JPS5920634B2 - 炭化珪素被覆炭素材の製造法 - Google Patents

炭化珪素被覆炭素材の製造法

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JPS5920634B2
JPS5920634B2 JP55077966A JP7796680A JPS5920634B2 JP S5920634 B2 JPS5920634 B2 JP S5920634B2 JP 55077966 A JP55077966 A JP 55077966A JP 7796680 A JP7796680 A JP 7796680A JP S5920634 B2 JPS5920634 B2 JP S5920634B2
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JP
Japan
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carbon material
iron
silicon carbide
manufacturing
raw material
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JP55077966A
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JPS573780A (en
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一雄 浅野
康博 愛場
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Resonac Corp
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Hitachi Chemical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、炭素材の表面に炭化珪素(以下SiCと記す
)被覆、を形成する方法に関するものである。
炭素材(反応が2000℃という高温で行われることか
ら、このような高温で黒鉛化反応等により変形収縮する
のを避けるため黒鉛材料を用いる場合が多い。
)の表面にSiO被覆を形成させる方法として、珪石の
ようにSiの酸化物を含有する物質と、これを還元する
ための炭素粉末又は金属粉末とを混合したものを高温(
約1800℃)に加熱して一酸化珪素(Sin)ガスを
発生させ、発生したSiOガスを炭素製品の表面に反応
させる方法は公知である。
この場合、SiOガスの発生と炭素製品との反応を同一
系内で行うと、反応原料は熱伝導率が小さいためと吸熱
反応であるため原料の温度が上昇せず、SiOガスの発
生速度が遅くなる。
SiC被覆層の厚さとしては加工も考慮して、0.7±
0.1朋以上あることが要求される。
SiC被覆層の厚さはSiOガスの濃度に左右されるた
めSiOガスの発生速度が遅いと被覆層を厚くできない
被覆層を厚くするためには高濃度のSiOガスを短時間
で作用させるのがよい。
SiOガスの発生速度を犬にするために原料の温度を上
げなければならないが、そうすると必然的に炭素材の温
度も上昇し、せっかく生成した8i0が分解して消耗し
て寸法精度が得られないし、被覆層のSiOが結晶成長
して銀黒色の色むらを生じたりする。
本発明は原料温度を上昇することなく SiOの発生速
度を高め、もって良好なSiO被覆炭素材を得ることを
目的とする。
本発明は、鉄分の存在下にSiOガス発生原料を加熱し
て、発生したSiOガスと炭素材とを反応させて炭素材
の表面をSiC化させることを特徴とするSiO被覆炭
素材の製造法である。
SiOガス発生原料とは、珪石のようにSiの酸化物を
含む物質と、これを還元するための炭素、SiO又は金
属(主として金属珪素)もしくはこれらの混合物とを混
合したものである。
このSiOガス発生原料を加熱してSiOガスを発生さ
せる反応を鉄分の存在下に行うと、従来と同じ加熱温度
でもSiOガスの発生速度が大幅に大きくなる。
鉄分としてはSiOガス発生原料をSiOガス発生反応
温度に加熱しても揮散することなく原料中に鉄分が存在
しうるもの、例えば、鉄粉、酸化鉄、水酸化鉄、硫酸鉄
、硫化鉄、リン化鉄等を使用しなければならない。
これらを鉄換算で3〜10%(重量比以下同じ)好まし
くは4〜5%加える。
なお原料中に不純物として存在する鉄分の量が多い場合
は、添加量を考慮する必要がある。
実施例 l 5t02/ c= 28 (重量比)となるように混合
した反応原料中に鉄粉を所定量加えたもの5kgをとり
、黒鉛ケースの下部に入れ、上部には外径60Wtm、
内径40rran、高さ10m1ftの黒鉛材(かさ比
重1.60)50個を入れ、高周波加熱により黒鉛ケー
スの外壁が2000℃になるようにして60分間反応さ
せた。
Si0層の厚さは鉄粉を3%加えたとき、0.9±0.
1mm、5%のとき1.0±0.1 mm 。
10%のとき0.9±0.1 mm、鉄粉を加えない場
合、1%加えた場合及び2%加えた場合いずれも0.6
±0.1 mmであった。
鉄粉を加えないで黒鉛ケースの外壁温度を2200℃と
したとき、SiC層の厚さは0.9±0.1朋であった
が、SiCの結晶成長が認められ、SIC層に一部消耗
箇所があった。
実施例 2 反応原料としては実施例1における鉄粉の代りにFe2
(804)318%、FeS210%、 Fe3047
%をそれぞれ加えたものを用い、10rnrIL角長さ
50朋の黒鉛棒を各100本ず\について、実施例1と
同様に反応させた。
この結果得られた810層の厚さはFe2(804)3
の場合0.7±0.1 m1n、 FeS2の場合0.
8±0.1 mm、 Fe3O4の場合0.9±0.1
11Lmであり、SiC層の消耗はいずれも認められな
かった。
以上実施例の結果から明らかなように、本発明によれば
、SiOガス発生原料に鉄を加えたことにより、反応温
度を上げることなくSiOガスを短時間に発生させるこ
とができ、810層の消耗を生じさせないで810層を
厚くすることができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 鉄換算で3〜10%の鉄分の存在下に反応原料を加
    熱して発生した一酸化珪素ガスと炭素材とを反応させて
    炭素材の表面を炭化珪素化させることを特徴とする炭化
    珪素被覆素材の製造法。
JP55077966A 1980-06-09 1980-06-09 炭化珪素被覆炭素材の製造法 Expired JPS5920634B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH04100255A (ja) * 1990-08-18 1992-04-02 Fujitsu Ltd 半導体製造装置

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