JP2005527700A - 有機物質でコーティングされた材料の表面をプラズマクリーニングするための方法、およびこの方法を実行するための装置 - Google Patents
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Abstract
Description
− 内部の圧力が10mbarから1barであり、且つ容量で少なくとも90%の酸素を含むガス流が供給される処理チャンバ内に、前記材料を導入する工程と、
− 前記材料の表面と誘電体で覆われた電極との間で放電を引き起こすことによりプラズマを形成し、それにより生成されたフリーラジカルO・の作用により前記有機物質を分解する工程とを含んでいる方法から成る。
− 放電を始めるために印加される電圧が正弦波であり、
− 材料が、走行するストリップの形態を成し、走行ストリップの経路に沿って連続的に配置された装置により様々な方法工程が連続的に行なわれ、
− 材料の一方の面が処理された後、他方の面が処理され、
− 処理される材料は、金属材料、好ましくは炭素鋼であり、
− この方法は、金属材料の表面を脱脂した後、この表面上にコーティングが付着されるために実行される。
小さなサイズ(20cm2から25cm2)のストリップに関して、静止モードで試験を行なった。コーティング前のクリーニング処理をシミュレートするために、脱脂を完了させる必要があったため、これらのストリップを保護オイル(Quaker ChemicalのTinnol 200(登録商標))でコーティングした。
アルミナから成る0.7mmの層で覆われた電極と、処理されるストリップがその上にわたって配置される接地金属電極とで構成される、誘電体バリア反応装置内で試験を行なった。アルミナで覆われた電極を高電圧(350Vから4400V)に接続した。中間周波数(3kHzから30kHz)正弦波発生器により高電圧を供給した。これらの2つの電極には、プラズマの動作中において、大気温度に近い温度に電極を維持することができる冷却システムを設けた。
186mg/m2の保護オイル層でコーティングされた2つの同一の炭素鋼ストリップを処理した。2つの処理に関する他のパラメータを同一にした。すなわち、
− 200mbarの酸素、
− 12kHzの正弦波電圧:3.6kV、電流:30mA、
− 電極間距離:5mm、
である。
− 領域A:放電が無く、あるいは、UV放射が加えられている。記録された強度は、バックグラウンドノイズに対応している。
− 領域B:UV放射を加えることなく、純粋な酸素中で放電が行なわれた。
− 領域C:放電以外に、253nmのUV放射が加えられた。
− 領域D:UV放射が維持されているが、放電が無い。
− 領域E:UV放射が停止され、バックグラウンドノイズが戻っている。
図5は、発光分光法を使用して、放電で加えられた電流の強度に伴って活性酸化種O・の密度が直線的に変化することを示している。
186mg/m2の保護オイルで覆われた20cm2のストリップを、本発明に係る方法によって処理した。この場合、350mbarの圧力の酸素流中で放電を開始した。再結合されたフリーラジカルO・から形成された酸素分子及び/又はオゾン分子は、再び解離されなかった。図6は、ストリップ上に存在する保護オイルのコーティング重量の変化を、電子線量It/S(すなわち、電子電流密度と処理時間との積)の関数として示している。酸素流を加えると、ストリップの処理を均一にすることができる。このことは、斜入射赤外線吸収分光法(IRRAS)により確かめられた。
Claims (13)
- 有機物質でコーティングされた材料の表面をクリーニングするための方法であって、
− 内部の圧力が10mbarから1barであり、且つ容量で少なくとも90%の酸素を含むガス流が供給される処理チャンバ内に、前記材料を導入する工程と、
− 前記材料の表面と誘電体で覆われた電極との間で放電を引き起こすことによりプラズマを形成し、生成されたフリーラジカルO・の作用により前記有機物質を分解する工程とを含んでいることを特徴とする、方法。 - 前記プラズマ中に生じたフリーラジカルO・の再結合によって形成された酸素分子及び/又はオゾン分子が、再解離されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記再解離が、適切な波長のUV放射によって行なわれることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- 放電を始めるために印加される電圧が、正弦波であり、10kHzから100kHzの周波数を有していることを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 放電におけるエネルギ散逸が、40W/cm2未満であり、放電を始めるために印加される電圧が、4.4kV未満であることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。
- 材料が、走行するストリップの形態を成し、走行ストリップの経路に沿って連続的に配置された装置により、様々な方法工程が連続的に行なわれることを特徴とする、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ストリップの一方の面が、処理された後、連続して他方の面が処理されることを特徴とする、請求項6に記載の方法。
- 処理される前記材料が、金属材料であることを特徴とする、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記金属材料が、炭素鋼であることを特徴とする、請求項8に記載の方法。
- 金属材料の表面が脱脂された後、前記表面上にコーティングが付着されるために行なわれることを特徴とする、請求項8または9に記載の方法。
- 請求項6から10のいずれか一項に記載の方法を実行するための装置であって、少なくとも1つのモジュールを備え、該モジュールが、処理チャンバ(2)と、前記チャンバ内の圧力を10mbarから1barの値に設定するための手段と、接地されたストリップ(4)を前記チャンバを通じて走行させるための手段(3)と、処理される前記ストリップ(4)の表面と対向するように配置され、且つ正弦波高電圧発生器(6)に接続されるとともに誘電体で覆われた一連の電極(5a、5b、5c、5d、5e、5f、5g)と、前記チャンバ(2)にガスを供給するための手段と、ストリップ(4)をコーティングする有機物質の分解によって生じるガスを前記チャンバから排気するための手段とを備えている、装置。
- 一連の偶数の前記モジュール(10、11、12、13)を備え、該モジュールを通じて前記ストリップ(14)が連続的に走行することにより、ストリップの一方の面が前記モジュール(10、11、12、13)の電極に晒されることを特徴とする、請求項11に記載の装置。
- 前記電極(5a、5b、5c、5d、5e、5f、5g)間に配置された、UV放射ランプ(7a、7b、7c、7d、7e、7f)を更に有していることを特徴とする、請求項11または12に記載の装置。
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