JP2006306674A - ナノインプリントスタンパー用シリカ・チタニアガラス - Google Patents
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Abstract
ナノインプリント用スタンパー、特に紫外線を用いたナノインプリント用の大型スタンパーで問題となる、温度変化に対する形状の安定性と好適な紫外線透過率とを両立させた素材、即ち、線膨張係数が±200ppb/℃以下と極めて小さく、かつ紫外線透過率の良好な超低膨張ガラスを提供する。
【解決手段】
2質量%以上15質量%以下のチタニアを含有するシリカ・チタニアガラスであって、20℃から35℃の温度範囲における線膨張係数が±200ppb/℃の範囲にあるナノインプリントスタンパー用シリカ・チタニアガラスとした。
【選択図】 図1
Description
これは、ステンシル、テンプレートあるいはスタンパーと呼ばれる微細なパターンを刻印した型を、紫外線硬化型レジストを塗布したウエハー表面に一定の押圧で押し付け、上部から例えば水銀灯のG線やI線などの紫外線を照射してレジストを感光させてパターン形成を行う手法である。
このため、スタンパー素材としてはポリカーボネート等の樹脂、ガラス、セラミクスが用いられるが(例えば、特許文献1及び2等参照。)、光硬化型レジストを用いる光ナノインプリント技術では紫外線に対して透明なガラス、好適にはシリカガラスが用いられる。
また、波長185nmの低圧水銀灯を出力25mW/cmで5cmの距離で100時間照射した際の365nmの波長における内部透過率の変化ΔT%が5%以下であることが好適である。
本発明のシリカ・チタニアガラスが、使用方向に脈理が存在しないことが好ましい。
本発明のシリカ・チタニアガラスは、2質量%以上15質量%以下のチタニアを含有するシリカガラスであり、チタニアとSiO2の組成からなるものが好ましい。チタニア濃度は、好ましくは4重量%以上、さらに好ましくは6質量%以上、好ましくは13質量%以下、さらに好ましくは8質量%以下である。
また、波長185nmの低圧水銀灯を出力25mW/cmで、試料との距離を5cm離して100時間照射した際の365nmの波長における内部透過率の変化ΔT%を5%以下にすることができる。
四塩化珪素及び四塩化チタンを酸水素バーナーによって得られる酸水素火炎中に導入し垂直に保持され回転している直径30mm、長さ1mのシリカガラス製基体上に堆積して直径300mm、長さ1000mm、重量25kg弱のシリカ・チタニアガラス多孔質体を得た。シリカ・チタニアガラスを成長する際の四塩化珪素と四塩化チタンの流量割合を調整して、得られるシリカ・チタニアガラスの組成をシリカ分93.2質量%、チタニア分6.8質量%に調整した。
得られたシリカ・チタニアガラス多孔質体をヘリウムガス雰囲気のゾーン加熱電気炉内をゆっくりと移動させつつ、1500℃に加熱して透明な直径100mm、長さ1350mmのシリカ・チタニアガラスインゴットを得た(VAD法によるシリカ・チタニアガラスインゴットの作製工程)。
前記得られたシリカ・チタニアガラスインゴットの両端をそれぞれ75mmずつカットし、更に外周を深さで5mm外周研削して、外径90mm、長さ1200mmのシリカ・チタニアガラスインゴットを作製した。このシリカ・チタニアガラスインゴットを半分(長さ600mm)に切り、内底面の形状が一辺の長さが180mmの正方形で、深さ600mmのグラファイト型内に端部を下に設置し、グラファイト容器ごと真空炉内に設置して1600℃まで5時間かけて昇温し、昇温と同時に通電を停止しそのまま炉冷した。
更に得られたシリカ・チタニアガラス角材を大気雰囲気下で1150℃で100時間保持後300℃まで1時間辺り1℃の割合で徐冷して歪を除去した(徐歪処理工程)。
また、得られたシリカ・チタニアガラス基板の紫外線透過率測定を行った。厚さ6.25mmにおける見かけ透過率スペクトルを図1に示す。図1から求めた波長365nmにおける内部透過率は99.9%であった。
火炎中に導入する四塩化珪素と四塩化チタンの濃度を変化させてシリカ97.9質量%、チタニア2.1質量%のシリカ・チタニアガラスインゴットを作成した以外は実施例1と同様の方法を用い、同様に一辺の長さが152mm、厚さ6.25mmの超精密に研磨されたシリカ・チタニアガラス基板を作製した。
また、得られたシリカ・チタニアガラス基板の152mm角の面についてシュリーレン装置を用いて脈理測定を行ったが脈理は認められなかった。得られたシリカ・チタニアガラス基板の紫外線透過率を測定したところ、365nmの内部透過率は99.9%であった。さらに、実施例1と同様に紫外線照射による透過率変化を調べた結果、5%以下であった。
火炎中に導入する四塩化珪素と四塩化チタンの濃度を変化させてシリカ89.8質量%、チタニア10.2質量%のシリカ・チタニアガラスインゴットを作成した以外は実施例1と同様の方法を用い、同様に一辺の長さが152mm、厚さ6.25mmの超精密に研磨されたシリカ・チタニアガラス基板を作製した。
また、得られたシリカ・チタニアガラス基板の152mm角の面についてシュリーレン装置を用いて脈理測定を行ったが脈理は認められなかった。得られたシリカ・チタニアガラス基板の紫外線透過率を測定したところ、365nmの内部透過率は99.9%であった。さらに、実施例1と同様に紫外線照射による透過率変化を調べた結果、5%以下であった。
原料を四塩化珪素のみとした以外は実施例1と同様のVADによるスート法を用いてシリカガラスインゴットを作製した。更に実施例1と同様に一辺の長さが152mm、厚さ6.25mmの超精密に研磨されたシリカガラス基板を作製した。
得られたシリカガラス基板の152mm角の面についてシュリーレン装置を用いて脈理測定を行ったが脈理は認められなかった。得られたシリカガラス基板の紫外線透過率を測定したところ、365nmの内部透過率は99.9%であった。実施例1と同様に線膨張係数を調べた。結果を表1に示す。同様に紫外線照射による透過率変化を調べた結果、5%以下であった。
Claims (5)
- 2質量%以上15質量%以下のチタニアを含有するシリカ・チタニアガラスであって、20℃から35℃の温度範囲における線膨張係数が±200ppb/℃の範囲にあることを特徴とするナノインプリントスタンパー用シリカ・チタニアガラス。
- 波長365nmの紫外線に対する内部透過率が90%以上であることを特徴とする特許項1記載のナノインプリントスタンパー用シリカ・チタニアガラス。
- 波長185nmの低圧水銀灯を出力25mW/cmで5cmの距離で100時間照射した際の365nmの波長における内部透過率の変化ΔT%が5%以下であることを特徴とする請求項1又は2記載のナノインプリントスタンパー用シリカ・チタニアガラス。
- 使用方向に脈理が存在しないことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載のナノインプリントスタンパー用シリカ・チタニアガラス。
- ナノインプリント技術が紫外線硬化方式であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載のナノインプリントスタンパー用シリカ・チタニアガラス。
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