
- 2005-12-08 JP JP2005355098A patent/JP4661571B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02172887A (ja) * | 1988-12-26 | 1990-07-04 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 単結晶製造用カーボンルツボ |
JPH04300298A (ja) * | 1991-03-27 | 1992-10-23 | Sanyo Electric Co Ltd | 炭化珪素単結晶の液相エピタキシャル成長方法 |
JP2000302599A (ja) * | 1999-04-23 | 2000-10-31 | New Japan Radio Co Ltd | シリコンカーバイドのエピタキシャル成長方法 |
JP2002249376A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-09-06 | Toyo Tanso Kk | 低窒素濃度炭素系材料及びその製造方法 |
JP2004002173A (ja) * | 2002-04-15 | 2004-01-08 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 炭化珪素単結晶とその製造方法 |
Cited By (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008155673A3 (en) * | 2007-06-11 | 2009-03-19 | Toyota Motor Co Ltd | Method for producing sic single crystal |
DE112009000196T5 (de) | 2008-01-29 | 2011-01-27 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha, Toyota | Verfahren zum Wachsen eines P-SiC-Halbleitereinkristalls und P-SiC-Halbleitereinkristall |
DE112009000196B4 (de) * | 2008-01-29 | 2012-06-06 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Verfahren zum Wachsen eines P-SiC-Halbleitereinkristalls und P-SiC-Halbleitereinkristall |
DE112009000196B8 (de) * | 2008-01-29 | 2012-10-25 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Verfahren zum Wachsen eines P-SiC-Halbleitereinkristalls und P-SiC-Halbleitereinkristall |
US8470698B2 (en) | 2008-01-29 | 2013-06-25 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for growing p-type SiC semiconductor single crystal and p-type SiC semiconductor single crystal |
JP2009249192A (ja) * | 2008-04-01 | 2009-10-29 | Toyota Motor Corp | 4H−SiC単結晶の製造方法 |
US9157171B2 (en) | 2009-02-19 | 2015-10-13 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Production method of n-type SiC single crystal, n-type SiC single crystal obtained thereby and application of same |
WO2010095021A1 (en) * | 2009-02-19 | 2010-08-26 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Production method of n-type sic single crystal, n-type sic single crystal obtained thereby and application of same |
JP2010189235A (ja) * | 2009-02-19 | 2010-09-02 | Toyota Motor Corp | n型SiC単結晶の製造方法、それによって得られるn型SiC単結晶およびその用途 |
JP2011102206A (ja) * | 2009-11-10 | 2011-05-26 | Toyota Motor Corp | n型SiC単結晶の製造方法、それによって得られるn型SiC単結晶およびその用途 |
CN103210127A (zh) * | 2010-11-09 | 2013-07-17 | 新日铁住金株式会社 | n型SiC单晶的制造方法 |
US9512540B2 (en) | 2010-11-09 | 2016-12-06 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | Method for manufacturing N-type SiC single crystal by solution growth using a mixed gas atmosphere |
JP5983772B2 (ja) * | 2012-12-28 | 2016-09-06 | トヨタ自動車株式会社 | n型SiC単結晶の製造方法 |
WO2014103394A1 (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-03 | トヨタ自動車株式会社 | n型SiC単結晶の製造方法 |
US20150299896A1 (en) * | 2012-12-28 | 2015-10-22 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for producing n-type sic single crystal |
EP2940196A4 (en) * | 2012-12-28 | 2016-01-20 | Toyota Motor Co Ltd | PROCESS FOR THE PRODUCTION OF SiC MONOCRYSTAL OF TYPE n |
US9702057B2 (en) | 2012-12-28 | 2017-07-11 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for producing an n-type SiC single crystal from a Si—C solution comprising a nitride |
EP3040452A4 (en) * | 2013-08-30 | 2016-09-14 | Toyota Motor Co Ltd | TYPE N TYC MONOCRYSTAL AND METHOD FOR PRODUCING SAME |
WO2015029649A1 (ja) | 2013-08-30 | 2015-03-05 | トヨタ自動車株式会社 | n型SiC単結晶及びその製造方法 |
JP2015048265A (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-16 | トヨタ自動車株式会社 | n型SiC単結晶及びその製造方法 |
CN105492667A (zh) * | 2013-08-30 | 2016-04-13 | 丰田自动车株式会社 | n型SiC单晶及其制造方法 |
KR101793394B1 (ko) | 2013-08-30 | 2017-11-02 | 도요타 지도샤(주) | n 형 SiC 단결정 및 그 제조 방법 |
CN105492667B (zh) * | 2013-08-30 | 2017-12-05 | 丰田自动车株式会社 | n型SiC单晶及其制造方法 |
US10167570B2 (en) | 2013-08-30 | 2019-01-01 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | N-type SiC single crystal and method for its production |
CN105568385A (zh) * | 2016-01-22 | 2016-05-11 | 山东大学 | 一种掺锗SiC体单晶材料的生长方法 |
CN116516483A (zh) * | 2023-04-28 | 2023-08-01 | 通威微电子有限公司 | 一种液相法生长碳化硅晶体的装置及长晶炉 |
CN116516483B (zh) * | 2023-04-28 | 2024-02-27 | 通威微电子有限公司 | 一种液相法生长碳化硅晶体的装置及长晶炉 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4661571B2 (ja) | 2011-03-30 |
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