|
JP4509050B2
(ja)
|
2006-03-10 |
2010-07-21 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランク及びフォトマスク
|
|
JP4883278B2
(ja)
*
|
2006-03-10 |
2012-02-22 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法
|
|
JP4919259B2
(ja)
*
|
2006-03-30 |
2012-04-18 |
Hoya株式会社 |
マスクブランク及びフォトマスク
|
|
JP4807739B2
(ja)
*
|
2006-03-30 |
2011-11-02 |
Hoya株式会社 |
マスクブランク及びフォトマスク
|
|
US7771913B2
(en)
*
|
2006-04-04 |
2010-08-10 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. |
Resist composition and patterning process using the same
|
|
JP4737426B2
(ja)
*
|
2006-04-21 |
2011-08-03 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランク
|
|
JP4842696B2
(ja)
*
|
2006-04-28 |
2011-12-21 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランクの製造方法およびフォトマスクブランク
|
|
JP5294227B2
(ja)
*
|
2006-09-15 |
2013-09-18 |
Hoya株式会社 |
マスクブランク及び転写マスクの製造方法
|
|
US20080241745A1
(en)
|
2007-03-29 |
2008-10-02 |
Fujifilm Corporation |
Negative resist composition and pattern forming method using the same
|
|
JP4958821B2
(ja)
*
|
2007-03-29 |
2012-06-20 |
富士フイルム株式会社 |
ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
|
|
KR20100009558A
(ko)
*
|
2007-04-27 |
2010-01-27 |
호야 가부시키가이샤 |
포토마스크 블랭크 및 포토마스크
|
|
JP4466881B2
(ja)
|
2007-06-06 |
2010-05-26 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランク、レジストパターンの形成方法、及びフォトマスクの製造方法
|
|
JP5242110B2
(ja)
*
|
2007-09-30 |
2013-07-24 |
Hoya株式会社 |
フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法
|
|
JP4845978B2
(ja)
*
|
2008-02-27 |
2011-12-28 |
Hoya株式会社 |
フォトマスクブランクおよびフォトマスク並びにフォトマスクの製造方法
|
|
US20090226823A1
(en)
*
|
2008-03-06 |
2009-09-10 |
Micron Technology, Inc. |
Reticles including assistant structures, methods of forming such reticles, and methods of utilizing such reticles
|
|
JP5562834B2
(ja)
|
2008-03-31 |
2014-07-30 |
Hoya株式会社 |
フォトマスクブランク、フォトマスクおよびフォトマスクブランクの製造方法
|
|
TW201001061A
(en)
*
|
2008-03-31 |
2010-01-01 |
Hoya Corp |
Photo mask blank, photo mask and manufacturing method for photo mask blank
|
|
JP5530075B2
(ja)
|
2008-03-31 |
2014-06-25 |
Hoya株式会社 |
フォトマスクブランク、フォトマスク及びこれらの製造方法
|
|
JP5702920B2
(ja)
*
|
2008-06-25 |
2015-04-15 |
Hoya株式会社 |
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクおよび位相シフトマスクブランクの製造方法
|
|
JP4849276B2
(ja)
*
|
2008-08-15 |
2012-01-11 |
信越化学工業株式会社 |
グレートーンマスクブランク、グレートーンマスク、及び製品加工標識又は製品情報標識の形成方法
|
|
WO2010038444A1
(ja)
*
|
2008-09-30 |
2010-04-08 |
Hoya株式会社 |
フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法
|
|
WO2010050447A1
(ja)
*
|
2008-10-29 |
2010-05-06 |
Hoya株式会社 |
フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法
|
|
JP5281362B2
(ja)
*
|
2008-10-31 |
2013-09-04 |
Hoya株式会社 |
フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法
|
|
JP4826842B2
(ja)
*
|
2009-01-15 |
2011-11-30 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクの製造方法及びフォトマスクブランク
|
|
JP4826843B2
(ja)
*
|
2009-01-15 |
2011-11-30 |
信越化学工業株式会社 |
ドライエッチング方法
|
|
CA2787249C
(en)
|
2009-01-29 |
2017-09-12 |
Digiflex Ltd. |
Process for producing a photomask on a photopolymeric surface
|
|
US8663876B2
(en)
*
|
2009-02-13 |
2014-03-04 |
Hoya Corporation |
Photomask blank, method of manufacturing the same, photomask, and method of manufacturing the same
|
|
WO2010113474A1
(ja)
*
|
2009-03-31 |
2010-10-07 |
Hoya株式会社 |
マスクブランクおよび転写用マスク
|
|
JP5317310B2
(ja)
*
|
2009-03-31 |
2013-10-16 |
Hoya株式会社 |
マスクブランク及び転写用マスクの製造方法
|
|
JP5201361B2
(ja)
|
2009-05-15 |
2013-06-05 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランクの加工方法
|
|
JP5257256B2
(ja)
*
|
2009-06-11 |
2013-08-07 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクの製造方法
|
|
JP4739461B2
(ja)
|
2009-10-12 |
2011-08-03 |
Hoya株式会社 |
転写用マスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法
|
|
US8435704B2
(en)
*
|
2010-03-30 |
2013-05-07 |
Hoya Corporation |
Mask blank, transfer mask, and methods of manufacturing the same
|
|
WO2011125337A1
(ja)
*
|
2010-04-09 |
2011-10-13 |
Hoya株式会社 |
位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスク
|
|
CN102236247A
(zh)
*
|
2010-05-06 |
2011-11-09 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
光掩膜的制作方法
|
|
JP4697495B2
(ja)
*
|
2010-05-28 |
2011-06-08 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法
|
|
JP5682493B2
(ja)
|
2010-08-04 |
2015-03-11 |
信越化学工業株式会社 |
バイナリーフォトマスクブランク及びバイナリーフォトマスクの製造方法
|
|
JP5644293B2
(ja)
|
2010-09-10 |
2014-12-24 |
信越化学工業株式会社 |
遷移金属ケイ素系材料膜の設計方法
|
|
JP5154626B2
(ja)
|
2010-09-30 |
2013-02-27 |
Hoya株式会社 |
マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法
|
|
SG189495A1
(en)
|
2010-11-22 |
2013-05-31 |
Shinetsu Chemical Co |
Photomask blank, process for production of photomask, and chromium-containing material film
|
|
JP5653888B2
(ja)
|
2010-12-17 |
2015-01-14 |
Hoya株式会社 |
マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法
|
|
JP5920965B2
(ja)
|
2011-05-20 |
2016-05-24 |
Hoya株式会社 |
マスクブランクの製造方法、転写用マスク用の製造方法、および半導体デバイスの製造方法
|
|
JP5997530B2
(ja)
|
2011-09-07 |
2016-09-28 |
Hoya株式会社 |
マスクブランク、転写用マスク、および半導体デバイスの製造方法
|
|
JP4930737B2
(ja)
*
|
2011-09-21 |
2012-05-16 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランク及びバイナリーマスクの製造方法
|
|
JP4930736B2
(ja)
*
|
2011-09-21 |
2012-05-16 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクの製造方法及びフォトマスク
|
|
JP6084391B2
(ja)
|
2011-09-28 |
2017-02-22 |
Hoya株式会社 |
マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法
|
|
JP6125772B2
(ja)
|
2011-09-28 |
2017-05-10 |
Hoya株式会社 |
反射型マスクブランク、反射型マスクおよび反射型マスクの製造方法
|
|
WO2013058385A1
(ja)
*
|
2011-10-21 |
2013-04-25 |
大日本印刷株式会社 |
大型位相シフトマスクおよび大型位相シフトマスクの製造方法
|
|
JP5229838B2
(ja)
*
|
2011-11-09 |
2013-07-03 |
Hoya株式会社 |
マスクブランク及びフォトマスク
|
|
JP5879951B2
(ja)
*
|
2011-11-21 |
2016-03-08 |
信越化学工業株式会社 |
光パターン照射方法、ハーフトーン位相シフトマスク及びハーフトーン位相シフトマスクブランク
|
|
JP5896402B2
(ja)
|
2011-12-09 |
2016-03-30 |
Hoya株式会社 |
マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法
|
|
US8703365B2
(en)
|
2012-03-06 |
2014-04-22 |
Apple Inc. |
UV mask with anti-reflection coating and UV absorption material
|
|
JP5916447B2
(ja)
*
|
2012-03-14 |
2016-05-11 |
Hoya株式会社 |
マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法
|
|
JP5739375B2
(ja)
|
2012-05-16 |
2015-06-24 |
信越化学工業株式会社 |
ハーフトーン位相シフトマスクブランク及びハーフトーン位相シフトマスクの製造方法
|
|
JP5795991B2
(ja)
|
2012-05-16 |
2015-10-14 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、および位相シフトマスクの製造方法
|
|
JP5795992B2
(ja)
|
2012-05-16 |
2015-10-14 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法
|
|
US8823003B2
(en)
|
2012-08-10 |
2014-09-02 |
Apple Inc. |
Gate insulator loss free etch-stop oxide thin film transistor
|
|
US9601557B2
(en)
|
2012-11-16 |
2017-03-21 |
Apple Inc. |
Flexible display
|
|
KR102205778B1
(ko)
|
2012-11-20 |
2021-01-21 |
호야 가부시키가이샤 |
마스크 블랭크, 전사용 마스크, 마스크 블랭크의 제조방법, 전사용 마스크의 제조방법 및 반도체 디바이스의 제조방법
|
|
JP6394496B2
(ja)
|
2014-07-15 |
2018-09-26 |
信越化学工業株式会社 |
バイナリフォトマスクブランク、その製造方法、及びバイナリフォトマスクの製造方法
|
|
JP6675156B2
(ja)
*
|
2014-07-30 |
2020-04-01 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランクの設計方法
|
|
US9600112B2
(en)
|
2014-10-10 |
2017-03-21 |
Apple Inc. |
Signal trace patterns for flexible substrates
|
|
JP6319059B2
(ja)
|
2014-11-25 |
2018-05-09 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランク、レジストパターンの形成方法、及びフォトマスクの製造方法
|
|
JP6451469B2
(ja)
|
2015-04-07 |
2019-01-16 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランク、レジストパターン形成方法、及びフォトマスクの製造方法
|
|
JP5962811B2
(ja)
*
|
2015-04-22 |
2016-08-03 |
信越化学工業株式会社 |
光パターン照射方法
|
|
JP6341166B2
(ja)
*
|
2015-09-03 |
2018-06-13 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランク
|
|
JP6451561B2
(ja)
*
|
2015-09-03 |
2019-01-16 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランク
|
|
JP6398927B2
(ja)
*
|
2015-09-18 |
2018-10-03 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランク、その製造方法及びフォトマスク
|
|
JP2016095533A
(ja)
*
|
2016-01-25 |
2016-05-26 |
信越化学工業株式会社 |
光パターン照射方法
|
|
KR102313892B1
(ko)
*
|
2016-03-29 |
2021-10-15 |
호야 가부시키가이샤 |
마스크 블랭크, 마스크 블랭크의 제조 방법, 전사용 마스크의 제조 방법 및 반도체 디바이스의 제조 방법
|
|
US10168612B2
(en)
|
2016-12-12 |
2019-01-01 |
Globalfoundries Inc. |
Photomask blank including a thin chromium hardmask
|
|
KR102708773B1
(ko)
|
2016-12-26 |
2024-09-23 |
엘지디스플레이 주식회사 |
플렉서블 표시장치
|
|
CN109960105B
(zh)
*
|
2017-12-26 |
2024-06-18 |
Hoya株式会社 |
光掩模坯料及光掩模的制造方法、显示装置的制造方法
|
|
KR102495225B1
(ko)
*
|
2021-12-15 |
2023-02-06 |
에스케이엔펄스 주식회사 |
블랭크 마스크 및 이를 이용한 포토마스크
|
|
JP2025180397A
(ja)
|
2024-05-30 |
2025-12-11 |
信越化学工業株式会社 |
フォトマスクブランク
|