JP2006188424A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2006188424A5
JP2006188424A5 JP2005378650A JP2005378650A JP2006188424A5 JP 2006188424 A5 JP2006188424 A5 JP 2006188424A5 JP 2005378650 A JP2005378650 A JP 2005378650A JP 2005378650 A JP2005378650 A JP 2005378650A JP 2006188424 A5 JP2006188424 A5 JP 2006188424A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
less
preform
glass material
silica glass
synthetic silica
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005378650A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006188424A (ja
JP5403853B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US11/148,504 external-priority patent/US7506521B2/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2006188424A publication Critical patent/JP2006188424A/ja
Publication of JP2006188424A5 publication Critical patent/JP2006188424A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5403853B2 publication Critical patent/JP5403853B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (17)

  1. ０．１から１３００質量ｐｐｍのＯＨ濃度を有する合成ガラス材料であって、その軸の少なくとも１つに対して垂直な方向のＯＨ濃度のばらつきが２０質量ｐｐｍ未満である合成ガラス材料を製造する方法において、
    (i) 高純度シリカスート粒子を提供し、
    (ii) 前記スート粒子から、０．２から１．６ｇ／ｃｍ 3 の嵩密度を持つ多孔質プリフォームを形成し、
    (iii) 必要に応じて、前記多孔質プリフォームを浄化し、
    (iv) Ｈ2ＯおよびＯ2に対して不活性な固結雰囲気に露出される内面を有する炉内において、Ｈ2Ｏおよび／またはＯ2の存在下で、前記プリフォームを緻密なシリカに固結する、
    各工程を有してなる方法。
  2. 工程(ii)において、前記多孔質プリフォームが、０．２ｍｍより長い距離に亘り、いずれか大きい方の、該多孔質プリフォームの全体の嵩密度の１０％未満、または０．１ｇ／ｃｍ3未満の、固結されるべきガラスの意図する光軸に対して垂直な面で測定された局部スート密度のばらつきを有することを特徴とする請求項１記載の方法。
  3. 工程(iv)において、前記プリフォームに、１１５０〜１４５０℃で、０．４℃／分未満の温度上昇速度を施すことを特徴とする請求項１記載の方法。
  4. 工程(iv)において、前記プリフォームに、１１５０〜１４５０℃で、０．２℃／分未満の温度上昇速度を施すことを特徴とする請求項１記載の方法。
  5. 工程(iv)において、前記プリフォームを、ヘリウムおよび／またはＨｅ／Ｈ2Ｏおよび／またはＨｅ／Ｈ2Ｏ／Ｏ2を有してなる雰囲気中で固結することを特徴とする請求項１記載の方法。
  6. 工程(iv)において、前記プリフォームを、Ｈ2Ｏを有してなる雰囲気中で固結することを特徴とする請求項１記載の方法。
  7. 工程(iv)において、前記プリフォームを、Ｏ2／Ｈ2Ｏに対して実質的に不活性な環境中で固結することを特徴とする請求項１記載の方法。
  8. 工程(i)において、前記スートを、塩素を含まないケイ素前駆体材料を用いて提供することを特徴とする請求項１記載の方法。
  9. 工程(iii)において、前記スートプリフォームを、塩素を実質的に含まない雰囲気の存在下で浄化することを特徴とする請求項１記載の方法。
  10. ０．１から１３００質量ｐｐｍのＯＨ濃度を有する合成シリカガラス材料であって、少なくとも１つの軸に対して垂直な方向におけるＯＨ濃度のばらつきが、２０質量ｐｐｍ未満であり、１９３ｎｍでの内部透過率が、少なくとも９９．６５％／ｃｍである合成シリカガラス材料。
  11. １×１０15から５×１０18分子／ｃｍ3のＨ2をさらに含むことを特徴とする請求項１０記載の合成シリカガラス材料。
  12. ５０質量ｐｐｍ未満のＣｌをさらに含むことを特徴とする請求項１０記載の合成シリカガラス材料。
  13. ＯＨ濃度が０．１〜１００質量ｐｐｍであることを特徴とする請求項１記載の合成シリカガラス材料。
  14. １０ｐｐｂ未満のアルカリ、アルカリ土類、または遷移金属元素を含むことを特徴とする請求項１０記載の合成シリカガラス材料。
  15. ８００〜１２００℃の仮想温度を有し、仮想温度のばらつきが５０℃未満であることを特徴とする請求項１０記載の合成シリカガラス材料。
  16. 屈折率のばらつきが５ｐｐｍ未満であることを特徴とする請求項１６記載の合成シリカガラス材料。
  17. ７．５×１０16分子／ｃｍ3未満の量でＯ2を含むことを特徴とする請求項１０記載の合成シリカガラス材料。
JP2005378650A 2004-12-29 2005-12-28 高透過率合成シリカガラスおよびその製造方法 Active JP5403853B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US64072604P 2004-12-29 2004-12-29
US60/640,726 2004-12-29
US11/148,504 US7506521B2 (en) 2004-12-29 2005-06-08 High transmission synthetic silica glass and method of making same
US11/148,504 2005-06-08

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2006188424A JP2006188424A (ja) 2006-07-20
JP2006188424A5 true JP2006188424A5 (ja) 2009-02-19
JP5403853B2 JP5403853B2 (ja) 2014-01-29

Family

ID=36609829

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005378650A Active JP5403853B2 (ja) 2004-12-29 2005-12-28 高透過率合成シリカガラスおよびその製造方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7506521B2 (ja)
JP (1) JP5403853B2 (ja)
DE (1) DE102005062916B4 (ja)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008063181A (ja) * 2006-09-07 2008-03-21 Shin Etsu Chem Co Ltd エキシマレーザー用合成石英ガラス基板及びその製造方法
JP5719590B2 (ja) * 2007-05-09 2015-05-20 コーニング インコーポレイテッド Ｏｈ、ｏｄレベルの低いガラス
US8268740B2 (en) * 2008-02-07 2012-09-18 Corning Incorporated Halide free glasses having low OH, OD concentrations
US8153241B2 (en) * 2009-02-26 2012-04-10 Corning Incorporated Wide-angle highly reflective mirrors at 193NM
DE102009030234A1 (de) * 2009-06-23 2010-12-30 J-Plasma Gmbh Verfahren zur Herstellung von Glas insbesondere Glaspreform und Smoker zu dessen Herstellung
US9249028B2 (en) 2010-02-08 2016-02-02 Momentive Performance Materials Inc. Method for making high purity metal oxide particles and materials made thereof
US8197782B2 (en) 2010-02-08 2012-06-12 Momentive Performance Materials Method for making high purity metal oxide particles and materials made thereof
DE102011078885A1 (de) * 2011-07-08 2013-01-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen der Absorption in einem Rohling
DE102011119341A1 (de) 2011-11-25 2013-05-29 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas nach der Sootmethode
DE102011119373A1 (de) 2011-11-25 2013-05-29 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas
DE102011119339A1 (de) 2011-11-25 2013-05-29 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Zerstäubungsverfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas
DE102011119374A1 (de) 2011-11-25 2013-05-29 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas
DE102012100147A1 (de) * 2012-01-10 2012-12-13 Schott Solar Ag Verfahren zur Herstellung von mono-, quasimono- oder multikristallinen Metall- oder Halbmetallkörpern
JP5935765B2 (ja) * 2012-07-10 2016-06-15 信越化学工業株式会社 ナノインプリントモールド用合成石英ガラス、その製造方法、及びナノインプリント用モールド
CN102898034B (zh) * 2012-09-28 2015-02-18 东海晶澳太阳能科技有限公司 一种晶体硅铸锭用坩埚氮化硅涂层的制作方法
JP6241276B2 (ja) * 2013-01-22 2017-12-06 信越化学工業株式会社 Ｅｕｖリソグラフィ用部材の製造方法
DE102013101328B3 (de) * 2013-02-11 2014-02-13 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Rohling aus TiO2-SiO2-Glas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie sowie Verfahren für dessen Herstellung
US9382151B2 (en) 2014-01-31 2016-07-05 Corning Incorporated Low expansion silica-titania articles with a Tzc gradient by compositional variation
EP2977359B1 (de) * 2014-07-21 2016-10-19 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Verfahren zur herstellung von mit fluor dotiertem quarzglas
EP3390308A1 (de) 2015-12-18 2018-10-24 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Glasfasern und vorformen aus quarzglas mit geringem oh-, cl- und al-gehalt
US10730780B2 (en) 2015-12-18 2020-08-04 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of a quartz glass body in a multi-chamber oven
TWI720090B (zh) 2015-12-18 2021-03-01 德商何瑞斯廓格拉斯公司 於石英玻璃之製備中作為中間物之經碳摻雜二氧化矽顆粒的製備
CN109153593A (zh) 2015-12-18 2019-01-04 贺利氏石英玻璃有限两合公司 合成石英玻璃粉粒的制备
WO2017103115A2 (de) 2015-12-18 2017-06-22 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Herstellung eines quarzglaskörpers in einem schmelztiegel aus refraktärmetall
US11952303B2 (en) 2015-12-18 2024-04-09 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Increase in silicon content in the preparation of quartz glass
TWI813534B (zh) 2015-12-18 2023-09-01 德商何瑞斯廓格拉斯公司 利用露點監測在熔融烘箱中製備石英玻璃體
JP6981710B2 (ja) 2015-12-18 2021-12-17 ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー 二酸化ケイ素造粒体からの石英ガラス体の調製
KR20180095624A (ko) 2015-12-18 2018-08-27 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 ＆ 컴파니 케이지 불투명 실리카 유리 제품의 제조
CN108698883A (zh) 2015-12-18 2018-10-23 贺利氏石英玻璃有限两合公司 石英玻璃制备中的二氧化硅的喷雾造粒
WO2020180466A1 (en) 2019-03-05 2020-09-10 Corning Incorporated System and methods for processing an optical fiber preform
CN115494685A (zh) * 2022-10-08 2022-12-20 南京河瀚星广能源技术有限公司 一种化工反应视觉监测装置

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2510641B2 (ja) 1987-03-11 1996-06-26 新日本製鐵株式会社 抗張力の高い無方向性電磁鋼板の製造方法
US5096352A (en) * 1987-03-31 1992-03-17 Lemelson Jerome H Diamond coated fasteners
JPH0791084B2 (ja) * 1988-09-14 1995-10-04 信越化学工業株式会社 耐紫外線用合成石英ガラスおよびその製造方法
ATE116448T1 (de) 1989-06-09 1995-01-15 Heraeus Quarzglas Optische teile und rohlinge aus synthetischem siliziumdioxidglas und verfahren zu ihrer herstellung.
US5325230A (en) * 1989-06-09 1994-06-28 Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. Optical members and blanks of synthetic silica glass and method for their production
JPH03109228A (ja) * 1989-09-25 1991-05-09 Sumitomo Electric Ind Ltd 高純度石英母材製造用加熱炉
JPH03247522A (ja) * 1990-02-21 1991-11-05 Sumitomo Metal Ind Ltd 合成石英ガラスの製造方法
US5211732A (en) * 1990-09-20 1993-05-18 Corning Incorporated Method for forming a porous glass preform
US5410428A (en) * 1990-10-30 1995-04-25 Shin-Etsu Quartz Products Co. Ltd. Optical member made of high-purity and transparent synthetic silica glass and method for production thereof or blank thereof
JPH06234545A (ja) * 1993-02-10 1994-08-23 Sumitomo Metal Ind Ltd 光透過用合成石英ガラス
JP3194667B2 (ja) 1994-03-26 2001-07-30 信越石英株式会社 光学用合成石英ガラス成形体及びその製造方法
US5616159A (en) * 1995-04-14 1997-04-01 Corning Incorporated Method of forming high purity fused silica having high resistance to optical damage
JP3274955B2 (ja) * 1995-08-18 2002-04-15 住友金属工業株式会社 紫外領域用途の光学部品用合成石英ガラス母材の製造方法、及び合成石英ガラス材の製造方法
JP3403317B2 (ja) * 1997-05-20 2003-05-06 信越石英株式会社 高出力真空紫外線用合成シリカガラス光学材料およびその製造方法
DE69816758T2 (de) * 1997-05-20 2004-06-03 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Synthetisches quarzglas zur verwendung in uv-strahlung und verfahren zu seiner herstellung
JP2000007349A (ja) * 1998-06-18 2000-01-11 Asahi Glass Co Ltd 合成石英ガラス光学部材およびその製造方法
JP3893816B2 (ja) * 1998-10-28 2007-03-14 旭硝子株式会社 合成石英ガラスおよびその製造方法
JP4011217B2 (ja) 1998-12-25 2007-11-21 信越石英株式会社 エキシマレーザー用光学石英ガラスの製造方法
JP4531904B2 (ja) * 1999-01-21 2010-08-25 東ソー株式会社 紫外線用光学材料およびその製造方法
US6319634B1 (en) * 1999-03-12 2001-11-20 Corning Incorporated Projection lithography photomasks and methods of making
JP4493060B2 (ja) * 1999-03-17 2010-06-30 信越石英株式会社 エキシマレーザー用光学石英ガラスの製造方法
JP3069562B1 (ja) * 1999-10-19 2000-07-24 信越石英株式会社 エキシマレ―ザ及びエキシマランプ用のシリカガラス光学材料及びその製造方法
JP3228732B2 (ja) * 1999-11-24 2001-11-12 信越石英株式会社 真空紫外線リソグラフィーに用いられる投影レンズ用シリカガラス光学材料の製造方法
JP4420306B2 (ja) * 2000-09-12 2010-02-24 株式会社オハラ 紫外線用光学石英ガラスとその製造方法
US6606883B2 (en) * 2001-04-27 2003-08-19 Corning Incorporated Method for producing fused silica and doped fused silica glass
WO2003027033A1 (en) * 2001-09-27 2003-04-03 Corning Incorporated Improved methods and furnaces for fused silica production
DE10159961C2 (de) * 2001-12-06 2003-12-24 Heraeus Quarzglas Quarzglasrohling für ein optisches Bauteil sowie Verfahren zur Herstellung und Verwendung desselben
JP4114039B2 (ja) * 2001-12-11 2008-07-09 信越石英株式会社 合成石英ガラス部材
JP4323319B2 (ja) * 2001-12-21 2009-09-02 コーニング インコーポレイテッド アルミニウムを含有する溶融シリカ
JP3923850B2 (ja) 2002-05-24 2007-06-06 大日本印刷株式会社 電子文書作成システム
JP4170719B2 (ja) * 2002-09-30 2008-10-22 信越石英株式会社 光学用合成石英ガラス部材の製造方法及び光学用合成石英ガラス部材
JP4177078B2 (ja) * 2002-10-25 2008-11-05 信越石英株式会社 光学部材用合成石英ガラス材料
US7506522B2 (en) * 2004-12-29 2009-03-24 Corning Incorporated High refractive index homogeneity fused silica glass and method of making same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006188424A5 (ja)
JP2008525309A5 (ja)
JP5403853B2 (ja) 高透過率合成シリカガラスおよびその製造方法
JPH03131544A (ja) 光ファイバ用ガラス母材の加熱炉および製法
JP5796492B2 (ja) 深紫外線用光学部材およびその製造方法
KR20080065703A (ko) 중수산기-도핑된 실리카 유리, 광학 부재 및 이를 포함하는리소그래피 시스템, 및 이의 제조방법
KR20060133568A (ko) 합성 석영 글래스로 제조되는 포토마스크 기판 및포토마스크
JP2004203736A (ja) 高純度溶融シリカの製造方法
JPS60260434A (ja) 光伝送用無水ガラス素材の製造方法
JP2008037743A (ja) 超低膨張ガラスおよびその製造方法
JPH051223B2 (ja)
JP3228676B2 (ja) 遠紫外線用高純度シリカガラス及びその製造方法
JP2001048571A (ja) 短波長光の透過性に優れた石英ガラスとその製造方法
JP5995923B2 (ja) 光ファイバ母材および光ファイバの製造方法
JPH0280343A (ja) 耐紫外線用合成石英ガラスおよびその製造方法
US9593034B2 (en) Method for producing iron-doped silica glass
JP5630268B2 (ja) ＴｉＯ２を含有するシリカガラスからなる光学部材
JP5406439B2 (ja) 耐化学性シリカガラス及び耐化学性シリカガラスの製造方法
JP2006103988A (ja) ＴｉＯ２を含有するシリカガラスの製造方法
JP2004509829A (ja) 多孔質ガラスプリフォームを乾燥するためのプロセス
JP2016028992A (ja) チタニア含有シリカガラスおよび光インプリントモールド
JPH03109223A (ja) 石英ガラスおよびその製造方法
JPS6081038A (ja) ＴｉＯ↓２含有ガラス光フアイバの製造方法
JP2011225438A (ja) 合成石英ガラスの製造方法
JP2009046328A (ja) 光触媒用シリカガラス及び光触媒用シリカガラスの製造方法