JP2006526670A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2006526670A5
JP2006526670A5 JP2006505501A JP2006505501A JP2006526670A5 JP 2006526670 A5 JP2006526670 A5 JP 2006526670A5 JP 2006505501 A JP2006505501 A JP 2006505501A JP 2006505501 A JP2006505501 A JP 2006505501A JP 2006526670 A5 JP2006526670 A5 JP 2006526670A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alkyl
group
indices
polymer
represent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006505501A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006526670A (ja
JP4758336B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/EP2004/050386 external-priority patent/WO2004090030A1/en
Publication of JP2006526670A publication Critical patent/JP2006526670A/ja
Publication of JP2006526670A5 publication Critical patent/JP2006526670A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4758336B2 publication Critical patent/JP4758336B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

特に好ましい実施態様において、R2がより高い極性のエステル基を表すポリマーブロックIは、アクリラート又はメタクリラート反復単位から構成される。エステル基は、アミノ、アンモニオ、C 1 〜C 4 アルキルアミノ、例えば、メチル−若しくはエチル−アミノ、ジ−C 1 〜C 4 アルキルアミノ、例えば、ジメチル−若しくはジエチルアミノ、トリ−C 1 〜C 4 アルキルアンモニオ、例えば、トリメチル−若しくはトリエチルアンモニオ、又はジ−C 1 〜C 4 アルキル−2−ヒドロキシエチルアンモニオ、例えば、ジメチル−2−ヒドロキシアンモニオで置換されているC2〜C4アルキルである。
代替的実施態様によると、Yは、官能基を含有する置換基を表し、それは、酸塩基反応、酸付加又は四級化反応により、基Zに存在する塩形成基と塩を形成する。そのような塩「架橋」を形成する適切な置換基Yは、アンモニオ、C 1 〜C 4 アルキルアンモニオ、例えば、メチル−若しくはエチルアンモニオ、ジ−C 1 〜C 4 アルキルアンモニオ、例えば、ジメチル−若しくはジエチルアンモニオ、トリ−C 1 〜C 4 アルキルアンモニオ、例えば、トリメチル−若しくはトリエチルアンモニオ、又はジ−C 1 〜C 4 アルキル−2−ヒドロキシエチルアンモニオ、例えば、ジメチル−2−ヒドロキシエチルアンモニオで置換されているC2〜C8アルキルである。この場合、酸性基、例えば、カルボキシ、スルホ又はホスホノは、そのカルボキシレート、スルホネート又はホスホネートアニオンの解離形態で基Zに存在する。
そのような塩「架橋」を形成する適切な置換基Y1又はY2は、アンモニオ、C 1 〜C 4 アルキルアンモニオ、例えば、メチル−若しくはエチルアンモニオ、ジ−C 1 〜C 4 アルキルアンモニオ、例えば、ジメチル−若しくはジエチルアンモニオ、トリ−C 1 〜C 4 アルキルアンモニオ、例えば、トリメチル−若しくはトリエチルアンモニオ、又はジ−C 1 〜C 4 アルキル−2−ヒドロキシエチルアンモニオ、例えば、ジメチル−2−ヒドロキシエチルアンモニオで置換されているC2〜C8アルキルである。この場合、酸性基、例えば、カルボキシ、スルホ又はホスホノは、そのカルボキシレート、スルホネート又はホスホネートアニオンの解離形態で基Y2又はY1の他方に存在し、Y2又はY1の一方は、カルボキシレート、スルホネート又はホスホネート基で置換されているC1〜C8アルキルを表す。
本発明の特に好ましい実施態様によると、Yは、直接結合又は二価基、例えば、C1〜C8アルキレン、ヒドロキシで置換されているC3〜C6アルキレン、例は、2−ヒドロキシ−1,3−プロピレン、アンモニオ若しくはジ−C 1 〜C 4 アルキルアンモニオ、例は、ジメチル−若しくはジエチルアンモニオで置換されているC2〜C8アルキルを表す(但しこれは、酸性基、例えば、カルボキシ、スルホ又はホスホノが、そのカルボキシレート、スルホネート又はホスホネートアニオンの解離形態で基Zに存在する場合である)か、あるいはYは、部分式:−Y1−Y2−を表し、式中、Y1及びY2の一方は、アンモニオ又はジ−C 1 〜C 4 アルキルアンモニオ、例えば、ジメチル−若しくはジエチルアンモニオで置換されているC2〜C8アルキルを表し、他方は、カルボキシ、スルホ又はホスホノで置換されているC1〜C8アルキルを表す。
架橋基Yは、上記部分式におけるフェニル部分に直接結合するか、あるいはまた、酸塩基反応、酸付加又は第四級化反応により、基Zに存在する塩形成基と塩を形成する。そのような塩「架橋」を形成する適切な置換基Yは、アンモニオ又はジ−C 1 〜C 4 アルキルアンモニオ、例えば、ジメチル−若しくはジエチルアンモニオで置換されているC2〜C8アルキルである。酸性基、例えば、カルボキシ、スルホ又はホスホノは、そのカルボキシレート、スルホネート又はホスホネートアニオンの解離形態で基Zに存在する。これは、下記の部分式で説明される。
本発明の極めて好ましい実施態様は、
A及びBが、ポリマー鎖末端基を表し;
1、R1′及びR1″が、互いに独立して、水素又はメチルを表し;
2が、アミノ、アンモニオ、C 1 〜C 4 アルキルアミノ、例えば、メチル−若しくはエチル−アミノ、ジ−C 1 〜C 4 アルキルアミノ、例えば、ジメチル−若しくはジエチルアミノ、トリ−C 1 〜C 4 アルキルアンモニオ、例えば、トリメチル−若しくはトリエチルアンモニオ、又はジ−C 1 〜C 4 アルキル−2−ヒドロキシエチルアンモニオ、例えば、ジメチル−2−ヒドロキシアンモニオで置換されているC2〜C4アルキルからなる群より選択されるエステル基を表し;
3が、C1〜C8アルキルを表し;
Yが、直接結合又は二価基を表し;
Zが、光保護特性を有する作用物質の機能有効基を表し;
指数p及びxが、0を表し;
指数q及びrが、1を表し;
指数y及びzが、1を超える数字を表し;そして
数字II及びIIIが、上記と同義である
重合体(I)に関する。

Claims (15)

  1. 下記式:
    Figure 2006526670

    〔式中、
    A及びBは、ポリマー鎖末端基を表し;
    1、R1′及びR1″は、互いに独立して、水素又はC1〜C4アルキルを表し;
    2は、水素又はより高い極性のエステル基を表し;
    3は、より低い極性のエステル基を表し;
    Yは、直接結合又は二価基を表し;
    Zは、光保護特性を有する作用物質の機能有効基を表し;
    数字I、II、IIIは、任意の順序での個別のポリマーブロックを表し;
    指数p、q及びrは、重合体におけるポリマーブロックI、II及びIIIの数を表し、ここで、指数p及びqのうちの一方は、互いに独立して、0、1、又は1を超える数字を表し、他方は1又は1を超える数字を表し、rは1又は1を超える数字を表し;そして
    指数x、y及びzは、個別のポリマーブロックI、II及びIIIに存在するモノマー単位の数を規定する〕
    で示される重合体。
  2. 下記式:
    Figure 2006526670

    〔式中、
    1は、重合開始剤のフラグメントを表し;
    *は、重合性のエチレン性不飽和末端基を表し;そして
    1、R1′、R1″、R2、R3、Y、Z、数字I、II及びIII、並びに指数p、q、r、x、y及びzは、請求項1と同義である〕
    で示される、請求項1に記載の重合体。
  3. 下記式:
    Figure 2006526670

    〔式中、
    1は、重合開始剤のフラグメントを表し;
    1、R1′、R1″、R2、R3、Y、Z、数字I、II及びIII、並びに指数p、q、r、x、y及びzは、請求項1と同義であり;そして
    2は、下記の部分式:
    Figure 2006526670

    (式中、
    2は、ポリマー鎖末端基を表し;
    1、R1′、R1″、R2、R3、Y及びZは、請求項1と同義であり;
    数字I、II及びIIIは、任意の順序での個別のポリマーブロックを表し;
    指数p、q及びrは、重合体におけるポリマーブロックI、II及びIIIの数を表し、ここで、
    指数p、q及びrのうちの1つは、互いに独立して、1又は1を超える数字を表し;
    他は、0、1又は1を超える数字を表し;そして
    指数x、y及びzは、個別のポリマーブロックI、II及びIIIに存在するモノマー単位の数を規定する)で示されるポリマー基を表す〕
    で示される、請求項1に記載のクシ型ポリマー。
  4. A及びBが、ポリマー鎖末端基を表し;
    1、R1′及びR1″が、互いに独立して、水素又はメチルを表し;
    2が、モノ−又はジヒドロキシ−C2〜C4アルキル、アミノ−C2〜C18アルキル、アンモニオ−C2〜C18アルキル、C1〜C4アルキルアミノ−C2〜C18アルキル、ジ−C1〜C4アルキルアミノ−C2〜C18アルキル、トリ−C1〜C4アルキルアンモニオ−C2〜C18アルキル、ヒドロキシ−C2〜C4アルキルアミノ−C2〜C18アルキル、C1〜C4アルキル−(ヒドロキシ−C2〜C4アルキル)アミノ−C2〜C18アルキル、ジ−C1〜C4アルキル−(ヒドロキシ−C2〜C4アルキル)アンモニオ−C2〜C18アルキル、及びC1〜C4アルキル(カルボキシ、スルホ又はホスホノで置換されている)からなる群より選択されるエステル基を表し;
    3が、C1〜C8アルキル、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、n−ブチル又は2−エチルヘキシルを表し;
    Yが、直接結合又は二価基を表し;
    Zが、光保護特性を有する作用物質の機能有効基を表し;
    指数p及びxが、0を表し;そして
    数字II及びIII、並びに指数q、r、y及びzが、請求項1と同義である
    請求項1に記載の重合体(I)。
  5. A及びBが、ポリマー鎖末端基を表し;
    1、R1′及びR1″が、互いに独立して、水素又はメチルを表し;
    2が、アミノ、アンモニオ、C1〜C4アルキルアミノ、ジ−C1〜C4アルキルアミノ、トリ−C1〜C4アルキルアンモニオ又はジ−C1〜C4アルキル−2−ヒドロキシエチルアンモニオで置換されているC2〜C4アルキルからなる群より選択されるエステル基を表し;
    3が、C1〜C8アルキルを表し;
    Yが、直接結合又は二価基を表し;
    Zが、光保護特性を有する作用物質の機能有効基を表し;
    指数p及びxが、0を表し;
    指数q及びrが、1を表し;
    指数y及びzが、1を超える数字を表し;そして
    数字II及びIIIが、請求項1と同義である、
    請求項1に記載の重合体(I)。
  6. 光保護特性を有する作用物質の機能有効基Zが、UV光吸収剤、ラジカルスカベンジャー、一重項酸素クエンチ剤、三重項クエンチ剤、光安定剤及びスーパーオキシドアニオンクエンチ剤からなる群より選択される光保護剤に由来する構造部分である、請求項1に記載の重合体(I)。
  7. UV光吸収剤部分Zが、2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン(HPT)類、2−(2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール(HBZ)類、2−ヒドロキシベンゾフェノン(HBP)類及びオキサニリド(OA)類からなる群より選択されるUV吸収剤に由来する置換基である、請求項1に記載の重合体(I)。
  8. 下記式:
    Figure 2006526670

    〔式中、
    Xは、カルボキシ、スルホ又はホスホノを表し;そして
    a、Rb、Rc及びRdは、互いに独立して、水素、ハロゲン、C1〜C4アルキル又はC1〜C4アルコキシを表す〕
    で示される化合物。
  9. 下記式:
    Figure 2006526670

    〔式中、
    Xは、−C(=O)−NH−、−CH2−O−、−O−、−NH−及び−N(C1〜C4アルキル)−からなる群より選択される二価官能基を表し;そして、
    Yは、C1〜C4アルキル、ヒドロキシ−C2〜C4アルキル、アミノ−C2〜C4アルキル、アクリロイル又はメタクリロイルを表す〕
    で示される化合物。
  10. 下記:
    a)光、熱又は酸化により誘導される劣化を受けやすい物質の組成物;及び
    b)A、B、R1、R1′、R1″、R2、R3、Y、Z、数字I、II及びIII、並びに指数p、q、r、x、y及びzが、請求項1と同義である重合体(I)
    を含有する組成物。
  11. 下記:
    a′)0.1〜99.9重量%の分散性の有機又は無機顔料粒子;及び
    b′)0.1〜99.9重量%の重合体(I)(A、B、R1、R1′、R 1 ″、R2、R3、Y、Z、数字I、II及びIII、並びに指数p、q、r、x、y及びzが、請求項1と同義である)
    を含む顔料組成物。
  12. 界面活性剤、光安定剤、UV吸収剤、消泡剤、分散安定剤、染料、可塑剤、チキソトロピー剤、乾燥触媒、皮張り防止剤及び均染剤からなる群より選択される添加剤をさらに含有する、請求項11記載の組成物。
  13. 下記:
    a″)分散した有機又は無機顔料粒子;及び
    b″)A、B、R1、R1′、R1″、R2、R3、Y、Z、数字I、II及びIII、並びに指数p、q、r、x、y及びzが、請求項1と同義である重合体(I)を少なくとも1種含有する分散剤;並びに
    水、有機溶媒及びそれらの混合物を包含するキャリア液体
    を含む顔料分散体。
  14. インキ組成物又はカラーフィルタを製造するための、請求項13に記載の顔料分散体の使用。
  15. 被覆組成物、プリント、画像、インキ、ラッカー、着色プラスチック、接着剤、注型用樹脂、充填複合材料、ガラス繊維補強複合材料、積層物、プラスターのようなセメント製建築材料及びタイル用接着剤を製造するための、請求項13に記載の顔料分散体の使用。
JP2006505501A 2003-04-08 2004-03-29 顔料分散体における光安定化ポリマー分散剤 Expired - Fee Related JP4758336B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP03405235.7 2003-04-08
EP03405235 2003-04-08
PCT/EP2004/050386 WO2004090030A1 (en) 2003-04-08 2004-03-29 Light stabilising polymer dispersants in pigment dispersions

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2006526670A JP2006526670A (ja) 2006-11-24
JP2006526670A5 true JP2006526670A5 (ja) 2011-05-26
JP4758336B2 JP4758336B2 (ja) 2011-08-24

Family

ID=33155284

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006505501A Expired - Fee Related JP4758336B2 (ja) 2003-04-08 2004-03-29 顔料分散体における光安定化ポリマー分散剤

Country Status (10)

Country Link
US (1) US20060229407A1 (ja)
EP (1) EP1611197B1 (ja)
JP (1) JP4758336B2 (ja)
KR (1) KR20050123148A (ja)
CN (1) CN1802409A (ja)
AT (1) ATE550309T1 (ja)
AU (1) AU2004228365A1 (ja)
CA (1) CA2520066A1 (ja)
MX (1) MXPA05010668A (ja)
WO (1) WO2004090030A1 (ja)

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006167674A (ja) * 2004-12-20 2006-06-29 Toyo Ink Mfg Co Ltd 顔料分散剤
JP2006335826A (ja) * 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
JP5204371B2 (ja) * 2005-06-06 2013-06-05 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
US7998717B2 (en) * 2005-12-02 2011-08-16 Pacific Biosciences Of California, Inc. Mitigation of photodamage in analytical reactions
WO2008006723A1 (en) * 2006-07-11 2008-01-17 Ciba Holding Inc. Color filter composition
US8822025B2 (en) * 2007-02-05 2014-09-02 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating system exhibiting cool dark color
US9056988B2 (en) 2007-02-05 2015-06-16 Ppg Industries Ohio, Inc. Solar reflective coatings and coating systems
US8129466B2 (en) 2007-02-05 2012-03-06 Ppg Industries Ohio, Inc Pigment dispersant
CN101743261B (zh) * 2007-07-13 2013-04-03 昭和电工株式会社 含有三嗪环的高分子化合物和使用该高分子化合物的有机发光元件
KR101721267B1 (ko) * 2008-05-30 2017-03-29 도소 가부시키가이샤 하이드록시알킬트리에틸렌디아민류의 제조 방법, 및 그것을 사용한 폴리우레탄 수지 제조용의 촉매 조성물
JP5417798B2 (ja) * 2008-10-29 2014-02-19 東ソー株式会社 ヒドロキシメチルトリエチレンジアミン類の製造方法
JP5640332B2 (ja) * 2008-05-30 2014-12-17 東ソー株式会社 ヒドロキシ(アルキル)トリエチレンジアミン類の製造方法
JP5640337B2 (ja) * 2008-07-16 2014-12-17 東ソー株式会社 ヒドロキシアルキルトリエチレンジアミン類の製造方法
DE102008042523B4 (de) * 2008-10-01 2015-10-15 Leibniz-Institut Für Polymerforschung Dresden E.V. Triblockcopolymere, ihre Herstellung und Verwendung
JP5540599B2 (ja) * 2008-10-31 2014-07-02 Jsr株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタ及びカラー液晶表示素子
JP2011037819A (ja) * 2008-11-21 2011-02-24 Tosoh Corp ヒドロキシアルキルトリエチレンジアミン類の製造方法
JP2010235741A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Fujifilm Corp 水不溶性色材分散体
JP5585087B2 (ja) * 2010-01-15 2014-09-10 東ソー株式会社 ヒドロキシアルキルトリエチレンジアミン類の製造方法
ITTO20100069A1 (it) * 2010-02-01 2011-08-02 Candis Srl Prodotto verniciante in base acquosa e procedimento per la decorazione di una superficie tramite tale prodotto verniciante
CN102822285B (zh) * 2010-03-24 2016-04-27 大日精化工业株式会社 树脂处理颜料、该颜料的制造方法以及颜料分散体
JP5605029B2 (ja) * 2010-07-06 2014-10-15 住友化学株式会社 化合物、樹脂及びレジスト組成物
US8834847B2 (en) 2010-08-12 2014-09-16 Pacific Biosciences Of California, Inc. Photodamage mitigation compounds and systems
EP2616041B1 (en) 2010-09-14 2018-08-22 Basf Se Use of specific bis(biphenyl)triazine derivatives and mixtures thereof as uv absorbers
US8679617B2 (en) 2010-11-02 2014-03-25 Prc Desoto International, Inc. Solar reflective coatings systems
JP6177524B2 (ja) * 2011-05-30 2017-08-09 三菱ケミカル株式会社 成形材料及び成形体
WO2012165521A1 (ja) * 2011-05-31 2012-12-06 三菱レイヨン株式会社 硬化用組成物および重合体
US9057835B2 (en) 2011-06-06 2015-06-16 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating compositions that transmit infrared radiation and exhibit color stability and related coating systems
CN102492309B (zh) * 2011-11-11 2013-06-19 大连理工大学 悬挂型光热转换有机相变染料
CN103194123A (zh) * 2012-01-06 2013-07-10 任天斌 一种水性纳米色浆及其制备方法
CN103897441B (zh) * 2012-12-28 2015-08-19 南通市晗泰化工有限公司 一种溶剂型嵌段高分子分散剂
JP6340868B2 (ja) * 2013-04-08 2018-06-13 東洋インキScホールディングス株式会社 顔料組成物及びカラーフィルタ
KR101583909B1 (ko) 2014-03-03 2016-01-08 한국교통대학교산학협력단 유기 공중합체, 그 유기 공중합체의 제조방법, 그 유기 공중합체가 코팅된 코팅필름, 그 코팅필름의 제조방법
WO2017163776A1 (ja) * 2016-03-24 2017-09-28 コニカミノルタ株式会社 インクジェットインクおよび画像形成方法
CA3039666C (en) * 2016-10-28 2022-08-23 Ppg Industries Ohio, Inc. Coatings for increasing near-infrared detection distances
WO2019109037A1 (en) 2017-11-30 2019-06-06 Moore John R Systems for applying coating compositions utilizing a high transfer efficiency applicator, coating layers and corresponding methods
KR20210087991A (ko) 2018-11-13 2021-07-13 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드 은닉 패턴을 검출하는 방법
US11561329B2 (en) 2019-01-07 2023-01-24 Ppg Industries Ohio, Inc. Near infrared control coating, articles formed therefrom, and methods of making the same
JP6725047B1 (ja) * 2019-08-21 2020-07-15 東洋インキScホールディングス株式会社 紫外線吸収性ポリマー、成形用組成物、および成形体
JP7472607B2 (ja) * 2020-04-01 2024-04-23 Dic株式会社 液晶組成物及び液晶表示素子
GB2623090A (en) 2022-10-04 2024-04-10 Sublino Ltd Method of colouring

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4656226A (en) * 1985-09-30 1987-04-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Acrylic pigment dispersants made by group transfer polymerization
US5198498A (en) * 1990-02-06 1993-03-30 Ciba-Geigy Corporation Light-stabilized binders for coating compositions
JP3404160B2 (ja) * 1995-01-06 2003-05-06 旭電化工業株式会社 メタクリル系ラッカー組成物
FR2756563B1 (fr) * 1996-12-04 1998-12-24 Synthelabo Derives de benzoate de 1,4-diazabicyclo[2.2.2]oct-2-yl- methyle, leur preparation et leur application en therapeutique
JPH10279859A (ja) * 1997-04-07 1998-10-20 Seiko Epson Corp 耐光性に優れた画像を実現するインク組成物
CN1333790A (zh) * 1998-12-31 2002-01-30 西巴特殊化学品控股有限公司 含atrp聚合物的颜料组合物
US6316564B1 (en) * 1999-10-07 2001-11-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Acrylic block copolymer pigment dispersants containing heterocyclic groups
JP2002031713A (ja) * 2000-02-01 2002-01-31 Mitsubishi Chemicals Corp カラーフィルター用組成物及びカラーフィルター
US6849679B2 (en) * 2001-05-21 2005-02-01 Ciba Specialty Chemicals Corporation Pigment compositions with modified block copolymer dispersants
JP2003039813A (ja) * 2001-07-27 2003-02-13 Asahi Glass Co Ltd 耐候性の優れたインクジェット記録用媒体
TW200407363A (en) * 2001-11-29 2004-05-16 Ciba Sc Holding Ag Pigment compositions with modified ATRP copolymer dispersants

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006526670A5 (ja)
KR101044088B1 (ko) 자가 연마 방오 페인트
JP5258428B2 (ja) 水性インク組成物、インクジェット記録用水性インク組成物およびインクジェット記録方法
JP4541702B2 (ja) 変性されたatrpコポリマー分散剤を有する顔料組成物
KR101076622B1 (ko) 광경화되고 안정화된 피복물
ES2438577T3 (es) Polímero con grupos salinos y composición de recubrimiento anti-incrustante que comprende dicho polímero
US20070106008A1 (en) Aqueos coating composition
JP2006515833A5 (ja)
JPH0391573A (ja) 光安定化インク組成物
BRPI0507364B1 (pt) composiççao de revestimento antiincrustante e uso de uma composição de revestimento antiincrustante
JP2002521705A5 (ja)
JPH0391574A (ja) 光安定化したインク組成物
RU2003130968A (ru) Композиция для необрастающих покрытий, включающая фторированный алкил- или алкоксисодержащий полимер или олигомер
JP6025381B2 (ja) 顔料分散体及び該顔料分散体を用いたインク組成物、カラーフィルター用黄色レジスト組成物
JP2015086396A5 (ja)
RU2006124517A (ru) Композиции покрытий, содержащие выравнивающие агенты, полученные полимеризацией, опосредуемой нитроксилом
JP2008310000A5 (ja)
CN1263524A (zh) 芳香马来酰亚胺和其使用方法
JP2012212054A5 (ja)
CA1339806C (en) Liquid photoinitiator mixtures
JPH07138500A (ja) 硬化性コーティングの製造方法
JP2006249183A (ja) 水性樹脂分散体
TW561151B (en) Thioimidazolidine derivatives
JP2009509018A5 (ja)
JPH04103668A (ja) 硬化性樹脂組成物