JPH02172887A - 単結晶製造用カーボンルツボ - Google Patents
単結晶製造用カーボンルツボInfo
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- JPH02172887A JPH02172887A JP32858688A JP32858688A JPH02172887A JP H02172887 A JPH02172887 A JP H02172887A JP 32858688 A JP32858688 A JP 32858688A JP 32858688 A JP32858688 A JP 32858688A JP H02172887 A JPH02172887 A JP H02172887A
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、種結晶を使用してシリコン等の半導体単結晶
を引上げる際、原料融液を収容した石英ガラスルツボを
収容する単結晶製造用カーボンルツボに関する。
を引上げる際、原料融液を収容した石英ガラスルツボを
収容する単結晶製造用カーボンルツボに関する。
[従来の技術]
半導体単結晶の製造方法としては、代表的な方法として
チョクラルスキー法(CZ法)が知られている。この方
法は、石英ガラスルツボ内で半導体材料を融解し、これ
に種結晶を接触させて引上げ種結晶と同方位の単結晶を
成長させるものである。この場合、石英ガラスルツボは
、耐熱性、成形性がよく半導体材料に悪影響を及ぼすよ
うな不純物の存在がほとんどだめられないことから唯一
の経済性のよい材料であるといえる。
チョクラルスキー法(CZ法)が知られている。この方
法は、石英ガラスルツボ内で半導体材料を融解し、これ
に種結晶を接触させて引上げ種結晶と同方位の単結晶を
成長させるものである。この場合、石英ガラスルツボは
、耐熱性、成形性がよく半導体材料に悪影響を及ぼすよ
うな不純物の存在がほとんどだめられないことから唯一
の経済性のよい材料であるといえる。
しかし、石英ガラスルツボは、例えばシリコン単結晶を
引上げる場合、その処理温度が1450℃にも達して軟
化変形するため、通常、カーボンルツボ内に収容して使
用される。この時石英ガラスルツボは、変形してカーボ
ンルツボに密着するが、高温のため接触した石英ガラス
とカーボンが反応し、カーボンルツボ内表面に反応によ
り生じた珪化Fl (stc)が生成される。そして、
単結晶の引上げを繰り返すうちに珪化層がカーボンルツ
ボ内部までに達し、カーボンルツボとその内部に形成さ
れた珪化層との熱膨張差によってクラックが生じてカー
ボンルツボが割れるという問題がある。
引上げる場合、その処理温度が1450℃にも達して軟
化変形するため、通常、カーボンルツボ内に収容して使
用される。この時石英ガラスルツボは、変形してカーボ
ンルツボに密着するが、高温のため接触した石英ガラス
とカーボンが反応し、カーボンルツボ内表面に反応によ
り生じた珪化Fl (stc)が生成される。そして、
単結晶の引上げを繰り返すうちに珪化層がカーボンルツ
ボ内部までに達し、カーボンルツボとその内部に形成さ
れた珪化層との熱膨張差によってクラックが生じてカー
ボンルツボが割れるという問題がある。
本発明者等は、かかるクラック発生機構について詳しく
調査したところ、引上げ時の反応及び生成した珪化層の
カーボンに対する体積膨張比は、第1表に示すようにな
った。
調査したところ、引上げ時の反応及び生成した珪化層の
カーボンに対する体積膨張比は、第1表に示すようにな
った。
第 1 表
注1) C及びSIGの真比重をそれぞれ2.1.3.
2と仮定し計算した。
2と仮定し計算した。
注2)反応式中、Gは気体、Sは固体である。
第1表下段に示した反応では、体積膨張比が2.19と
大きく、SL単結晶引上げ時の昇温あるいは降温時の体
積変化により割れるものである。第1表よりカーボンル
ツボは石英ガラスルツボと接触することによって、特に
カーボンルツボ内周部において反応し珪化層が形成され
、珪化層がカーボンルツボに異常応力を加え、クラック
発生の大きな原因の一つとなっていることがわかる。
大きく、SL単結晶引上げ時の昇温あるいは降温時の体
積変化により割れるものである。第1表よりカーボンル
ツボは石英ガラスルツボと接触することによって、特に
カーボンルツボ内周部において反応し珪化層が形成され
、珪化層がカーボンルツボに異常応力を加え、クラック
発生の大きな原因の一つとなっていることがわかる。
他の原因としては、カーボンルツボが酸化消耗した場合
、その部分に石英ガラスルツボが軟化して食い込むこと
が考えられる。
、その部分に石英ガラスルツボが軟化して食い込むこと
が考えられる。
従来、上記問題に対処するため、カーボン基材の高密度
化や開気孔率の低減を図った単結晶製造用カーボンルツ
ボが知られている。
化や開気孔率の低減を図った単結晶製造用カーボンルツ
ボが知られている。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上記従来の単結晶製造用カーボンルツボ
においても、カーボン基材に開気孔が存在するため、こ
の開気孔から珪化され、カーボンがSiCになる時の体
積膨張による割れ、並びに珪化によるカーボンルツボの
くわれを抑制できなかった。
においても、カーボン基材に開気孔が存在するため、こ
の開気孔から珪化され、カーボンがSiCになる時の体
積膨張による割れ、並びに珪化によるカーボンルツボの
くわれを抑制できなかった。
又、密度の高いものは緻密なものであるため、内部応力
を吸収できずクラックが発生し易く、耐久性の向上が認
められなかったことや、高密度になれば、吸蔵したガス
の発生が多いということがわかっており、引上げた単結
晶の純度低下が考えられる(引用文献;広畑ら“各種等
方性翼船材料の真空工学的特性評価“真空30巻5号(
1987)P、68)。
を吸収できずクラックが発生し易く、耐久性の向上が認
められなかったことや、高密度になれば、吸蔵したガス
の発生が多いということがわかっており、引上げた単結
晶の純度低下が考えられる(引用文献;広畑ら“各種等
方性翼船材料の真空工学的特性評価“真空30巻5号(
1987)P、68)。
これらの傾向は、特にルツボが大型化すると共に著しく
なり、長時間の操業上ネックとなっている。
なり、長時間の操業上ネックとなっている。
そこで、本発明は、割れ及びくわれを抑制して耐久性を
向上し得、大型化しても長時間連続使用が可能な単結晶
製造用カーボンルツボの提供を目的とする。
向上し得、大型化しても長時間連続使用が可能な単結晶
製造用カーボンルツボの提供を目的とする。
[課題を解決するための手段]
前記課題を解決するため、本発明は、原料融液を収容し
た石英ガラスルツボが収容される単結晶製造用カーボン
ルツボであって、開気孔率20〜50%のカーボン基材
の開気孔にガラス状カーボンを充填して開気孔率を5〜
30%とする一方、カーボン基材の表面にガラス状カー
ボンの被膜を形成したものである。
た石英ガラスルツボが収容される単結晶製造用カーボン
ルツボであって、開気孔率20〜50%のカーボン基材
の開気孔にガラス状カーボンを充填して開気孔率を5〜
30%とする一方、カーボン基材の表面にガラス状カー
ボンの被膜を形成したものである。
ガラス状カーボンの被膜の上に5L3N4の被膜を形成
することが効′果的である。
することが効′果的である。
[作 用]
上記手段においては、カーボン基材のSiによる珪化反
応が、カーボン基材の表面及び開気孔を覆う耐食性に優
れるガラス状カーボンによって抑制される一方、珪化反
応によって生成されるSiCの体積膨張による応力が5
〜30%の割合で存在する開気孔によって吸収、緩和さ
れる。
応が、カーボン基材の表面及び開気孔を覆う耐食性に優
れるガラス状カーボンによって抑制される一方、珪化反
応によって生成されるSiCの体積膨張による応力が5
〜30%の割合で存在する開気孔によって吸収、緩和さ
れる。
ガラス状カーボンの充填前の開気孔率が20%未満であ
るとガラス状カーボンを開気孔の細孔内部までに均一に
充填できず、50%を超えるとカーボンルツボ自体の強
度が低下することで好ましくない。
るとガラス状カーボンを開気孔の細孔内部までに均一に
充填できず、50%を超えるとカーボンルツボ自体の強
度が低下することで好ましくない。
ガラス状カーボンの充填後の開気孔率が5%未満である
と珪化層の体積膨張による応力を吸収できず、35%を
超えると珪化反応が多くなる。
と珪化層の体積膨張による応力を吸収できず、35%を
超えると珪化反応が多くなる。
ガラス状カーボンの被膜の膜厚は、2μm〜1 mmの
範囲が好ましく、2μm未満であると被膜としての効果
が生ぜず、1 mmを超えると被膜形成の熱処理の過程
においてその収縮からクラックや剥蔑を生じる。
範囲が好ましく、2μm未満であると被膜としての効果
が生ぜず、1 mmを超えると被膜形成の熱処理の過程
においてその収縮からクラックや剥蔑を生じる。
又、ガラス状カーボンの被膜の上にSi3N4の被膜を
形成することが好ましく、このようにすることにより、
ガラス状カーボンの被膜の酸化が防止される。
形成することが好ましく、このようにすることにより、
ガラス状カーボンの被膜の酸化が防止される。
Si3N4の被膜の膜厚は、0.1〜500μmの範囲
が好ましく、0.1(ttn未満であると石英ガラスツ
ルボとの接触面でキズ等がつき、被膜としての効果がな
くなり、500μmを超えると価格的に非常に高価なも
のとなる。
が好ましく、0.1(ttn未満であると石英ガラスツ
ルボとの接触面でキズ等がつき、被膜としての効果がな
くなり、500μmを超えると価格的に非常に高価なも
のとなる。
[実施例コ
以下、本発明の詳細な説明する。
気孔率20〜50%のカーボン基材に熱硬化性樹脂(例
えばフェノール樹脂あるいはフラン樹脂)を含浸(真空
含浸)あるいは塗布し、カーボン基材の開気孔に熱硬化
性樹脂充填し、かつカーボン基材の表面を熱硬化性樹脂
で覆い、その後、これを1時間当り2℃以下の昇温速度
で200℃まで加熱した後、非酸化雰囲気(例えば窒素
ガス雰囲気)中において1時間当り10℃の昇温速度で
1000℃まで焼成した。次いで、塩素ガス雰囲気中に
おいて2000℃1成し、塩素ガスと接触させながら純
化処理を行って熱硬化性樹脂をガラス状カーボンに転換
し、開気孔にガラス状カーボンを充填し、かつカーボン
基材の表面にガラス状カーボンの被膜を形成した開気孔
率の異なる5種類のカーボンルツボ(外径440mm
、内径405mm 、高さ300mm )を得た。
えばフェノール樹脂あるいはフラン樹脂)を含浸(真空
含浸)あるいは塗布し、カーボン基材の開気孔に熱硬化
性樹脂充填し、かつカーボン基材の表面を熱硬化性樹脂
で覆い、その後、これを1時間当り2℃以下の昇温速度
で200℃まで加熱した後、非酸化雰囲気(例えば窒素
ガス雰囲気)中において1時間当り10℃の昇温速度で
1000℃まで焼成した。次いで、塩素ガス雰囲気中に
おいて2000℃1成し、塩素ガスと接触させながら純
化処理を行って熱硬化性樹脂をガラス状カーボンに転換
し、開気孔にガラス状カーボンを充填し、かつカーボン
基材の表面にガラス状カーボンの被膜を形成した開気孔
率の異なる5種類のカーボンルツボ(外径440mm
、内径405mm 、高さ300mm )を得た。
これらにポリシリコン30kgを収容した石英ガラスル
ツボを収容し、CZ法により5インチのシリコン単結晶
を引上げたところ、各カーボンルツボのライフは、従来
のカーボンルツボの場合も併記する第2表のようになっ
た。
ツボを収容し、CZ法により5インチのシリコン単結晶
を引上げたところ、各カーボンルツボのライフは、従来
のカーボンルツボの場合も併記する第2表のようになっ
た。
第 2 表
従って、実施例2〜3のカーボンルツボのライフは、従
来のものの約2倍程度となることがわかる。
来のものの約2倍程度となることがわかる。
又、カーボンルツボのライフは、ガラス状カーボンの充
填前後の開気孔率の増減に比例して変化するのではなく
、極大値をもっことから、充填前の開気孔率が20〜5
0%で、充填後の開気孔率が5〜30%とすることが望
ましいことがわかる。
填前後の開気孔率の増減に比例して変化するのではなく
、極大値をもっことから、充填前の開気孔率が20〜5
0%で、充填後の開気孔率が5〜30%とすることが望
ましいことがわかる。
なお、従来例1〜3のカーボンルツボは、珪化された部
分からクランクが発生しており、その部分の開気孔内は
SiCとなっていた。又、従来例4〜5のカーボンルツ
ボは、酸化によろくわれが大きかった。
分からクランクが発生しており、その部分の開気孔内は
SiCとなっていた。又、従来例4〜5のカーボンルツ
ボは、酸化によろくわれが大きかった。
又、上記各実施例のカーボンルツボのガラス状カーボン
の被膜の上に2〜500μmの膜厚の5hN4の被膜を
形成したところ、ガラス状カーボンの被膜の酸化が防止
され、ライフが50%以上増加した。
の被膜の上に2〜500μmの膜厚の5hN4の被膜を
形成したところ、ガラス状カーボンの被膜の酸化が防止
され、ライフが50%以上増加した。
[発明の効果]
以上のように本発明によれば、カーボン基材のStによ
る珪化反応が、カーボン基材の表面及び開気孔を覆う耐
食性に優れるガラス状カーボンによって抑制される一方
、珪化反応によって生成されるSLCの体積膨張による
応力が5〜30%の割合で存在する開気孔によって吸収
、緩和されるので、カーボンルツボの割れ及びくわれを
抑制して耐久性を大幅に向上することができ、特にカー
ボンルツボが大型化しても長時間の連続使用を行うこと
ができる。
る珪化反応が、カーボン基材の表面及び開気孔を覆う耐
食性に優れるガラス状カーボンによって抑制される一方
、珪化反応によって生成されるSLCの体積膨張による
応力が5〜30%の割合で存在する開気孔によって吸収
、緩和されるので、カーボンルツボの割れ及びくわれを
抑制して耐久性を大幅に向上することができ、特にカー
ボンルツボが大型化しても長時間の連続使用を行うこと
ができる。
又、ガラス状カーボンの被膜の上にSi3N4の被膜を
形成することにより、ガラス状カーボンの被膜の酸化が
防止されるので、カーボンルツボのライフを一層延ばす
ことができる。
形成することにより、ガラス状カーボンの被膜の酸化が
防止されるので、カーボンルツボのライフを一層延ばす
ことができる。
Claims (1)
- (1)原料融液を収容した石英ガラスルツボが収容され
る単結晶製造用カーボンルツボであって、開気孔率20
〜50%のカーボン基材の開気孔にガラス状カーボンを
充填して開気孔率を5〜30%とする一方、カーボン基
材の表面にガラス状カーボンの被膜を形成したことを特
徴とする単結晶製造用カーボンルツボ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63328586A JPH0751473B2 (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 単結晶製造用カーボンルツボ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63328586A JPH0751473B2 (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 単結晶製造用カーボンルツボ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02172887A true JPH02172887A (ja) | 1990-07-04 |
JPH0751473B2 JPH0751473B2 (ja) | 1995-06-05 |
Family
ID=18211932
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63328586A Expired - Lifetime JPH0751473B2 (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 単結晶製造用カーボンルツボ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0751473B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007153719A (ja) * | 2005-12-08 | 2007-06-21 | Toyota Motor Corp | 炭化珪素単結晶の製造方法 |
JP2007534590A (ja) * | 2004-04-29 | 2007-11-29 | ベスビウス クルーシブル カンパニー | シリコン結晶化用坩堝 |
WO2012105488A1 (ja) * | 2011-02-02 | 2012-08-09 | 東洋炭素株式会社 | 単結晶引上げ装置用黒鉛ルツボ及びその製造方法 |
JP2012158503A (ja) * | 2011-02-02 | 2012-08-23 | Toyo Tanso Kk | 単結晶引上げ装置用黒鉛ルツボ及びその製造方法 |
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JPS62252394A (ja) * | 1986-04-23 | 1987-11-04 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 半導体融解装置用黒鉛部材の製造方法 |
-
1988
- 1988-12-26 JP JP63328586A patent/JPH0751473B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62252394A (ja) * | 1986-04-23 | 1987-11-04 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 半導体融解装置用黒鉛部材の製造方法 |
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CN103249876A (zh) * | 2011-02-02 | 2013-08-14 | 东洋炭素株式会社 | 单晶提拉装置用石墨坩埚及其制造方法 |
CN103249876B (zh) * | 2011-02-02 | 2016-06-29 | 东洋炭素株式会社 | 单晶提拉装置用石墨坩埚及其制造方法 |
TWI576472B (zh) * | 2011-02-02 | 2017-04-01 | Toyo Tanso Co | Graphite crucible for single crystal pulling device and method for manufacturing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0751473B2 (ja) | 1995-06-05 |
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