JP2007031709A - 液晶組成物及び位相差板 - Google Patents
液晶組成物及び位相差板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007031709A JP2007031709A JP2006174493A JP2006174493A JP2007031709A JP 2007031709 A JP2007031709 A JP 2007031709A JP 2006174493 A JP2006174493 A JP 2006174493A JP 2006174493 A JP2006174493 A JP 2006174493A JP 2007031709 A JP2007031709 A JP 2007031709A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- liquid crystal
- formula
- ring
- represented
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
- 0 C*(C)CCC(*(C)(C)N)*=C Chemical compound C*(C)CCC(*(C)(C)N)*=C 0.000 description 3
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
【解決手段】少なくとも1種の、液晶化合物とカイラル剤とを含有する液晶組成物であって、該液晶化合物は、波長λにおける固有複屈折Δn(λ)が下記式(1)を満足することを特徴とする液晶組成物。
Δn(450nm)/Δn(550nm)<1.0 (1)
【選択図】なし
Description
(1)少なくとも1種の液晶化合物とカイラル剤とを含有する液晶組成物であって、該液晶化合物は、波長λにおける固有複屈折Δn(λ)が下記式(1)を満足することを特徴とする液晶組成物。
Δn(450nm)/Δn(550nm)<1.0 (1)
(2)液晶組成物がカイラルネマチック相を発現することを特徴とする上記(1)に記載の液晶組成物。
(3)液晶化合物が下記式(I)で表される化合物であることを特徴とする上記(1)又は(2)に記載の液晶組成物。
MG1およびMG2は、それぞれ独立に、2以上8以下の環状基から構成される液晶相の発現を誘起する液晶コア部を表し、液晶コア部を構成する環状基としては、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。
R1、R2、R3、R4は、液晶コア部の分子長軸方向に置換している液晶相の発現を誘起する置換基、双極子作用基、又は水素結合性基を表す。
L1およびL2は、それぞれ独立に、液晶コア部MG1およびMG2に置換する下記式(I)−LA又は式(I)−LBで表される連結基を表す。
*はMG1又はMG2を構成する環状基に置換する位置を表す。
#はPと連結する位置を表す。
A1、A3、A4は、それぞれ独立に、―O−、−NH−、−S−、−CH2−、−CO−、−SO−、又は−SO2−を表す。
A2は−CH=又は−N=を表す。
L1およびL2が式(I)−LAで表される基で、他方が式(I)−LAで表されの場合、置換基Pは、−CH=CH−、−C≡C−、1,4−フェニレン、又はこれらの組み合わせ、からなる群より選ばれる二価の連結基、あるいは単結合を表す。
L1もしくはL2のどちらか一方が、式(I)−LBで表される基の場合、置換基Pは*=CH−P1−#又は*=N−P1−#を表す(*は式(I)−LBで表される基との連結位置を表し、#は式(I)−LAで表される基との連結位置を表す)。ここで、P1は、−CH=CH−、−C≡C−、1,4−フェニレン、又はこれらの組み合わせ、から選ばれる二価の連結基、あるいは単結合を表す。
L1およびL2が式(I)−LBで表される基の場合、置換基Pは、二重結合、=CH−P1−CH=、=N−P1−CH=、又は=N−P1−N=を表す。ここで、P1は上記P1と同義である。
R11、R12、R13、R14は、それぞれ独立に、下記式(III)で表される。
*−L11−Q (III)
式(III)中、
*は式(II)中のベンゼン環に結合する位置を表す。
L11は二価の連結基を表す。
Qは重合性基又は水素原子を表す。
(6)前記光学異方性層がカイラルネマチック相の液晶化合物から形成されており、該カイラルネマチック相のカイラル螺旋軸と透明支持体の平面方向がほぼ直交していることを特徴とする上記(5)に記載の位相差板。
(7)前記光学異方性層の選択反射波長帯域が紫外域にあることを特徴とする上記(5)又は(6)に記載の位相差板。
(8)選択反射波長帯域が50〜350nmであることを特徴とする上記(7)に記載の位相差板。
(9)前記光学的異方性層の膜厚が、0.1〜20μmであることを特徴とする上記(5)〜(8)のいずれか一項に記載の位相差板。
本発明における液晶組成物は、少なくとも1種のカイラル剤を含有する。
本発明に用いられるカイラル剤は、公知のカイラル剤(例えば、液晶デバイスハンドブック、第3章4−3項、TN、STN用カイラル剤、199頁、日本学術振興会第142委員会編、1989に記載)を用いることができる。
カイラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物又は面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が挙げられる。
また、カイラル剤は、液晶性を有していてもよく、更に下記式(1)を満足する液晶化合物がカイラル剤を兼ねていてもよい。
カイラル剤の使用量は、二軸性ネマチック相を発現する液晶化合物の量の0.001〜200モル%であることが好ましい。カイラル剤の使用量は、より少なくした方が液晶性に影響を及ぼさないことが多いため好まれる。従って、カイラル剤は、ねじり力の強い方が好ましい。このような捻れ力の強いカイラル剤としては、例えば、特開2003−287623公報に記載のカイラル剤を用いることが可能である。
本発明における液晶組成物は、波長λにおける固有複屈折Δn(λ)が下記式(1)を満足する液晶化合物を少なくとも1種含有する。
Δn(450nm)/Δn(550nm)<1.0 (1)
このような液晶性の低下を防ぐためには、William N.Thurmsらが報告(Liquid Crystals、25巻、149頁、1998年)している2つの棒状液晶を側方方向でつないだ骨格を用いることが可能である。この骨格は、2つの棒状液晶をエチニル基で連結するため、棒状液晶を構成するベンゼン環のπ共役系がエチニル基のπ結合と共役した形(トラン骨格)となるため、液晶性を損なわずに分子の幅方向の吸収波長を長波化することができる。しかし、このトラン骨格は、分子の長軸方向(光軸方向)に対して、約60°しか傾いていないため、換言すれば吸収の遷移方向が約60°しか傾いていないため、常光方向の吸収波長だけでなく、異常光方向の吸収波長も長波化するため、結果として波長分散性にはほとんど寄与しない。
環状基としては、芳香族環、脂肪族環、および複素環を挙げることができる。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が挙げられる。複素環の例には、ピリジン環、ピリミジン環、チオフェン環、1,3−ジオキサン環、1,3−ジチアン環が挙げられる。
複数の環状基を繋ぐ連結基としては、例えば、単結合、−CH2−CH2−、−CH2−O−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH=N−、−N=N−、−CO−O−、−CO−NH−、−CO−S−、−CH=CH−CO−O−を挙げることができる。
以下にMG1およびMG2の例を示す。**は、MG1ではR1又はR2に連結する位置を表し、MG2ではR3又はR4に連結する位置を表す。
*はMG1又はMG2を構成する環状基に置換する位置を表す。
#はPと連結する位置を表す。
A1、A3、A4は、それぞれ独立に、−O−、−NH−、−S−、−CH2−、−CO−、−SO−、又は−SO2−を表す。
A1、A3、A4が−NH−、−CH2−の場合、水素原子は他の置換基に置き換えられていても良い。そのような置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアシル基、シアノ基を挙げることができる。A1は、―O−、−NH−、−S−、−CH2−が好ましく、特に―O−、−CH2−が好ましい。A3、A4は―O−、−NH−、−S−、−CO−、−SO−、−SO2−が好ましく、―O−、−NH−、−S−、−CO−が特に好ましい。
A2は−CH=又は−N=を表す。A2が−CH=の場合、水素原子は他の置換基に置き換えられていても良い。そのような置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアシル基、シアノ基を挙げることができる。
*は式(II)中のベンゼン環に結合する位置を表す。
L11は二価の連結基を表す。
Qは重合性基又は水素原子を表す。
上記(M−1)〜(M−6)のなかでも、(M−1)又は(M−2)が好ましく、(M−1)が最も好ましい。
。アルキレン基の炭素数は1〜16であることが好ましく、2〜14であることがさらに好ましく、2〜12であることが最も好ましい。置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換基の例としては、アルキル基やハロゲン原子が挙げられる。
L−2:−二価の鎖状基−O−二価の環状基−CO−O−
L−3:−二価の鎖状基−O−二価の環状基−O−CO−
L−4:−二価の鎖状基−O−二価の環状基−CO−NR7−
L−5:−二価の鎖状基−O−二価の環状基−二価の鎖状基―
L−6:−二価の鎖状基−O−二価の環状基−二価の鎖状基―CO−O−
L−7:−二価の鎖状基−O−二価の環状基−二価の鎖状基―O−CO−
L−8:−二価の鎖状基−O−CO−二価の環状基−
L−9:−二価の鎖状基−O−CO−二価の環状基−CO−O−
L−10:−二価の鎖状基−O−CO−二価の環状基−O−CO−
L−12:−二価の鎖状基−O−CO−二価の環状基−二価の鎖状基―
L−13:−二価の鎖状基−O−CO−二価の環状基−二価の鎖状基―CO−O−
L−14:−二価の鎖状基−O−CO−二価の環状基−二価の鎖状基―O−CO−
L−15:−二価の鎖状基−CO−O−二価の環状基−
L−16:−二価の鎖状基−CO−O−二価の環状基−CO−O−
L−17:−二価の鎖状基−CO−O−二価の環状基−O−CO−
L−18:−二価の鎖状基−CO−O−二価の環状基−CO−NR7−
L−19:−二価の鎖状基−CO−O−二価の環状基−二価の鎖状基―
L−20:−二価の鎖状基−CO−O−二価の環状基−二価の鎖状基―CO−O−
L−22:−二価の鎖状基−O−CO−O−二価の環状基−
L−23:−二価の鎖状基−O−CO−O−二価の環状基−CO−O−
L−24:−二価の鎖状基−O−CO−O−二価の環状基−O−CO−
L−25:−二価の鎖状基−O−CO−O−二価の環状基−CO−NR7−
L−26:−二価の鎖状基−O−CO−O−二価の環状基−二価の鎖状基―
L−27:−二価の鎖状基−O−CO−O−二価の環状基−二価の鎖状基―CO−O−
L−28:−二価の鎖状基−O−CO−O−二価の環状基−二価の鎖状基―O−CO−
L−29:−二価の鎖状基−
L−30:−二価の鎖状基−O−
L−32:−二価の鎖状基−O−CO−
L−33:−二価の鎖状基−CO−NR7−
L−34:−二価の鎖状基−O−二価の鎖状基−
L−35:−二価の鎖状基−O−二価の鎖状基−O−
L−36:−二価の鎖状基−O−二価の鎖状基−CO−O−
L−37:−二価の鎖状基−O−二価の鎖状基−O−CO−
式(IV)中の二価の環状基は、1,4−フェニレン、1,4−シクロへキシレン、ピリジン−2,5−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイル、1,3−ジオキシレン−2,5−ジイルが好ましく、特に1,4−フェニレン、1,4−シクロへキシレン、1,3−ジオキシレン−2,5−ジイルが特に好ましい。
式(IV)中の二価の鎖状基は、炭素数1〜16の置換又は無置換のアルキレン基、炭素数2〜16の置換又は無置換のアルケニレン基、炭素数2〜16の置換又は無置換アルキニレン基が好ましく、特に、炭素数1〜12の置換又は無置換のアルキレン基が好ましい。鎖状基の置換基としては、炭素数1〜5のアルキル基もしくはハロゲン原子が好ましい。最も好ましくは、炭素数1〜12の無置換のアルキレン基である。
Δn(450nm)/Δn(550nm)<1.0 (1)
0.60<Δn(450nm)/Δn(550nm)<0.99 (1)−1
1.01<Δn(650nm)/Δn(550nm)<1.35 (1)−2
式中、Δn(450)、Δn(550)、Δn(650)は450nm、550nm、650nmにおける、Δnを表す。ただし、それぞれの測定波長は、±10nmの誤差を含む。
本発明の液晶化合物を光学異方性層に用いる場合には、均一な欠陥のない配向のために、良好なモノドメイン性を示すものが望ましい。モノドメイン性が悪い場合には、得られる構造がポリドメインとなり、ドメイン同士の境界に配向欠陥が生じ、光を散乱するようになる。これは、光学異方性層の透過率低下にもつながるので望ましくない。良好なモノドメイン性を示すために、本発明の液晶化合物は、ネマチック相(N相)、もしくはスメクチックA相(SA相)を発現することが好ましい。特にネマチック相を発現することが好ましい。
Δn(450nm)/Δn(550nm)>1.0 (1-a)
本発明の上記式(1)を満たす液晶化合物とΔnの波長分散が正常分散である液晶化合物と混合することで、その中間の波長分散性を有する液晶組成物を作り出すことが可能となる。具体的には、これまでの液晶化合物では、下記式(1-b)の実現が非常に困難な領域であった。ところが、本発明の上記式(1)を満たす液晶化合物とΔnの波長分散が正常分散である液晶化合物と混合すれば、容易に式(1-b)で表される領域の波長分散性を有する液晶組成物を作製できる。
1.0≦Δn(450nm)/Δn(550nm)<1.1 (1-b)
本発明の上記式(1)を満たす液晶化合物は液晶性を示すため、Δnの波長分散が正常分散である液晶化合物とは、いかなる混合比においても混合できる可能性が高い。従って、目標の波長分散性に応じて、その混合比率を変化させればよい。
液晶化合物は、化合物の種類により空気界面でのチルト角(傾斜角)が異なることが知られている。この空気界面のチルト角は、位相差板の光学的な目的に応じて任意に制御する必要がある。このチルト角の制御には、例えば、電場や磁場のような外場を用いることや添加剤を用いることができるが、添加剤を用いることが好ましい。このような添加剤としては、炭素原子数が6〜40の置換又は無置換脂肪族基、あるいは炭素原子数が6〜40の置換又は無置換脂肪族置換オリゴシロキサノキシ基を、分子内に1本以上有する化合物が好ましく、分子内に2本以上有する化合物が更に好ましい。
液晶化合物とともに使用して、液晶組成物の塗布時のハジキを防止するための材料としては、一般にポリマーを好適に用いることができる。使用するポリマーとしては、液晶化合物の傾斜角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。ポリマーの例としては、特開平8−95030号公報に記載があり、特に好ましい具体的ポリマー例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロースおよびセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。液晶の配向を阻害しないように、ハジキ防止目的で使用されるポリマーの添加量は、液晶化合物に対して一般に0.1〜10質量%の範囲にあることが好ましく、0.1〜8質量%の範囲にあることがより好ましく、0.1〜5質量%の範囲にあることがさらに好ましい。
本発明では、液晶化合物はモノドメイン配向、つまり実質的に均一に配向している状態で固定されていることが好ましく、そのため上記式(II)においてQに重合性基を有するなど、重合性の液晶化合物を用いている場合には、重合反応により液晶化合物を固定することが好ましい。
液晶組成物には、重合性のモノマーを添加してもよい。液晶化合物とともに使用する重合性モノマーとしては、液晶化合物と相溶性を有し、液晶化合物の傾斜角変化や配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。上記重合性モノマーの添加量は、液晶化合物に対して一般に0.5〜50質量%の範囲にあり、1〜30質量%の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が2以上のモノマーを用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。
液晶組成物の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド(例、N,N−ジメチルホルムアミド)、スルホキシド(例、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例、ピリジン)、炭化水素(例、トルエン、ヘキサン)、アルキルハライド(例、クロロホルム、ジクロロメタン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸ブチル)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エーテル(例、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン)が挙げられる。アルキルハライド、エステルおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
光学異方性層は、上記溶媒を用いて液晶組成物の塗布液を調製し配向膜上に塗布し、液晶化合物を配向処理することで形成する。塗布液の塗布は、公知の方法(例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法)により実施できる。
配向膜は、有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法(LB膜)による有機化合物(例、ω−トリコサン酸、ステアリル酸メチル)の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。配向膜上に設けられる光学異方性層の液晶化合物に所望の配向を付与できるのであれば、配向膜としてはどのような層でもよいが、本発明においては、ラビング処理又は光照射により形成される配向膜が好ましい。ポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができるが、特に本発明では液晶便覧(丸善(株)、2000年)に記載されている方法により行うことが好ましい。配向膜の厚さは、0.01〜10μmであることが好ましく、0.05〜3μmであることがさらに好ましい。
配向膜のラビング密度と配向膜界面での液晶化合物のチルト角との間には、ラビング密度を高くするとチルト角は小さくなり、ラビング密度を低くするとチルト角は大きくなる関係があるので、配向膜のラビング密度を変えることで、チルト角の調整をすることができる。配向膜のラビング密度を変える方法としては、液晶便覧(丸善(株)、2000年)に記載されている方法を用いることができる。すなわち、ラビング密度(L)は下記式(A)で定量化されている。
本発明の位相差板の透明支持体としては、主に光学的等方性で、光透過率が80%以上であれば、特に材料の制限はないが、ポリマーフイルムが好ましい。ポリマーの具体例として、セルロースエステル類(例、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート)、ノルボルネン系ポリマー、ポリ(メタ)アクリレートエステル類のフイルムなどを挙げることができ、多くの市販のポリマーを好適に用いることが可能である。このうち、光学性能の観点からセルロースエステル類が好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が6以下の脂肪酸で、炭素原子数は、2(セルロースアセテート)、3(セルロースプロピオネート)又は4(セルロースブチレート)であることが好ましい。セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開第00/26705号パンフレットに記載の分子を修飾することで該発現性を低下させたものを用いることもできる。
(1)透明支持体上に光学異方性層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも1回浸漬することで、該フイルムの裏面を鹸化処理する。
(2)透明支持体上に光学異方性層を形成する前又は後に、アルカリ液を透明支持体の光学異方性層を形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗および/又は中和することで、該透明支持体の裏面だけを鹸化処理する。
本発明の位相差板は、透明支持体上に、液晶化合物とカイラル剤とを含有する液晶組成物から形成される少なくとも一層の光学異方性層を有する。光学異方性層を形成する液晶化合物は、欠陥が少ない状態であることが好ましい。そのため、配向を規制する配向膜を設けた透明支持体上で液晶組成物を配向させることが好ましい。
本発明の位相差板の、選択反射波長帯域は、赤外領域、可視領域、紫外領域のいずれでもかまわない。例えば、本発明の位相差板をカラーフィルターような着色を積極的に利用する用途に用いる場合には、可視領域に選択反射波長帯域があることが好ましい。また、negative C-Plateの位相差板として用いる場合には、紫外領域に選択反射波長帯域があることが好ましい。
negative C-Plateの位相差板として用いる場合には、選択反射波長帯域の上限は、350nm以下であり、好ましくは300nm以下である。一方、選択反射波長帯域の下限は、50nm以上であり、好ましくは100nm以上である。
本発明の位相差板の利用により、視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。TNモードの液晶セル用位相差板(光学補償シート)は、特開平6−214116号公報、米国特許5583679号、同5646703号、ドイツ特許公報3911620A1号の各明細書に記載がある。また、IPSモード又はFLCモードの液晶セル用位相差板(光学補償シート)は、特開平10−54982号公報に記載がある。さらに、OCBモード又はHANモードの液晶セル用位相差板(光学補償シート)は、米国特許5805253号明細書および国際公開第96/37804号パンフレットに記載がある。さらにまた、STNモードの液晶セル用位相差板(光学補償シート)は、特開平9−26572号公報に記載がある。そして、VAモードの液晶セル用位相差板(光学補償シート)は、特許第2866372号公報に記載がある。
下記スキームに従い合成することができる。
6−ブロモ−2−ヒドロキシ−3−メトキシベンズアルデヒド 10.2gを40mlのジメチルホルムアミドに溶解後、ナトリウムメトキシド(28%メタノール溶液)50gとヨウ化銅0.8gを添加し、95℃で8時間攪拌した。冷却後、水を加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を減圧留去し、G−1Aの結晶7.4gを得た。
G−1A7.4gおよびジイソプロピルエチルアミン11mlにジクロロメタン100mlを加え、内温30℃以下で2−メトキシエトキシメチルクロライド(MEMCl)7.0mlを滴下した。室温で5時間攪拌後、水を加えジクロロメタンで抽出した。有機層を減圧濃縮後、カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、G−1B10.0gを得た。
ブロモメチルトリフェニルホスホニウムブロミド27.5gをテトラヒドロフラン100mlに懸濁後、t−BuOK10.5gを加え1時間攪拌した。テトラヒドロフラン30mlに溶解したG−1B8.5gを反応液に滴下後、さらに室温で2時間攪拌し、t−BuOKを13g追加した。50℃で1時間攪拌後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧濃縮後、カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、G−1C3.2gを得た。
G−1C2.6g、1,4−ジブロモベンゼン1.05g、トリフェニルホスフィン100mg、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド50mgおよびヨウ化銅(I)10mgをトリエチルアミン100mlに溶解させ、窒素雰囲気下で10時間還流した。冷却後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を減圧濃縮後、カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、G−1D2.8gを得た。
G−1D2.8gおよびピリジニウムパラトルエンスルホン酸(PPTS)0.6gをエタノール100mlに溶解させ、窒素雰囲気下で12時間還流した。冷却後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層を減圧留去し、G−1E1.9gを得た。
G−1E1.9gおよびt−BuOK1.5gをエタノール70mlに溶解させ、窒素雰囲気下で12時間還流した。冷却後、析出した結晶を濾取し、乾燥することでG−1F1.6gを得た。
G−1F1.6gをジクロロメタン100mlに溶解させ、三臭化ホウ素(1.0Mジクロロメタン溶液)100mlを添加し、10時間還流した。冷却後、反応液に水を加え、析出した結晶をろ過により濾取した。この結晶を乾燥することで、G−1G1.1gを得た。
G−1G0.1gと4−オクチルオキシ安息香酸クロリド0.43gをテトラヒドロフラン10mlに溶解させ、トリエチルアミン0.25ml、4−ジメチルアミノピリジン0.01gを添加した。室温で12時間撹拌後、反応液にメタノール100mlを加え、析出した結晶をろ過により濾取した。得られた結晶を更にカラムクロマトグラフィーを用いて精製し、G−1の結晶0.25gを得た。得られたG−1のNMRスペクトルは以下の通りである。
0.91(12H、t)
1.20−1.40(32H、m)
1.40−1.60(8H、m)
1.80−1.90(8H、m)
4.07(8H、t)
7.01(10H、m)
7.12(2H、d)
7.19(2H、d)
7.78(4H、s)
8.22(4H、d)
8.27(4H、d)
くさび型の液晶セル(NIPPO DENKI CO.,LTD.N−Wedge NLCD−057)にG−1を260℃で注入し、220℃における450nm、550nm、650nmのΔnを求めたところ、それぞれ、Δn(450nm)=0.055、Δn(550nm)=0.060、Δn(650nm)=0.063であった。即ちΔn(450nm)/Δn(550nm)=0.92、Δn(650nm)/Δn(550nm)=1.05であることがわかった。
下記スキームに従い合成することができる。
1.90−2.00(16H、m)
4.12−4.16(8H、m)
4.27−4.31(8H、m)
5.83(4H、dd)
6.13(4H、dd)
6.42(4H、dd)
6.98(2H、s)
7.01(4H、d)
7.03(4H、d)
7.14(2H、d)
7.20(2H、d)
7.78(4H、s)
8.24(4H、d)
8.26(4H、d)
(配向膜の形成)
G−2(50mg)と下記添加剤SH−1(0.2mg)をクロロホルム0.5mlに溶解させ、下記実施例1に記載の配向膜を設けたガラス板上にスピンコートした。このサンプルをホットステージ((株)北里サプライ(製)MP200DMSH)で190℃に加熱し、KOBRA−WR(王子計測機器(株))でレタデーションを求め、別途求めた膜厚よりΔnを求めたところ、それぞれ、Δn(450nm)=0.057、Δn(550nm)=0.063、Δn(650nm)=0.066であった。即ちΔn(450nm)/Δn(550nm)=0.91、Δn(650nm)/Δn(550nm)=1.05であることがわかった。
(液晶組成物の作製)
本発明の液晶化合物G−2(100mg)、重合開始剤(3mg)(イルガキュア907、日本チバガイギー(株)製)、増感剤(1mg)(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)および下記カイラル剤K−1(1mg)をクロロホルム0.5mlに溶解後、ガラス上に塗布し、加熱条件下でそのテクスチャーの観察を行った。その結果、本発明の液晶組成物は、カイラルネマチック相を発現することがわかった。
(配向膜の作製)
ポリイミド系液晶配向材(SE−150(日産化学工業(株))をγ−ブチロラクトンで希釈し、ガラス板上に塗布した。80℃で15分間乾燥後、250℃で60分間加熱し、冷却後ラビング処理を行い配向膜を形成した。得られた配向膜の膜厚は0.1μmであった。
本発明の液晶化合物G−2(100mg)、重合開始剤(3mg)(イルガキュア907、日本チバガイギー(株)製)、増感剤(1mg)(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)、上記カイラル剤K−1(10mg)および下記添加剤SH−1(0.4mg)をクロロホルム0.5mlに溶解させ、上記配向膜上に塗布した。200℃に加熱し、その後、窒素雰囲気下で400mJ/cm2の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。室温まで放冷して、位相差板を作製した。形成した光学異方性層の厚さは約2.0μmである。作製した位相差板のΔnはKOBRA(王子計測機器(株)製)を用いて、450nm、550nm、650nmの波長を使用して観察角度を変えてレタデーションを測定することでRthを求め、別途求めた膜厚(d)で割ることで求めた。
その結果、Δn(450nm)=0.061、Δn(550nm)=0.067、Δn(650nm)=0.070である。即ちΔn(450nm)/Δn(550nm)=0.91、Δn(650nm)/Δn(550nm)=1.04であった。
Claims (9)
- 少なくとも1種の、液晶化合物とカイラル剤とを含有する液晶組成物であって、該液晶化合物が、波長λにおける固有複屈折Δn(λ)が下記式(1)を満足することを特徴とする液晶組成物。
Δn(450nm)/Δn(550nm)<1.0 (1) - 液晶組成物がカイラルネマチック相を発現することを特徴とする請求項1に記載の液晶組成物。
- 液晶化合物が下記式(I)で表される化合物であることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶組成物。
式中、
MG1およびMG2は、それぞれ独立に、2以上8以下の環状基から構成される液晶相の発現を誘起する液晶コア部を表し、液晶コア部を構成する環状基としては、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。
R1、R2、R3、R4は、液晶コア部の分子長軸方向に置換している液晶相の発現を誘起する置換基、双極子作用基、又は水素結合性基を表す。
L1およびL2は、それぞれ独立に、液晶コア部MG1およびMG2に置換する下記式(I)−LA又は式(I)−LBで表される連結基を表す。
式中、*はMG1又はMG2を構成する環状基に置換する位置を表す。#はPと連結する位置を表す。
A1、A3、A4は、それぞれ独立に、―O−、−NH−、−S−、−CH2−、−CO−、−SO−、又は−SO2−を表す。A2は−CH=又は−N=を表す。L1およびL2が式(I)−LAで表される基の場合、置換基Pは、−CH=CH−、−C≡C−、1,4−フェニレン、又はこれらの組み合わせ、からなる群より選ばれる二価の連結基、あるいは単結合を表す。L1もしくはL2のどちらか一方が、式(I)−LBで表される基で、他方が式(I)−LAで表される基の場合、置換基Pは*=CH−P1−#又は*=N−P1−#を表す(*は式(I)−LBで表される基との連結位置を表し、#は式(I)−LAで表される基との連結位置を表す)。P1は、−CH=CH−、−C≡C−、1,4−フェニレン、又はこれらの組み合わせ、から選ばれる二価の連結基、あるいは単結合を表す。L1およびL2が式(I)−LBで表される基の場合、置換基Pは、二重結合、=CH−P1−CH=、=N−P1−CH=、又は=N−P1−N=を表す。ここで、P1は上記P1と同義である。 - 透明支持体の上に、少なくとも一層の光学異方性層を有する位相差板であって、該光学異方性層が請求項1〜4のいずれか一項に記載の液晶組成物から形成される層であることを特徴とする位相差板。
- 前記光学異方性層がカイラルネマチック相の液晶化合物から形成されており、該カイラルネマチック相のカイラル螺旋軸と透明支持体の平面方向がほぼ直交していることを特徴とする請求項5に記載の位相差板。
- 前記光学異方性層の選択反射波長帯域が紫外域にあることを特徴とする請求項5又は6に記載の位相差板。
- 選択反射波長帯域が50〜350nmであることを特徴とする請求項7に記載の位相差板。
- 前記光学的異方性層の膜厚が、0.1〜20μmであることを特徴とする請求項5〜8のいずれか一項に記載の位相差板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006174493A JP2007031709A (ja) | 2005-06-24 | 2006-06-23 | 液晶組成物及び位相差板 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005185270 | 2005-06-24 | ||
JP2006174493A JP2007031709A (ja) | 2005-06-24 | 2006-06-23 | 液晶組成物及び位相差板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007031709A true JP2007031709A (ja) | 2007-02-08 |
Family
ID=37791332
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006174493A Abandoned JP2007031709A (ja) | 2005-06-24 | 2006-06-23 | 液晶組成物及び位相差板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007031709A (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008233654A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Fujifilm Corp | 光学補償フィルム、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置 |
WO2008126421A1 (ja) * | 2007-04-11 | 2008-10-23 | Fujifilm Corporation | 光学異方性膜及び液晶表示装置 |
JP2009062508A (ja) * | 2007-08-14 | 2009-03-26 | Fujifilm Corp | 液晶組成物、及び光学異方性膜 |
JP2009102565A (ja) * | 2007-10-25 | 2009-05-14 | Fujifilm Corp | 組成物、フィルム、偏光板、及び液晶表示装置 |
KR20100105411A (ko) * | 2009-03-16 | 2010-09-29 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 화합물, 광학 필름 및 광학 필름의 제조 방법 |
JP2011207765A (ja) * | 2009-03-16 | 2011-10-20 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
JP2011246381A (ja) * | 2010-05-26 | 2011-12-08 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
JP2013097045A (ja) * | 2011-10-28 | 2013-05-20 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | 光学フィルム、及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置 |
WO2013146633A1 (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | 日本ゼオン株式会社 | 位相差フィルム積層体およびその製造方法、ならびに液晶表示装置 |
KR101798135B1 (ko) * | 2016-06-20 | 2017-11-16 | 패터니아 주식회사 | 시력 검사용 입체 영상 디스플레이 장치 및 시스템 |
JP2018154744A (ja) * | 2017-03-17 | 2018-10-04 | 三菱ケミカル株式会社 | 液晶組成物及び液晶素子 |
KR20190077028A (ko) * | 2016-11-29 | 2019-07-02 | 후지필름 가부시키가이샤 | 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판, 화상 표시 장치 및 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치 |
KR20220060727A (ko) * | 2020-11-05 | 2022-05-12 | 주식회사 클랩 | 위상차판 및 이를 구비하는 반사 방지 필름 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000281667A (ja) * | 1999-03-30 | 2000-10-10 | Sumitomo Chem Co Ltd | ベンゾチアゾール化合物、その中間体、その製造法、液晶組成物及び液晶素子 |
JP2003287623A (ja) * | 2002-01-23 | 2003-10-10 | Nitto Denko Corp | 光学フィルム、その製造方法、およびこれを用いた位相差フィルムならびに偏光板 |
JP2005289980A (ja) * | 2004-03-08 | 2005-10-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 液晶化合物、液晶組成物、重合体、位相差板、及び楕円偏光板 |
-
2006
- 2006-06-23 JP JP2006174493A patent/JP2007031709A/ja not_active Abandoned
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000281667A (ja) * | 1999-03-30 | 2000-10-10 | Sumitomo Chem Co Ltd | ベンゾチアゾール化合物、その中間体、その製造法、液晶組成物及び液晶素子 |
JP2003287623A (ja) * | 2002-01-23 | 2003-10-10 | Nitto Denko Corp | 光学フィルム、その製造方法、およびこれを用いた位相差フィルムならびに偏光板 |
JP2005289980A (ja) * | 2004-03-08 | 2005-10-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 液晶化合物、液晶組成物、重合体、位相差板、及び楕円偏光板 |
Cited By (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008233654A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Fujifilm Corp | 光学補償フィルム、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置 |
WO2008126421A1 (ja) * | 2007-04-11 | 2008-10-23 | Fujifilm Corporation | 光学異方性膜及び液晶表示装置 |
JP2008282009A (ja) * | 2007-04-11 | 2008-11-20 | Fujifilm Corp | 光学異方性膜及び液晶表示装置 |
US8259259B2 (en) | 2007-04-11 | 2012-09-04 | Fujifilm Corporation | Liquid crystal display device comprising an optically anisotropic film having at least one species of liquid crystal compound which exhibits a nematic phase or a smectic phase |
JP2009062508A (ja) * | 2007-08-14 | 2009-03-26 | Fujifilm Corp | 液晶組成物、及び光学異方性膜 |
JP2009102565A (ja) * | 2007-10-25 | 2009-05-14 | Fujifilm Corp | 組成物、フィルム、偏光板、及び液晶表示装置 |
US8658261B2 (en) | 2007-10-25 | 2014-02-25 | Fujifilm Corporation | Composition, film, polarizing plate, and liquid crystal display device |
KR20100105411A (ko) * | 2009-03-16 | 2010-09-29 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 화합물, 광학 필름 및 광학 필름의 제조 방법 |
JP2011207765A (ja) * | 2009-03-16 | 2011-10-20 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
KR101641385B1 (ko) * | 2009-03-16 | 2016-07-20 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 화합물, 광학 필름 및 광학 필름의 제조 방법 |
JP2011246381A (ja) * | 2010-05-26 | 2011-12-08 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
JP2013097045A (ja) * | 2011-10-28 | 2013-05-20 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | 光学フィルム、及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置 |
JPWO2013146633A1 (ja) * | 2012-03-30 | 2015-12-14 | 日本ゼオン株式会社 | 位相差フィルム積層体およびその製造方法、ならびに液晶表示装置 |
WO2013146633A1 (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | 日本ゼオン株式会社 | 位相差フィルム積層体およびその製造方法、ならびに液晶表示装置 |
JP2017138618A (ja) * | 2012-03-30 | 2017-08-10 | 日本ゼオン株式会社 | 位相差フィルム積層体およびその製造方法、ならびに液晶表示装置 |
KR101798135B1 (ko) * | 2016-06-20 | 2017-11-16 | 패터니아 주식회사 | 시력 검사용 입체 영상 디스플레이 장치 및 시스템 |
KR20190077028A (ko) * | 2016-11-29 | 2019-07-02 | 후지필름 가부시키가이샤 | 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판, 화상 표시 장치 및 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치 |
CN110023800A (zh) * | 2016-11-29 | 2019-07-16 | 富士胶片株式会社 | 聚合性液晶组合物、光学各向异性膜、光学膜、偏振片、图像显示装置及有机电致发光显示装置 |
JPWO2018101207A1 (ja) * | 2016-11-29 | 2019-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板、画像表示装置および有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
KR102213582B1 (ko) * | 2016-11-29 | 2021-02-05 | 후지필름 가부시키가이샤 | 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판, 화상 표시 장치 및 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치 |
CN110023800B (zh) * | 2016-11-29 | 2021-06-15 | 富士胶片株式会社 | 聚合性液晶组合物、光学各向异性膜、光学膜、偏振片、图像显示装置及有机电致发光显示装置 |
US11279880B2 (en) | 2016-11-29 | 2022-03-22 | Fujifilm Corporation | Polymerizable liquid crystal composition, optically anisotropic film, optical film, polarizing plate, image display device, and organic electroluminescent display device |
JP2018154744A (ja) * | 2017-03-17 | 2018-10-04 | 三菱ケミカル株式会社 | 液晶組成物及び液晶素子 |
KR20220060727A (ko) * | 2020-11-05 | 2022-05-12 | 주식회사 클랩 | 위상차판 및 이를 구비하는 반사 방지 필름 |
KR102571413B1 (ko) | 2020-11-05 | 2023-08-29 | 주식회사 클랩 | 위상차판 및 이를 구비하는 반사 방지 필름 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4606195B2 (ja) | 液晶化合物、液晶組成物、重合体、位相差板、及び楕円偏光板 | |
JP2007031709A (ja) | 液晶組成物及び位相差板 | |
TWI461412B (zh) | 光學薄膜、相位差板、橢圓偏光板、液晶顯示裝置以及化合物 | |
JP5209181B2 (ja) | 化合物、組成物、位相差板、楕円偏光板および液晶表示装置 | |
JP4613079B2 (ja) | 液晶組成物、位相差板および楕円偏光板 | |
JP4794563B2 (ja) | 位相差板、楕円偏光板および液晶表示装置 | |
JP2007272185A (ja) | 組成物、位相差板、液晶表示装置、平均チルト角調整剤、平均チルト角の調整方法 | |
JP4686317B2 (ja) | 液晶性組成物、位相差板、および楕円偏光板 | |
JP4264307B2 (ja) | 液晶性化合物、液晶性組成物および位相差板 | |
WO2005090519A1 (en) | Optically anisotropic material, liquid crystal display device and triphenylene compound | |
US20090212255A1 (en) | Liquid Crystal Composition and Retardation Plate | |
JP4431454B2 (ja) | 液晶性化合物、液晶性組成物および位相差板 | |
JP2005122155A (ja) | 位相差板、楕円偏光板および液晶表示装置 | |
JP2005122156A (ja) | 位相差板および画像表示装置 | |
JP4491366B2 (ja) | 位相差板 | |
JP2006124666A (ja) | 液晶性組成物 | |
JP2010077096A (ja) | 化合物、液晶性組成物、膜、及び位相差板 | |
JP4628158B2 (ja) | 化合物、液晶組成物、薄膜、位相差板および光学補償シート | |
US7314654B2 (en) | Optically anisotropic element comprising discotic compound | |
JP2005316234A (ja) | 位相差板 | |
JP2006265283A (ja) | 液晶組成物、位相差板、及び楕円偏光板 | |
JP4460474B2 (ja) | 位相差板および光学素子 | |
JP2006316013A (ja) | 液晶性化合物、液晶性組成物およびそれを用いた光学薄膜 | |
JP2007071974A (ja) | 液晶性組成物および位相差板 | |
JP2007140068A (ja) | 位相差板、位相差板の製造方法、液晶表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20061127 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071109 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071116 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071126 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090210 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20111216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120321 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20120323 |
|
A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20120521 |