JPS58172295A - シリコン単結晶引上げ方法 - Google Patents

シリコン単結晶引上げ方法

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Publication number
JPS58172295A
JPS58172295A JP5264482A JP5264482A JPS58172295A JP S58172295 A JPS58172295 A JP S58172295A JP 5264482 A JP5264482 A JP 5264482A JP 5264482 A JP5264482 A JP 5264482A JP S58172295 A JPS58172295 A JP S58172295A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crucible
graphite
graphite crucible
quartz
silicon
Prior art date
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Pending
Application number
JP5264482A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiji Aoyama
青山 好次
Shigeo Yasuda
茂雄 安田
Naomi Takahashi
直美 高橋
Sadafumi Takeuchi
貞文 竹内
Yasuhiro Obara
小原 庸博
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Ibigawa Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
Ibigawa Electric Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Ibiden Co Ltd, Ibigawa Electric Industry Co Ltd filed Critical Ibiden Co Ltd
Priority to JP5264482A priority Critical patent/JPS58172295A/ja
Publication of JPS58172295A publication Critical patent/JPS58172295A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/10Crucibles or containers for supporting the melt

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はチ膳りラルスキー法と呼dれている回転引上は
方法において使用されるVeJコン単結晶引上は装置に
おいて使用する黒鉛ルツボと石英ルツボとの関に膨化i
!隼を介在させること1w做とするシリコン早結晶引上
は方法に関する。
−骸r(、シリコン多結晶を単結晶化してM#するため
に使用されるシリコン単結晶の引上&1′装皺は、王と
してシリコン多結#!I’を溶融するための石英ルツボ
と、この石英ルツボを内装するための黒鉛ルツボとから
成っている。
ところが、シリコン単結晶を引上は中の黒鉛ルツボFi
約1500℃の高温に加熱されている。そのため、石英
ルツボのシリコンと石層ルツボの決事とが反応して一酸
化脚本と一酸化珪素とを生成し、このよう1Cシて生成
された一酸化珪素はさらに黒′11tルツホと反応する
七〇)結果、黒鉛ルツボの表J#部分は灰化珪素に転化
(コンバージョン)されることになる。
表#1部が灰化珪素に転化さtまた黒鉛ルツボを何回も
使用していると表msのみならず、さらkは深層内部ま
で炭化珪素に転化さnることにな妙、慈にはM4鉛ルツ
ボのR層内部にシけるひずみ會起こし、これに基因して
ルツボの各部で極端な反9を起こす結果、ルツボの使用
寿命を普しく短かくするという欠点がある。
そのため、AM鉛ルツボの寿命は、使用されている黒鉛
素材の品*によっても#4なるが、通常、5〜15回の
11!J114に耐える程度のものである。
黒鉛ルツボと一酸化珪素ガスとの反応は、一般に、15
00〜1600℃の温度で行われるため、黒鉛ルツボを
構成している黒鉛の各粒子を完全に炭化珪素に転化する
ことはできず、weには黒鉛の各粒子間に存在する気孔
の表向および黒鉛の粒子とが秦がれている境界部分のみ
が途択的Km化珪素に転化されている。
この転化反応の過程をさらに詳しく説明すると、−酸化
廿集と反応した二つの原子の脚案原子のり。
ちの一つが一酸化訳本として逸散することKなり、その
代9に#!素原子よ少も原子半径C)大きな珪素原子が
割り込む反応がm返されることKtkる。そ11 ・ の結果、黒鉛ルツボ自体はその使用同数が増加すること
Kなるt共に、物理的WCd不均一の組成となるためw
Ii細な電制(ミクロクラック)か発生して@l’J1
4寿命を短かくすることKなるものと考えられる。
本発明者尋は、上記知見に基いて黒鉛ルツボの使用−命
の向上を図るために、前述のように黒鉛ルツボの使用寿
命を短かくする黒鉛ルツボと一酸化珪素との反応を根本
的に排除する方法として、石英ルツボと、面接触する黒
鉛ルツボ内0klKあらかじめ炭化珪素を転化させ、あ
るいは被覆させることにより石英ガラスとIIAIII
EIA/ツボとの反応を防止できること全新規に知見し
た。黒鉛と石英および炭化珪素と石英との化学反応式は
下記の31119である。
8i0* + 3C→8iC+2CO−・=−(1)2
8i02+ 8iC→3SiO−)CO”−・(2)上
記反応式(1)は、主として従来法における石英pツホ
と黒鉛ルツボとの界面モ起こる反応でIhす、tた上記
反応式(2)/Ii本発明の方法において使用されると
ころの内面を炭化珪素に転化するかあるいIIi択化f
iXを被覆した黒鉛ルツボと石英ルツボとの境界向で起
る反応である。シリコン単結晶の引上&7に際し多結晶
シリコン塊を溶融するときに石英ルツボと黒鉛ルツボと
の境!#山のai度が1600℃近くKなることから、
石央ガフ厚と黒鉛ルツボとの反応か進行する。このこと
から、本発明者等は、上記反応式(1)および(21に
よる反応生物OJl管求めるため1600℃、Ar雰囲
気20 a′i@ Kで30分間反応させ反応量の確M
*験を行なった。
この実験結果を第1表に示す。
第1表 上記第1表の実験結果からも明らかに、択化l!素と石
英との反応率が低いことを纏認した。また炭化珪素と石
英との反応量III#i、一般に約1500℃であり、
l/リコン単結晶引上は中には炭化珪素と石英とは殆ん
ど反応しないものと考えられる。そしてまた炭化珪素と
石英との反応により生成した一酸化珪素が黒鉛ルツボ内
111に被覆された炭化珪素あるいはあらかじめ転化さ
れた炭化珪素の表面□から黒鉛ルツボ基材に侵入し、黒
鉛ルツボ倉変質させ反りあるいFi−れが発生すること
を防止するために黒鉛ルツボf)−一を炭化珪素で被覆
するか4または択化珪3kK転化させる。そして黒鉛ル
ツボの表面には纏めした黒鉛が存在しないものが好まし
い、また脚化珪諏O厚みを厚くする程黒鉛ルツボe)寿
命が長くなることも判明した。
次に本発明の実施について&l#Jする。
実施例 12インチの石英ルツボと黒鉛ルツボにおいてシリコン
単結晶を引上げた時の実施例とその効果についてlJ!
12表に示す0本賽總例において、炭化珪素の被覆はS
 i )ic l sとトルエンとを水嵩気流中にて1
200℃にてR「定の厚さまで被覆し、その醜さらに1
900℃で熱外St行なった。黒鉛摩面の灰化珪素への
転化は石英と珪素から一酸化藷本奮発生させ1900″
9にで反応し所定の犀さまで転化した。
第2表 上記第2jIの*織例の結果から4明らかなようK、石
英ルツボとIil接触する黒鉛ルツボ表11IIK#2
化珪素被覆あるいは転化することにより大輪に使用青金
が向上す゛ることが明らかと1に−)た1本発明の方法
において黒鉛ルツボに使用する黒鉛素材として一*I[
111[#4.6±0.3 X lG−’/”Cfl 
4 )# 好11゜い、しかしながら熱膨張係数が4.
3 X 10  /’C以下あるいFi4.9 X 1
G″/C以上であるとき、表面処理面K11lk線な亀
裂が生成する。
しかしながら、その亀裂から一鍛化珪IKが侵入し黒鉛
ルツボの内−組織と反応したとしても表面処理を施さ倉
い従来法における黒鉛ルツボと比べ黒鉛ルツボの内部組
織の反応は微少で本発明による黒鉛ルツボの使用膏命會
向上させる上で大きな阻害要因とはならない0以上のこ
とから本発明はVリコン単結晶引上ぜ装置!において使
用する黒鉛ルツボの青金を大幅に向上することができ工
業上極めて有用なものである。
特許登録出願人 揖斐川電電工業株式会社 代表者 多賀潤一部

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、シリコン単結晶の引上は装置において使用する石英
    ルツボと、黒鉛ルツボとの間に灰化珪素を介在させる仁
    とを特徴とするシリコン単結晶引上げ方法。 2、当該度化警声は黒鉛pツボ内−に被覆されているも
    のであること管特徴とする特許劇求の軸曲第1J11f
    fi載のシリコン単結晶引上は方法。 3、当該灰化珪素は黒鉛ルツボ内面を転化したものであ
    る仁とを特徴とする特IFF輌求の一一第1項記載の&
    1コン単結晶引上は方法。
JP5264482A 1982-03-30 1982-03-30 シリコン単結晶引上げ方法 Pending JPS58172295A (ja)

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JPS58172295A true JPS58172295A (ja) 1983-10-11

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JP (1) JPS58172295A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0365581A (ja) * 1989-08-01 1991-03-20 Nkk Corp 炭素焼結体の耐酸化性向上方法
JP2010100443A (ja) * 2008-10-21 2010-05-06 Shin Etsu Handotai Co Ltd 黒鉛部材のライフの評価方法

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